MgO 蒸镀设备1
蒸镀氧化铝
蒸镀氧化铝
蒸镀氧化铝是一种常见的材料处理技术，常用于制造电子元件、光学器件和装饰品等。
蒸镀是指在真空条件下，将金属或非金属材料加热蒸发，使其沉积在基底上形成薄膜的过程。
氧化铝是一种高硬度、高熔点的材料，具有良好的耐热性、耐腐蚀性和光学性能，因此被广泛应用于蒸镀领域。
蒸镀氧化铝的过程通常包括以下步骤：
1. 准备基底：首先需要准备一个干净、平整的基底，通常使用玻璃或金属作为基底材料。
2. 真空处理：将基底放入真空室内，抽真空以去除基底表面的氧气和水分，避免氧化和污染。
3. 蒸发氧化铝：将氧化铝材料放入蒸发源中，加热蒸发，使其沉积在基底上形成薄膜。
4. 控制厚度：通过控制蒸发时间和速度，可以控制氧化铝薄膜的厚度和均匀性。
5. 后续处理：蒸镀完成后，需要对氧化铝薄膜进行后续处理，如退火、蚀刻等，以提高其性能和可靠性。
需要注意的是，蒸镀氧化铝需要在真空条件下进行，因此需要使用专门的设备和技术，以确保蒸镀过程的顺利进行和蒸镀产品的质量。
蒸镀机操作手册
按下停机按钮 切断电源
穿戴防护服 预防化学物质伤害
保持设备清洁 减少事故发生
● 06
第6章 蒸镀机操作手册总结
操作技巧总结
熟练掌握蒸镀机操作技巧可以提高工作效率、 延长设备寿命。正确的操作方式能够有效避免 设备故障，保持生产效率稳定。在操作过程中 要注意细节，确保每一个步骤都按照标准流程 进行。
准备工作
在操作蒸镀机前，需要进行系统开机检查，确 保所有设备正常工作；同时要对真空泵进行抽 空，以确保腔体内的真空度符合要求；最后需 要装载材料到蒸镀机内部，确保准备工作齐全。
操作步骤
设定蒸发功率
开始蒸发
调整蒸镀机的功率，以满足 蒸发材料的需求
启动蒸镀机，让材料开始蒸 发并沉积在目标表面上
调节腔体压力
蒸镀机工作原理
加热材料 将材料加热至蒸发温度
真空蒸发 通过真空系统将蒸发的物质沉 积到基材表面
蒸镀机特点
高效性能
01 快速蒸镀过程
广泛应用
02 适用于多种材料
稳定性强
03 镀膜均匀稳定
蒸镀机与其他镀膜设备对比
蒸镀机 工作原理简单 操作便捷
溅射镀膜设备 膜层均匀度高 成本较低
离子镀膜设备 膜层致密度高 生产效率高
操作技巧总结
注意细节
延长寿命
每个步骤都要按标准流程进 行
熟练掌握技巧有助设备长久 使用
保持稳定 正确操作可维持生产效率
提高效率 有效操作可提高工作效率
操作经验分享
多年的操作经验积累，有助于准确识别故障、 快速处理问题。通过分享经验，可以帮助新手 更快速上手，提高整体团队的操作水平。在操 作过程中要注意观察，及时处理异常情况，确 保设备稳定运行。
蒸镀工艺流程
蒸镀工艺流程一、蒸镀工艺概述蒸镀工艺是一种在材料表面形成金属镀层的技术。
它通过在高温条件下将金属材料蒸发，并在物体表面冷凝形成金属镀层。
蒸镀工艺具有镀层均匀、附着力强、利用率高等优点，被广泛应用于电子、光学、装饰等领域。
二、蒸镀设备和材料准备蒸镀设备主要包括真空蒸镀机、真空泵、加热系统、控温系统和监测设备等。
在进行蒸镀之前，需要准备以下材料：基材、蒸镀源（金属材料）、辅助材料（如靶材、观测材料）。
三、蒸镀工艺步骤3.1 清洗基材为了保证镀层的附着力，需要对基材进行清洗。
清洗的方法包括机械清洗、化学清洗等。
清洗过程中应注意去除基材表面的油污、灰尘等杂质。
3.2 安装蒸镀源将金属材料作为蒸镀源安装在蒸镀设备中的蒸镀舟上。
金属材料的选择应根据镀层要求来确定，常用的金属材料有铝、铜、银、金等。
3.3 真空抽取将蒸镀设备中的空气抽取出来，建立真空环境。
真空抽取的目的是为了消除气体分子对镀层质量的影响，提高蒸发源的蒸发速率。
3.4 加热通过加热系统提供热能，使蒸发源中的金属材料升温并蒸发。
加热温度的选择应根据金属材料的蒸发温度来确定，一般需达到材料的沸点以上。
3.5 监测蒸镀速率通过监测设备对蒸发源中金属材料的蒸发速率进行实时监测。
根据所需镀层的厚度，调节蒸发速率，控制蒸镀过程中金属材料的蒸发量。
3.6 底漆处理在进行蒸镀之前，可以先在基材上涂上一层底漆，以提高镀层的附着力和光学性能。
3.7 开始蒸镀蒸镀过程中，蒸发源中的金属材料会蒸发并在基材表面冷凝形成金属镀层。
根据需要，可以进行多次蒸镀，以增加镀层的厚度。
3.8 辅助材料处理在蒸镀过程中，可以使用靶材或观测材料来调节镀层的成分或监测镀层的质量。
3.9 冷却蒸镀完成后，需要对基材和蒸镀设备进行冷却。
冷却过程应缓慢进行，避免温度变化对镀层产生影响。
四、蒸镀工艺控制要点4.1 温度控制蒸镀过程中的温度控制非常重要，温度过高会导致镀层气孔、气泡等缺陷，温度过低则会影响蒸发速率和镀层的均匀性。
高真空蒸发镀膜设备工作原理
高真空蒸发镀膜设备工作原理
高真空蒸发镀膜设备是一种常用的表面处理设备，它可以在物体表面形成一层薄膜，以改变物体的性质和外观。
该设备的工作原理是利用高真空环境下的物理过程，将金属材料蒸发成气体，然后在物体表面沉积形成薄膜。
高真空蒸发镀膜设备主要由真空室、加热源、蒸发源、控制系统等组成。
首先，将待处理的物体放入真空室中，然后将真空室抽成高真空状态，以确保蒸发源和物体表面之间没有气体分子的干扰。
接下来，加热源开始加热蒸发源，使其内部的金属材料蒸发成气体。
