uv知识点
遥感导论知识点总结
遥感导论知识点小结1.遥感技术系统的组成被测目标的信息特征、信息的火枪、信息的传输与记录、信息的处理和信息的应用。
2.遥感的类型1)按遥感平台分为地面遥感、航空遥感、航天遥感;2)按工作方式分为主动遥感和被动遥感;3)按探测波段分为:紫外遥感(0.3-0.4);可见光(0.4-0.7);红外(0.7-14mm );微波(0.1-100cm)等。
3.遥感技术的特点大面积的同步观测、时效性、数据的综合性和可比性、经济性、局限性。
4.电磁波的主要参数1 )波长(Wavelength ):指波在一个振动周期内传播的距离。
即沿波的传播方向,两个相邻的同相位点(如波峰或波谷)间的距离。
2)周期:波前进一个波长那样距离所需的时间。
3)频率(frequency ):指单位时间内,完成振动或振荡的次数或周期(T ),用V 示。
注:一般可用波长或频率来描述或定义电磁波谱的范围。
在可见光——红外遥感中多用波长,在微波遥感中多用频率。
4)振幅(Amplitude ):表示电场振动的强度。
它被定义为振动物理量偏离平衡位置的最大位移,即每个波峰的高度。
5)电磁波谱:将各种电磁波在真空中的波长按其长短,依次排列制成的图表。
5.常用电磁波波段特性1)紫外线(UV ): 0.01-0.4卩m,碳酸盐岩分布、水面油污染;2)可见光:0.4-0.76卩m,鉴别物质特征的主要波段;是遥感最常用的波段;3)红外线(IR): 0.76-1000卩m。
近红外0.76-3.0卩m'中红外3.0-6.0卩m;远红外6.0-15.0卩m;超远红外15-1000卩m;(近红外又称光红外或反射红外;中红外和远红外又称热红外。
)4)微波:1mm-1m。
全天候遥感;有主动与被动之分;具有穿透能力;发展潜力大。
6.地物的反射光谱特性地物的反射率(反射系数或亮度系数):地物对某一波段的反射能量与入射能量之比;反照率(Albedo ):以太阳光作为入射光的反射率,即自然物体的反射率;反射率曲线:物体的光谱反射率随波长变化的曲线称为光谱反射率曲线,它的形状反映了地物的波谱特征。
UV光谱的名词解释
UV光谱的名词解释引言:在日常生活中,我们经常听到UV光谱这个名词,尤其是在涉及到光学、化学和医学等领域时更为常见。
那么,什么是UV光谱?为了更好地理解和应用它,我们有必要对其进行解释。
1. UV光谱的概念UV光谱是指在紫外线(UV)光区域内的光的能量和频率分布。
紫外线是指太阳辐射出的能量较高、波长较短的电磁辐射。
UV光谱通过测量不同波长的紫外线的强度,获得不同波长的光的能量分布曲线。
2. UV光谱的分类根据紫外线波长的不同,UV光谱通常分为三个区域:近紫外区(200-400 nm)、中紫外区(200-280 nm)和远紫外区(100-200 nm)。
其中,近紫外区是我们日常生活中最为常见的部分。
3. 光谱学与UV光谱光谱学是研究光的性质和光与物质相互作用的学科。
而在光谱学中,模拟和测量UV光谱是一种重要的手段。
通过分析UV光谱,我们可以深入了解光与物质的相互作用方式。
4. UV光谱与分子结构分子的化学结构和紫外线的吸收有着密切的关系。
不同的分子结构对紫外线的吸收和反射具有特定的特征。
通过测量和分析UV光谱,可以确定物质的分子结构,从而对物质进行定性和定量分析。
5. UV光谱在医学中的应用医学中广泛使用的药物和化妆品往往也受到UV光谱的影响。
通过测量UV光谱,可以判断药物和化妆品中是否存在不纯物质,保证其质量和安全性。
同时,UV光谱也被应用于药物的肝脏代谢和体内分布研究等领域。
6. UV光谱在环境监测中的应用紫外线是对环境具有一定损害作用的一种辐射。
因此,通过测量UV光谱可以对环境中的紫外线强度进行监测,为环境保护和预防紫外线辐射造成的危害提供重要数据。
7. UV光谱仪器的发展为了更好地研究和利用UV光谱,科学家们发展了一系列UV光谱仪器。
这些仪器可以精确测量和分析光的能量和频率分布。