蒸发源内的金属材料可以是铜、铝、银、金等常见的金属材料。
蒸发源内的金属材料蒸发成气体后，会在真空室中扩散并与物体表面相遇。
由于物体表面温度较低，气态金属材料会在表面凝结成固态薄膜。
这个过程称为沉积。
沉积的薄膜可以是金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜等不同种类的薄膜。
在高真空蒸发镀膜设备中，控制系统起着重要的作用。
它可以控制真空室的抽气速度、蒸发源的加热温度、沉积时间等参数，以确保薄膜的质量和厚度符合要求。
此外，控制系统还可以监测真空室内的气体压力、温度等参数，以确保设备的安全运行。
总的来说，高真空蒸发镀膜设备是一种高精度、高效率的表面处理设备。
它可以在各种材料的表面形成不同种类的薄膜，以满足不同的应用需求。
在未来，随着科技的不断进步，高真空蒸发镀膜设备将会得到更广泛的应用。
表面处理蒸镀机备件list
원산지 产
비 고 备
蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀 蒸镀
B B B B B B B B B B B B B B B B B B B B B B
碳粉 电极 铝板 真空脂 D/P OIL 铝板螺母 铝板螺母 铝板螺母 BOLT BOLT BOLT PLASMA BAR 密封圈 硅油（MONOMER） 铝板压条 铜板压条 O-RING(铝板) 绝缘垫 高真空感应器（#1） 高真空感应器（#5） MO SPRAY SHILED CLAMP
哈呐机电
韩国真空
MUSTANG
小计
￥0
Beijing Samlip Spare Part List 蒸镀消耗品（ treating） 蒸镀消耗品（surface treating）
2009.09.08 공정 工 설 비 명 유 형 设 备 类 부 품 명 단 가 賈 규 격 规 格 주 기
编制 审批
-90 -35 -54 -3 -40 -950 -800 -700 -1950 -5800 -1900 -18 4 -7 -20 -20 -20 -20 -1 -1 -100 -300
KOREA USA CHINA JAPAN USA CHINA CHINA CHINA CHINA CHINA TAIWAN TAIWAN TAIWAN KOREA KOREA KOREA KOREA KOREA KOREA KOREA KOREA
20EA/1年 备用 备用 备用 备用 备用 备用 备用 备用 备用 备用
100 40 60 4 50 1000 1000 1000 2000 6000 2000 20 5 10 20 20 20 20 1 1 100 300
三氧化钼蒸镀参数
三氧化钼蒸镀参数
在真空蒸镀三氧化钼之前，需要确保样品表面干净，去除任何可能干扰蒸镀过程的杂质。
为此，可以使用一些去污剂和溶剂，如酒精、甲醇、乙酸、氨水等。
清洁表面的方法包括喷洒、浸泡、喷气等。
以下是一份关于三氧化
钼蒸镀参数的总结：
1. MoO3层厚度为10nm，使用热蒸镀制备，因为三氧化钼具有熔点低的
特点。
2. 为了保证电极的电学性能以及机械可靠性，铝电极厚度为120nm。
3. 在蒸镀电极时，首先将玻片四周上的薄膜刮去，露出玻片上的图案化ITO，再将玻片对齐固定在掩模版上，放入真空仓中。
4. 真空仓内真空度到达104mBar后再开始蒸镀电极。
首先以/s的速率蒸镀MoO3，达到10nm后切换蒸发源，以1A/s的速率蒸镀金属铝。
随铝电极厚度增加，可稍微调高蒸镀速率以节省蒸镀时间，达到120nm厚度后停止蒸镀完成镀膜。
以上信息仅供参考，如有需要建议咨询相关材料学专家或查阅专业书籍文献。
真空蒸镀概述
真 空 蒸 镀 原 理
1. 真空蒸发镀膜的三种基本过程：
① 热蒸发过程 ② 气化原子或分子在蒸发源与基片之间的输运，即这 2. 些粒子在环境气氛中的飞行过程。
③ 蒸发原子或分子在基片表面上的淀积过程，即是蒸气凝聚、成核、核生长、形成连续 薄膜。
3. 真空蒸镀的优缺点：
4. 优点：是设备比较简单、操作容易；制成的薄膜纯 度高、质量好，厚度可较准确控制； 成膜速率快、效率高；薄膜的生长机理比较单纯。
膜厚的测量方法
介绍以下几种方法
○ 称重法：微量天平法、石英晶体振荡法 ○ 电学方法：电阻法、电容法、电离式监控计法 ○ 光学方法：光吸收法、光干涉法、等厚干涉条纹法
(1)触针法：差动变压器法、阻抗放大法、压电元件法
称重法:微量天平法
原理：是将微量天平设置在真空室内，把蒸镀的基
片吊在天平横梁的一端，测出随薄膜的淀积而产生
触针测厚计的传感器 差动变压器法；(b)阻抗法
(b) 阻抗放大法
由于触针上下运动使电感器的间隙d发生相 应的变化时，感抗随之变化，导至线圈阻抗 改变。再利用放大电路放大并显示该阻抗的 变化量，即可表征触针上下运动的距离。
电阻蒸发源
○ 采用钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料， 让电流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入 Al2O3、BeO 等坩埚中进行间接加热蒸发 。
电子束蒸发源
将蒸发材料放入水冷铜坩埚中，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结 在基板表面成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。
测量的薄膜膜厚t为：
触针法
(a) 差动变压器法
原理:在针尖上镶有曲率半径为几微米的蓝宝石或金刚石的触针，使其在薄膜表面上移动时，由 于试样的台阶会引起触针随之作阶梯式上下运动。再采用机械的、光学的或电学的方法，放大触 针所运动的距离并转换成相应的读数，该读数所表征的距离即为薄膜厚度。
蒸镀机蒸镀工艺流程
蒸镀机蒸镀工艺流程英文回答：The process of steam plating involves several steps to achieve a desired coating on a substrate. Here is a general outline of the steam plating process:1. Cleaning and preparation: The substrate to be coated is thoroughly cleaned to remove any dirt, grease, or other contaminants. This is usually done using a combination of chemical cleaning agents, ultrasonic cleaning, and rinsing with deionized water.2. Pre-treatment: After cleaning, the substrate may undergo pre-treatment processes such as surface activation or etching to improve adhesion between the substrate and the coating. This step is crucial for ensuring a durable and uniform coating.3. Loading the substrate: The cleaned and pre-treatedsubstrate is loaded onto a fixture or rack, which is then placed inside the steam plating chamber. The fixture should be designed to ensure proper spacing between substrates to allow for even distribution of the coating.4. Evaporation: The steam plating process involves the evaporation of a metal or alloy source material. This source material is heated to a high temperature, causing it to vaporize and form a cloud of metal atoms or ions in the chamber.5. Deposition: The vaporized metal atoms or ions then condense onto the surface of the substrate, forming a thin film coating. The deposition process can be controlled by adjusting factors such as temperature, pressure, and deposition time to achieve the desired coating thickness and properties.6. Cooling and solidification: Once the desired coating thickness is achieved, the substrate is cooled to allow the deposited metal to solidify and bond with the surface. This step is important for ensuring the adhesion and integrityof the coating.7. Unloading and post-treatment: After cooling, the coated substrates are unloaded from the steam plating chamber. Depending on the specific requirements, additional post-treatment processes such as annealing or surface finishing may be performed to further enhance theproperties of the coating.中文回答：蒸镀机蒸镀工艺流程包括多个步骤，以实现对基材的理想涂层。