随着技术的发展,现代UV光谱仪不仅具备高精度和高灵敏度,还能进行数据存储和自动分析等功能。
结论:综上所述,UV光谱是一种对紫外线能量和频率分布进行测量和分析的手段。
maya UV基础
UV基础知识点:•理解UV。
•UV基本投射的用法。
•折分UV前的规划。
•折分UV的常用命令。
1、UV的概念UV主要是针对多边形与细分表面的一个元素,同时又是确定2D纹理的坐标点。
它控制纹理在模型上的对应关系,这里的纹理主要是指2D的纹理。
UV坐标是用于放置象文件贴图这类的2D纹理在三维空间中的模型上的坐标位置。
在NURBS中,UV是自始自终都存在,不像多边形需要创建或编辑,它具有NURBS面片内置的、不可以进行编辑的特性。
如果纹理在NURBS面片上放置的话,可看作NURBS面片的UV充满纹理的0~1空间。
如果这个多边形表面没有UV的信息存在,就会在视窗中显示灰色透明斜条纹状的(有时也显示为彩色透明斜条纹状)如图。
UV编辑是在完成建模之后要对模型指定纹理之前进行。
图4.1.1-01UV编辑的最终目的是为使用2D纹理服务的,如果在编辑纹理的时候就给予一个标准的2D纹理用于检验UV的正确与否,将有利于UV编辑的快速与准确,于是我们经常会用到已经准备好的UV测试贴图,通过file节点作为模型的纹理,程序纹理当中的棋盘格也经常被用作测试,看纹理在模型表面分部是否合理均匀,但是在编辑过程中最好使用事先准备好的图片而非程序纹理。
2、UV 编辑的基本原则1.UVs(使用相同纹理)避免重叠与交迭2.保持UVs(相同纹理)在0~1纹理平面内3.UV的接缝摆放位置应遵循摄像机注意不到以及不易觉察的部位如头后侧部、臂与腿的内侧4.尽可能划分少的UV块5.尽可能利用0~1纹理平面空间3、UV编辑器的使用在window选项下,选择UV Texture Editor(uv编辑器):图4.1.1-03打开UV编辑器,如图:图4.1.1-04最上面英文部分是UV编辑器的命令菜单,如图:图4.1.1-05中间的面部分是命令的快捷图标,如图:图4.1.1-06最下面的UV编辑器的操作界面,如图:图4.1.1-074、UV 投射方式MAYA默认有4种投射方式,在Create UVs选项下,如图:图4.1.1-081.P LANAR M APPING 平面投射2.C YLINDERICAL M APPING 圆柱体投射3.S PHERICAL M APPING 球形投射4.A UTOMATIC M APPING 自动投射设定绘制纹理通道5 投射方式的使用首先呢,我们一般在展UV的时候,会给模型赋予一张格子贴图,为了方便观察,UV是否有拉伸,如图:图4.1.1-10图4.1.1-111)好,这个时候,我们看一下第一种投射方式,叫Planar Mapping(平面投射),如图:在Planar Mapping(平面投射)的旁边,有个小正方形的图标,这是Planar Mapping(平面投射)的属性选项,,如图:图4.1.1-13•Projection Manipulator(映射操作属性):改变平面的映射方式。
紫外吸收 r%
紫外吸收r%
紫外吸收(UV Absorption)是指物质在紫外光区(通常指波长在100-400nm范围内)吸收光能的现象。
这种吸收是由于物质分子或原子中的电子在紫外光的激发下从低能级跃迁到高能级所引起的。
紫外吸收光谱就是记录物质在不同波长的紫外光下的吸收程度,通常表示为吸光度(Absorbance)与波长(Wavelength)的关系图。
r% 在紫外吸收中,可能指的是反射率百分比(Reflectance Percentage),它表示光照射到物质表面后,被反射回来的光所占的百分比。
反射率与吸收率是互补的,即吸收率 + 反射率 = 100%。
因此,如果一个物质在某一波长的紫外光下的反射率为r%,那么它的吸收率就是(100-r)%。
了解物质的紫外吸收特性和反射率对于许多领域都非常重要,如化学、生物、材料科学和环境科学等。
通过紫外吸收光谱,可以研究物质的组成、结构、浓度以及分子间的相互作用等信息。