蒸镀mask的作用
蒸镀mask的作用
蒸镀mask是一种常见的表面处理技术，其作用主要有以下几个
方面：
1. 防腐蚀，蒸镀mask可以在金属表面形成一层保护膜，防止
金属与外界环境中的氧气、水、盐等物质发生化学反应，从而减缓
或阻止金属的腐蚀和氧化。
2. 提高表面硬度，蒸镀mask可以在金属表面形成一层坚硬的
保护层，提高金属的硬度和耐磨性，延长其使用寿命。
3. 改善外观，蒸镀mask可以使金属表面呈现出不同的颜色和
光泽，美化产品外观，提高产品的附加值。
4. 电磁屏蔽，蒸镀mask可以在电子产品中起到屏蔽电磁干扰
的作用，提高产品的抗干扰能力，保障产品的稳定性和可靠性。
5. 增强焊接性能，蒸镀mask可以在焊接过程中起到保护作用，防止金属表面氧化和污染，提高焊接接头的质量和可靠性。
总的来说，蒸镀mask在金属制品的生产加工过程中起到了非常重要的作用，不仅可以提高产品的质量和性能，还可以改善产品的外观和附加值，因此被广泛应用于各种工业领域。
蒸镀机原理和基本工作流程
蒸镀机原理和基本工作流程
蒸镀机是一种常用于表面处理的设备，其原理主要是利用高温蒸汽将金属或其他物质蒸发成气体，然后沉积在待处理物体表面，形成一层均匀的薄膜。
蒸镀机在电子、光学、玻璃等工业领域有着广泛的应用。
蒸镀机的基本工作流程可以分为以下几个步骤：真空抽气、加热蒸发、沉积镀膜、冷却凝固和排气释放。
首先是真空抽气阶段，蒸镀机在工作前需要将工作室内部抽成真空状态，以确保蒸发材料能够自由蒸发并沉积在待处理物体表面。
然后是加热蒸发阶段，将蒸发源加热至一定温度，使其蒸发成蒸气。
蒸发源可以是金属块、合金丝等，根据需要选择不同的蒸发源材料。
接下来是沉积镀膜阶段，蒸发的金属蒸汽在真空室内沉积在待处理物体表面，形成一层均匀的薄膜。
冷却凝固阶段是为了使沉积在表面的薄膜迅速冷却凝固，从而保证薄膜的质量和稳定性。
最后是排气释放阶段，将真空室内的残余气体排出，释放压力，完成整个蒸镀过程。
蒸镀机的原理是利用热蒸发的方法，在真空环境下将金属或其他物质蒸发成气体，然后沉积在待处理物体表面。
蒸镀技术可以实现金属镀膜、陶瓷镀膜、光学薄膜等多种功能性镀膜，提高材料的表面硬度、耐磨性、光学性能等。
蒸镀机的基本工作流程是依靠真空技术和热蒸发技术实现的，通过不断优化和改进设备结构和工艺参数，可以实现更高效、更稳定的蒸镀过程，满足不同行业的表面处理需求。
在未来，随着材料科学和工艺技术的不断发展，蒸镀技术将在更多领域展现出其独特的优势和应用前景。
蒸镀机原理
蒸镀机原理蒸镀机是一种广泛应用于电子、光学、机械等行业的表面处理设备，其主要原理是利用物质在高温下的蒸发和凝华过程，将金属或非金属材料蒸发后沉积在基材表面，形成一层薄膜。
这种薄膜不仅可以提供美观的外观效果，还可以改善材料的性能，如增强硬度、耐腐蚀性等。
蒸镀机的主要组成部分包括真空腔体、加热系统、蒸发源、基材架和控制系统等。
在操作过程中，首先将基材放置在基材架上，然后启动真空系统，将腔体内的气体抽出，以达到所需的高真空环境。
接下来，通过加热系统加热蒸发源，使其达到蒸发温度。
蒸发源可以是金属块或化合物，其选择取决于所需的薄膜材料。
当蒸发源达到蒸发温度时，蒸发物质开始蒸发，形成蒸汽。
蒸汽在真空环境中自由运动，当蒸汽与基材接触时，由于基材表面的冷却效应，蒸汽会凝华成固体颗粒，并沉积在基材表面。
这个过程称为蒸发沉积，也是蒸镀机的核心原理。
沉积在基材表面的薄膜会逐渐增厚，直到达到所需的厚度。
为了控制薄膜的厚度，可以通过调节蒸发源的温度、蒸发时间和基材架的旋转速度等参数来实现。
蒸镀机的薄膜质量受到多种因素的影响。
首先，蒸发源的纯度和稳定性对薄膜的质量有很大影响。
高纯度的蒸发源可以减少杂质的混入，提高薄膜的纯度。
其次，蒸发源与基材之间的距离和角度也会影响薄膜的均匀性。
如果距离太远或角度不合适，蒸汽在运动过程中会发生散射，导致薄膜厚度不均匀。
此外，基材的表面处理和清洁也对薄膜质量起着重要作用。
在蒸镀之前，通常需要对基材进行去污和除气处理，以确保薄膜与基材之间的粘附力。
蒸镀机的应用十分广泛。
在电子行业中，蒸镀技术可以用于制备集成电路、显示屏、太阳能电池等器件中的金属导电层和反射层。
在光学行业中，蒸镀技术可以用于制备镜片、透镜和滤光片等光学元件的反射和抗反射膜。
在机械行业中，蒸镀技术可以用于改善零件的耐磨性和耐蚀性，延长其使用寿命。
蒸镀机通过蒸发和凝华的过程，在基材表面形成一层薄膜。
它的原理简单而有效，可以应用于各个行业，为材料提供多种功能和性能的改善。
蒸镀机原理和基本工作流程
蒸镀机原理和基本工作流程蒸镀机是一种常用的表面处理设备，主要用于在材料表面涂覆一层金属薄膜，以改善材料的表面性能和外观。
蒸镀技术是利用电子束或热阴极等方式将金属材料加热至一定温度，使其蒸发成蒸汽，然后在真空环境下沉积在待处理材料表面上。
下面将介绍蒸镀机的原理和基本工作流程。
蒸镀机的原理主要包括蒸发源、真空系统和基底加热系统。