同时,紫外吸收也是许多实际应用中的关键技术,如紫外线消毒、防伪标记、光化学反应的控制等。
紫外吸收及其相关参数如反射率百分比r%是研究物质性质和实现多种技术应用的重要手段。
uv测试判断标准
uv测试判断标准
UV测试是一种对物体表面进行鉴定和评估的方法,常用于判断物体的抗紫外线性能。
以下是一些常见的判断标准:
1. UV透射率:UV测试中最常用的指标之一,指物体对紫外线的透射程度。
透射率高的物体意味着其对紫外线的屏蔽效果较差,透射率低的物体则具有较好的防护效果。
2. 紫外线吸收度:指物体对紫外线的吸收能力,高吸收度说明物体具有较好的防护性能。
3. 紫外线能量衰减:指紫外线能量在物体表面反射、散射或被吸收的程度。
紫外线能量衰减越大,说明物体对紫外线的阻挡效果越好。
4. 光学亮度衰减:指物体表面在接受紫外线照射后,光学亮度的损失程度。
光学亮度衰减越小,表示物体具有较好的抗紫外线性能。
5. 耐候性能:指物体在长期受紫外线照射下的耐久性能。
耐候性能好的物体在紫外线环境中能够保持较长时间的稳定性和防护效果。
根据以上指标,可以综合评估物体的UV测试结果,并对其抗紫外线性能进行判断。
uv测试原理
uv测试原理
UV测试原理是一种利用紫外线照射物体并通过观察其反射、吸收或发射的紫外辐射来检测物体特性的技术。
它基于紫外线在物质表面与内部的相互作用的不同,通过观察紫外辐射的变化来分析物体的组成和性质。
UV测试原理的关键在于紫外线的特殊性质。
紫外线具有波长较短的特点,能够穿透光学上常见的物质,而且在物体与紫外线相互作用时,会出现特定的反应。
根据物体的反应情况,可以分析出物体的成分、结构和性质。
UV测试通常分为两种方式:吸收法和发射法。
吸收法是利用物体对紫外线的吸收来分析物体的成分和光学特性。
当紫外线照射到物体表面时,不同成分的物质会对不同波长的紫外线产生吸收作用,从而形成吸收谱。
通过分析吸收谱,可以确定物体的化学成分和含量。
发射法则是根据物体对紫外线的激发反应来分析物体的结构和性质。
当紫外线照射物体时,物体的原子、分子或晶体结构会发生能级激发,进而发射出特定波长的紫外辐射。
通过观察和测量这些发射的紫外辐射,可以获得物体的结构信息,如晶体的缺陷、杂质、形态和取向等。
UV测试原理是一种非破坏性的测试方法,广泛应用于材料科学、光学、化学、生物医学等领域。
它可以精确分析物体的组成和性质,为科学研究和工程应用提供重要的参考和指导。
有机化学基础知识点紫外可见光谱与共轭体系的分析
有机化学基础知识点紫外可见光谱与共轭体系的分析在有机化学中,紫外可见光谱(UV-Vis光谱)是一种常用的分析方法,可以用于研究物质的电子结构和化学性质。
而共轭体系是有机分子中的一种特殊结构,具有很强的紫外可见光吸收性质。
本文将介绍紫外可见光谱的基本原理以及共轭体系在紫外可见光谱中的应用。
一、紫外可见光谱的基本原理紫外可见光谱是通过测量物质对紫外光和可见光的吸收来研究物质的电子结构和化学性质的方法。
根据分子的电子能级理论,当分子受到光的辐射作用时,电子会从基态跃迁到激发态。
而分子的激发态和基态之间的能量差正好对应紫外光和可见光的能量范围,因此可以通过测量物质对紫外光和可见光的吸收情况来获取有关分子的信息。
在紫外可见光谱中,常用的量化参数是吸光度(A),用来表示溶液或物质对光的吸收强度。
吸光度与物质的摩尔吸光系数(ε)、溶液的浓度(c)以及光程长度(l)有关。
根据比尔-估尔定律,吸光度与摩尔吸光系数、浓度和光程长度之间成正比关系。
二、紫外可见光谱中的共轭体系共轭体系是指分子中存在着连续的多个单键和双键的交替排列。
共轭体系中的π电子系统能够形成一个共轭π电子体系,具有较低的能量。
这使得共轭体系具有吸收紫外光和可见光的能力。
共轭体系中,当分子受到光的激发时,π电子会跃迁到更高的能级。
共轭体系的π电子能级分布与电子能带结构密切相关,可通过紫外可见光谱来研究和解释。
在共轭体系中,能级之间的跃迁能够产生吸收峰,吸收峰的位置与共轭体系的结构和电子密度分布有关。