蒸发源是将金属材料加热至蒸发温度的装置，通常采用电子束或热阴极来提供能量。
真空系统用于创造高度真空的环境，以确保金属材料蒸发后能够在无氧环境下沉积在基底表面。
基底加热系统则用于加热待处理材料，以提高金属薄膜的附着力和致密性。
蒸镀机的基本工作流程如下：首先，将待处理材料放置在真空腔室内，并通过真空系统将腔室抽成高度真空。
然后，通过蒸发源加热金属材料，使其蒸发成蒸汽。
蒸汽在真空环境中扩散并沉积在待处理材料表面上，形成金属薄膜。
同时，通过基底加热系统加热待处理材料，以提高金属薄膜的附着力和致密性。
整个过程需要控制蒸发源的温度、真空度和沉积时间等参数，以确保薄膜的质量和厚度符合要求。
蒸镀机在实际应用中具有广泛的用途，可以用于制备导电膜、防腐蚀膜、装饰膜等不同类型的功能薄膜。
通过控制不同金属材料的蒸发源和沉积条件，可以实现对薄膜成分、结构和性能的精确调控。
因此，蒸镀技术在电子、光学、材料等领域都有重要应用，为改善材料性能和拓展新功能提供了有效手段。
蒸镀机是一种重要的表面处理设备，通过将金属材料蒸发成蒸汽并沉积在待处理材料表面上，实现了对薄膜成分、结构和性能的精确控制。
蒸镀技术在电子、光学、材料等领域具有广泛应用前景，为材料表面改性和功能化提供了重要技术支持。
希望本文对蒸镀机的原理和工作流程有所了解，并能为相关领域的研究和应用提供参考。
蒸镀机操作手册
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检查：定期检查设备的各项功能是 否正常
记录：对设备的维护保养情况进行 记录，方便追踪管理
定期保养
清洁机器表面，保持干燥整洁
检查电线、插头和开关是否正 常
定期更换滤网和密封圈
按照制造商的推荐使用润滑油 和清洁剂
常见故障排除
蒸镀机无法启动： 检查电源是否正 常，检查电机是 否损坏
蒸镀机运行不稳 定：检查气路是 否畅通，检查加 热元件是否正常
定期对蒸镀机进行全面检查和维护， 确保设备稳定可靠。
蒸镀机安全操作规 范
安全操作规程
操作前检查：确认蒸镀机是否正常，周围环境是否安全 操作中注意事项：避免触碰高温部位，按照规定时间进行操作 操作后维护：定期检查设备，保持清洁 异常处理：发现异常情况立即停机，联系专业人员进行检查维修
安全防护措施
放置待蒸镀材料，调整位置
打开电源，启动蒸镀机
打开加热装置，设定温度和 时间
打开气体供应，调整流量和 压力
关机操作流程
关闭电源开关 关闭水源 关闭气源 清理机器表面及周围环境
蒸镀机维护保养
日常保养
清洁：定期清洁蒸镀机表面，保持 设备整洁
润滑：定期对设备进行润滑，保证 设备运行顺畅
添加标 保持对蒸镀机最 新技术和安全规 定的了解。
操作记录与报告
操作前检查：确认设备正 常，准备好所需材料
操作过程：按照手册步骤 进行操作，注意安全
操作后检查：确认设备正 常，清理现场
异常处理：遇到问题及时 报告，按照手册处理
蒸镀机性能参数与 规格
主要性能参数
蒸镀机型号：具 体型号
THANK YOU
汇报人：
湿度：相对湿度 应保持在50%70%之间
蒸镀设备国内外对比
蒸镀设备国内外对比1. 简介蒸镀设备是一种常用的表面处理设备，用于在物体表面形成一层薄膜。
蒸镀技术被广泛应用于电子、光学、化工等领域。
本文将对国内外蒸镀设备进行比较，包括技术特点、应用领域、市场规模等方面。
2. 技术特点对比2.1 国内蒸镀设备技术特点国内蒸镀设备的技术特点主要有以下几点：•多种蒸镀方式：国内蒸镀设备主要采用电子束蒸镀、溅射蒸镀和磁控溅射蒸镀等多种蒸镀方式。
这些方式可以满足不同材料和膜层厚度的需求。
•自动化程度高：国内蒸镀设备普遍采用全自动控制系统，能够实现膜层厚度、均匀性的在线监测和控制。
•膜层质量好：国内蒸镀设备在膜层质量方面有一定的优势，能够实现高质量的薄膜沉积，具有较高的抗腐蚀性和附着力。
2.2 国外蒸镀设备技术特点国外蒸镀设备的技术特点相对于国内有以下几个方面的差异：•多层蒸镀技术：国外蒸镀设备普遍采用多层蒸镀技术，可以在一个设备中实现多层膜的沉积，提高生产效率。
•高真空技术：国外蒸镀设备在高真空技术方面有较大的优势，能够实现更高的沉积速率和更好的膜层质量。
•多功能蒸镀设备：国外蒸镀设备不仅可以进行传统的金属蒸镀，还可以用于有机材料的蒸镀，如聚合物、有机薄膜等。
3. 应用领域对比3.1 国内蒸镀设备应用领域国内蒸镀设备主要应用于以下几个领域：•电子行业：国内蒸镀设备在电子行业中应用广泛，用于制备集成电路、显示屏、光学薄膜等。
•光学行业：国内蒸镀设备在光学行业中也有重要应用，用于制备反射镜、透镜等光学元件。
•化工行业：国内蒸镀设备在化工行业中主要用于制备防腐蚀涂层、防划伤涂层等。
3.2 国外蒸镀设备应用领域国外蒸镀设备应用领域相对较广，主要包括以下几个方面：•电子行业：国外蒸镀设备在电子行业中应用广泛，特别是在集成电路、光学器件、光伏电池等领域。
•光学行业：国外蒸镀设备在光学行业中的应用更为广泛，用于制备各种光学薄膜、光学镀膜等。
•材料科学：国外蒸镀设备在材料科学领域有较大的应用潜力，用于制备新型功能材料、纳米材料等。
真空蒸镀的原理
真空蒸镀的原理嘿，朋友们！今天咱来聊聊真空蒸镀这玩意儿。
你说这真空蒸镀啊，就像是一位神奇的魔法师！想象一下，在一个真空的环境里，各种材料就像一群小精灵，欢快地跳动着。
它们被加热到一定温度后，就会变成气态，然后呢，就像有一双无形的手，把这些气态的材料轻轻地放置在我们需要的地方，形成一层薄薄的膜。
这是不是很神奇呢？你看啊，这真空蒸镀就跟咱平时做饭有点像。
做饭的时候，我们把食材准备好，通过各种烹饪方式让它们变成美味的菜肴。
真空蒸镀也是这样，那些材料就是食材，而真空环境和加热等操作就是烹饪方式，最后得到的膜就是那道美味的“菜肴”啦！这其中的原理可复杂着呢，但咱可以简单理解一下。
就好比我们要给一个东西穿上一件特别的衣服，这件衣服得非常薄，还得贴得紧紧的。
真空蒸镀就能做到这一点呀！它能让那些材料乖乖地附着在物体表面，形成一层均匀又漂亮的膜。
比如说，我们的手机屏幕，很多就是通过真空蒸镀来处理的呢。
这层膜可以让屏幕更加清晰、更加耐磨，就像给手机屏幕穿上了一层坚固的铠甲。
还有那些漂亮的金属饰品，说不定也是真空蒸镀的杰作呢！它能让金属变得更加闪亮，更加吸引人的眼球。
真空蒸镀的应用可广泛啦，在电子、光学、装饰等好多领域都能看到它的身影。
它就像一个无处不在的小助手，默默地为我们的生活增添着光彩。
咱再想想，如果没有真空蒸镀，那我们的生活得失去多少精彩呀！那些高科技的产品可能就没那么酷炫了，那些漂亮的装饰可能也没那么耀眼了。
所以说呀，真空蒸镀可真是个了不起的技术呢！总之呢，真空蒸镀就是这么神奇又有趣。
它在我们看不到的地方默默工作，却给我们的生活带来了巨大的改变。
让我们一起为这个神奇的技术点赞吧！。
蒸镀工艺流程
蒸镀工艺流程蒸镀工艺是常用于表面处理的一种方法，主要用于制造高档产品的表面装饰或提高产品的耐磨性、耐腐蚀性等性能。
下面将为大家介绍一下蒸镀工艺的具体流程。
首先，在蒸镀工艺之前，需要对要进行蒸镀的工件进行准备工作。
通常情况下，工件表面需要进行打磨、除油和清洗等处理，以确保表面的平整度和净度，以便于蒸镀过程的顺利进行。
接下来，将经过准备的工件放置在蒸镀设备中，这个设备通常包括一个真空腔室和一个电源系统。
首先，通过抽气系统将腔室内的空气抽取出来，形成一定的真空度。
在腔室内形成的真空度非常重要，因为它可以确保在蒸镀过程中工件表面不会与空气中的氧气、水蒸气等接触，从而避免氧化和污染。
当腔室内达到所需的真空度后，通过电源系统将蒸镀材料进行加热，使其蒸发并形成气态。
蒸镀材料通常是一些具有较高蒸发温度的金属或化合物，如银、铜、铝等。
在加热的过程中，蒸发材料会逐渐变成气态，然后通过腔室内的真空环境，沉积到工件表面上。
蒸镀材料从气态到固态的过程是一个凝聚的过程，也就是说，蒸发材料从气体状态转变成固体状态，将沉积到工件表面。
这种凝聚的过程可以形成一层均匀的薄膜，称为蒸镀层。
蒸镀层的厚度可以通过调节蒸镀温度、蒸镀时间和蒸镀速度等因素来控制。
蒸镀过程中，为了保证蒸镀层的质量和均匀度，通常还会采取一些辅助措施。
例如，可以在蒸发材料中加入一些激发剂，以提高蒸镀效果和均匀度。
另外，在蒸镀过程中，还可以通过旋转或倾斜工件，以使蒸镀层更加均匀。
最后，在完成蒸镀过程后，还需要对工件进行后续处理。
例如，可以对蒸镀层进行清洗、抛光、检验等工序，以确保蒸镀层的质量和使用性能。
总结起来，蒸镀工艺的流程包括工件准备、真空抽气、加热蒸发蒸镀材料、蒸镀层凝聚、辅助措施和后续处理等步骤。
通过严格控制每个步骤的参数和条件，可以获得高质量的蒸镀层，达到预期的表面效果。
蒸镀工艺在各种工业领域和科研领域都得到了广泛应用，为制造业的发展和进步做出了重要贡献。
蒸镀氟化镁的作用
蒸镀氟化镁的作用蒸镀氟化镁是一种常用的镀膜工艺，可以在金属表面形成一层氟化镁薄膜，起到保护和改良表面性能的作用。
本文将从原理、工艺流程、优点和应用领域等方面介绍蒸镀氟化镁的作用。
一、蒸镀氟化镁的原理蒸镀氟化镁的原理是利用高温下氟化镁固体物质的蒸汽在金属表面凝结形成氟化镁薄膜。
在高温蒸镀过程中，氟化镁固体经过加热，转变为气态，然后通过真空系统输送到被镀物表面，在表面冷却后凝结成薄膜。
薄膜的形成主要是由于氟化镁固体物质的热蒸汽在金属表面冷却后重新凝结。
二、蒸镀氟化镁的工艺流程蒸镀氟化镁的工艺流程主要包括材料准备、真空蒸镀、冷却和固化等步骤。
首先，需要将氟化镁固体物质加热至一定温度，使其转变为气态。
然后，将氟化镁蒸汽输送到被镀物表面，使其在表面冷却后凝结成薄膜。
最后，经过冷却和固化处理，薄膜形成并附着在被镀物表面。
1. 保护作用：蒸镀氟化镁薄膜可以有效保护金属表面免受氧化、腐蚀、磨损和划伤等外界环境的侵蚀。
氟化镁薄膜具有较高的硬度和耐磨性，能够增加金属表面的抗磨性能，延长其使用寿命。
2. 改良作用：蒸镀氟化镁薄膜可以改良金属表面的摩擦系数、表面粗糙度和润滑性能等。
氟化镁薄膜具有低摩擦系数和良好的润滑性，可以减少金属表面的摩擦损失，提高机械设备的运行效率。
3. 附着力增强：蒸镀氟化镁薄膜可以增强金属表面的附着力，提高涂层与基材的结合强度。
氟化镁薄膜具有良好的附着力和结晶性，能够牢固地附着在金属表面，不易脱落。
4. 阻隔作用：蒸镀氟化镁薄膜具有较好的气体和液体阻隔性能，可以阻隔外界对金属表面的侵蚀和污染。
氟化镁薄膜具有较高的阻隔系数，能够有效防止气体和液体的渗透，保护金属表面的完整性和稳定性。