通过对共轭体系的紫外可见光谱进行分析,可以得到很多有关分子结构和性质的信息。
例如,共轭体系的分子通常会表现出较大的摩尔吸光系数,即吸光度较高。
此外,共轭体系中的共轭程度越高,吸收峰的波长越长。
这使得紫外可见光谱成为研究共轭体系的有力工具。
三、共轭体系的应用共轭体系在有机化学和材料科学中具有广泛的应用。
通过对共轭体系的紫外可见光谱进行分析,可以研究和判断新合成的有机化合物的结构和性质,例如共轭聚合物、染料分子等。
印刷行业印刷工艺知识点
印刷行业印刷工艺知识点印刷工艺是指印刷过程中所采用的各种技术和方法,包括印刷材料的选择、制版、印刷机的选择和操作、印刷工艺的控制等。
在印刷行业中,掌握印刷工艺知识是非常重要的,它直接关系到印刷品的质量和效果。
本文将介绍印刷行业中一些常见的印刷工艺知识点。
一、印刷材料的选择印刷材料是指印刷过程中所使用的各种材料,包括纸张、油墨、胶版等。
在选择印刷材料时,需要考虑印刷品的要求以及印刷机的特性。
例如,对于需要高清晰度的印刷品,应选择高质量的纸张;对于需要特殊效果的印刷品,可以选择特殊的油墨或胶版。
二、制版技术制版是印刷过程中非常重要的一步,它直接关系到印刷品的质量和效果。
常见的制版技术包括胶印制版、凸版制版、凹版制版等。
不同的制版技术适用于不同的印刷品,需要根据实际情况选择合适的制版技术。
三、印刷机的选择和操作印刷机是印刷过程中的核心设备,它的选择和操作直接关系到印刷品的质量和效率。
在选择印刷机时,需要考虑印刷品的要求以及生产能力。
在操作印刷机时,需要掌握印刷机的基本原理和操作规程,确保印刷品的质量和效果。
四、印刷工艺的控制印刷工艺的控制是指在印刷过程中对各个环节进行监控和调整,以确保印刷品的质量和效果。
常见的印刷工艺控制包括颜色控制、水墨平衡控制、印刷压力控制等。
通过合理的工艺控制,可以提高印刷品的质量和效率。
五、常见问题及解决方法在印刷过程中,常常会遇到一些问题,例如印刷品出现色差、印刷品出现模糊等。
对于这些问题,需要及时采取相应的解决方法。
例如,对于印刷品出现色差的问题,可以通过调整印刷机的颜色控制系统来解决。
六、印刷工艺的发展趋势随着科技的不断进步,印刷工艺也在不断发展。
例如,数字印刷技术的出现使得印刷过程更加高效和精确;UV印刷技术的应用使得印刷品更加耐久和环保。
了解印刷工艺的发展趋势,可以帮助印刷行业更好地适应市场需求。
总结:印刷工艺是印刷行业中非常重要的一部分,它直接关系到印刷品的质量和效果。
(整理)电磁场理论知识点总结
电磁场与电磁波总结第1章 场论初步一、矢量代数A •B =AB cos θA B ⨯=AB e AB sin θA •(B ⨯C ) = B •(C ⨯A ) = C •(A ⨯B ) A ⨯ (B ⨯C ) = B (A •C ) – C •(A •B ) 二、三种正交坐标系 1. 直角坐标系矢量线元 x y z =++l e e e d x y z矢量面元 =++S e e e x y z d dxdy dzdx dxdy 体积元 d V = dx dy dz单位矢量的关系 ⨯=e e e x y z ⨯=e e e y z x ⨯=e e e z x y 2. 圆柱形坐标系矢量线元 =++l e e e z d d d dz ρϕρρϕl 矢量面元 =+e e z dS d dz d d ρρϕρρϕ 体积元 dV = ρ d ρ d ϕ d z 单位矢量的关系 ⨯=⨯⨯=e e e e e =e e e e zz z ρϕϕρρϕ3. 