四、蒸镀氟化镁的优点1. 环保性：蒸镀氟化镁工艺过程中无需使用有机溶剂和重金属等有害物质，对环境无污染。
2. 薄膜均匀性好：蒸镀氟化镁薄膜均匀性好，能够覆盖复杂形状的金属表面。
3. 成本低廉：蒸镀氟化镁工艺简单，设备投资和生产成本相对较低。
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设备示意图举例（ECH-240L） 主要组成：（1）真空腔室系统，（2）移载系统，（3）加热系统， （4）蒸镀源系统（5）电源系统，（6）基板移载和卸载工位， （7）返回传送带，（8）提升机，（9）抽气系统，（10）内部工装 系统，（11）控制系统，（12）测量系统，（13）气体加入系统， （14）压缩空气系统，（15）冷却水系统。
Sample stage size Stage movement
Number of points for automatic m ulti-point measurement
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X : 200 mm, programmable Y : 200 mm, programmable Theta : 360º (Option : programmable) 200 max. Top-view (low-magnification) camera : 10 mm field of view Side-view (high-magnification) camer a : 1 mm field of view Microsoft Windows XP (English-langua ge version)
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5.工艺过程简介
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11、膜厚检测仪
Vertical resolutions/measurement ranges Measured lengths Maximum number of sampling da ta items Stylus pressure 1Å / 65KÅ 10Å / 655kÅ 40Å / 2620kÅ 50μm to 50mm (option : 100 mm) 30,000 1mg to 15mg (option : 0.03 mg) 210 mm diameter
COC用MgO膜的制备设备
黄友兰 技术质量部
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提纲
厂家介绍 COC用设备介绍 GPCS介绍 마스터 제목 设备周末维护介绍 편집 工艺过程简介
스타일
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(一)、厂家介绍
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4.设备周末维护介绍
由于在蒸镀过程中，氧化镁颗粒同时也会沉积在蒸镀室内表 面，而氧化镁薄膜具有较强的吸附能力，从而导致蒸镀室的 本底真空度达不到工艺要求。为此，需要在蒸镀室内表面安 装一层可更换的防护板，定期对防护板进行更换，并对更换 下来的防护板进行清洗 。
本设备对于最大基板100英寸、膜厚度800nm的标准， 可以连续运转2周左右。
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4、Pierce电子枪系统
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电子枪的组成：灯丝；阴极；阳极；聚焦组件；扫描组件；偏转组件
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经营内容
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显示器、半导体、电子、电气、金属、机械、汽车、化学、 食品、医药品产业界所需要的；及面向大学与研究所的真空 装置；外围设备；真空元件的开发、制造、销售、客户支持 以及各类机械的进出口。 此外，还包括所有真空技术的研究指导、技术顾问。
日本国内专利475项，实用新案例12项； 美国67项；英国13项；德国21项；法国12项；荷兰13项；瑞士6项； 韩国13项；中国40项
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6、蒸镀室系统
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(二)、COC用设备详细介绍
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卷取式溅镀装置
单腔式/装载锁住溅镀装置
刻蚀装置
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碳纳米管生长实验装 置
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真空泵·真空排气装置·真空机械
干泵
罗兹泵
油旋片式真空泵
涡轮分子泵
阀门
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气体分析仪 真 空计 检 漏仪 电源 膜厚测量仪
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ULVAC公司等离子电视用氧化镁蒸镀设备ECH系列 的特征：
对大型基板均匀镀膜 高速成膜、高吞吐量
마스터 제목 스타일 能够配合成批的批量生产 缩短维护时间及待机时间 편집
能够长时间连续稳定运转
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Sample observation
Operating environment
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Thank you
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COC用设备型号:ECH－240L型 生产厂商：ULVAC（日本真空株式会社）
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公司名称 商 标 创业日期 法人代表 资 本 金 员工人数
ULVAC, Inc. ULVAC 1952年8月23日 董事长总经理 中村 久三 134亿6,779万7,500日元（至2004年12月） 1,201名（至2004年7月）
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3、主要性能参数
机型 Size Tact Time 标准膜厚 膜厚分布 基板加热 ECH-240L 50”X6、42”X8、Max.100寸 100sec 800nm ±7%
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250℃ 连续运转时间 周末维护时间 2周（288hrs） 24hrs
所获专利
说明
产品以真空设备为主，涵盖半导体、平面显示器、消费性电 子、机械及食品医药等产业，是日本最大的真空设备制造商
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真空装置
溅镀装置
CVD装置
有机EL成膜装置
镀金属装置
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离子注入装置 溅镀装置 研究开发用溅镀装 置
真空感应熔炼炉
4）由于灯丝发射组件的一体化，使得更换灯丝比较容易，可在20min内 更换灯丝；
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5）灯丝阴极可以自动除气，保证了灯丝和阴极表面状况的稳定性。
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5、基板前进方向
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8、ECH-240L排气系统参考图
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3.GPCS介绍
控制系统（GPCS-2700）采用序列器（单片机）和 工厂计算机，配备标准功能，包括图像监控、进 程数据监控、进程编辑、沉积数据记录以及报警 功能。
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电子枪型号： UPG－20（两点式）
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灯丝安 装部位
阴极
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电子枪型号： UPG－20（两点式）
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Pierce电子枪的优点：
1）可以改变电子束的位置、形状以及入射的角度，可以防止蒸发时产生 溅射现象； 2）在2×10－2 Pa的氧氛条件下，灯丝的使用寿命不低于150H； 3）在蒸镀室和电子枪室中间有门阀，可以在蒸镀室为真空的条件下更换 灯丝；
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1、ECH-240L主要组成部分
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2014年1月24日星期五2时21分58秒Biblioteka P－마스터 제목 스타일 편집
采用并列式通过镀膜方式：基板放在托架上、在蒸发源上一边通 过一边镀膜的方式。