球坐标系矢量线元 d l = e r d r + e θ r d θ + e ϕ r sin θ d ϕ 矢量面元 d S = e r r 2sin θ d θ d ϕ 体积元 dv = r 2sin θ d r d θ d ϕ 单位矢量的关系 ⨯=⨯⨯=e e e e e =e e e e r r r θϕθϕϕθcos sin 0sin cos 0 001x r y z z A A A A A A ⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎢⎥⎢⎥⎢⎥=-⎢⎥⎢⎥⎢⎥⎢⎥⎢⎥⎢⎥⎣⎦⎣⎦⎣⎦ϕϕϕϕϕsin cos sin sin cos cos cos cos sin sin sin cos 0x r y z A A A A A A ⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎢⎥⎢⎥⎢⎥=-⎢⎥⎢⎥⎢⎥⎢⎥⎢⎥⎢⎥-⎣⎦⎣⎦⎣⎦θϕθϕθϕθθϕθϕθϕϕsin 0cos cos 0sin 010r r z A A A A A A ⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎢⎥⎢⎥⎢⎥=-⎢⎥⎢⎥⎢⎥⎢⎥⎢⎥⎢⎥⎣⎦⎣⎦⎣⎦θϕϕθθθθ三、矢量场的散度和旋度 1. 通量与散度=⋅⎰A S Sd Φ 0lim∆→⋅=∇⋅=∆⎰A S A A Sv d div v2. 环流量与旋度=⋅⎰A l ld Γ maxn 0rot =lim∆→⋅∆⎰A lA e lS d S3. 计算公式∂∂∂∇=++∂∂∂⋅A y x zA A A x y z11()∂∂∂∇=++∂∂∂⋅A zA A A z ϕρρρρρϕ 22111()(sin )sin sin ∂∂∂∇=++∂∂∂⋅A r A r A A r r r r ϕθθθθθϕx y z ∂∂∂∇⨯=∂∂∂e e e A x y z x y z A A A ∂∂∂∇⨯=∂∂∂e e e A z z z A A A ρϕρϕρρϕρ sin sin ∂∂∂∇⨯=∂∂∂e e e A r r zr r r A r A r A ρϕθθθϕθ 4. 矢量场的高斯定理与斯托克斯定理⋅=∇⋅⎰⎰A S A SV d dV⋅=∇⨯⋅⎰⎰A l A S lSd d四、标量场的梯度 1. 方向导数与梯度00()()lim∆→-∂=∂∆l P u M u M u llcos cos cos ∂∂∂∂=++∂∂∂∂P uu u ulx y zαβγ cos ∇⋅=∇e l u u θ grad ∂∂∂∂==+∂∂∂∂e e e +e n x y zu u u uu n x y z2. 计算公式∂∂∂∇=++∂∂∂e e e xy z u u uu x y z1∂∂∂∇=++∂∂∂e e e z u u u u z ρϕρρϕ 11sin ∂∂∂∇=++∂∂∂e e e r u u uu r r r zθϕθθ 五、无散场与无旋场1. 无散场 ()0∇⋅∇⨯=A =∇⨯F A2. 无旋场 ()0∇⨯∇=u =∇F u六、拉普拉斯运算算子 1. 直角坐标系22222222222222222222222222222222∂∂∂∇=++∇=∇+∇+∇∂∂∂∂∂∂∂∂∂∂∂∂∇=++∇=++∇=++∂∂∂∂∂∂∂∂∂A e e e x x y y z zy y y x x x z z z x y zu u u u A A A x y zA A A A A A A A A A A A x y z x y z x y z,,2. 圆柱坐标系22222222222222111212⎛⎫∂∂∂∂∇=++ ⎪∂∂∂∂⎝⎭∂∂⎛⎫⎛⎫∇=∇--+∇-++∇ ⎪ ⎪∂∂⎝⎭⎝⎭A e e e z z u u uu zA A A A A A A ϕρρρρϕϕϕρρρρρϕρρϕρρϕ3. 球坐标系22222222111sin sin sin ⎛⎫∂∂∂∂∂⎛⎫∇=++ ⎪ ⎪∂∂∂∂∂⎝⎭⎝⎭u u uu r r r r r r θθθϕθϕ ⎪⎪⎭⎫⎝⎛∂∂+-∂∂+∇+⎪⎪⎭⎫⎝⎛∂∂--∂∂+∇+⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛∂∂-∂∂---∇=∇ϕθθθϕθϕθθθθϕθθθθϕϕϕϕθθθϕθθA r A r A r A A r A r A r A A r A r A r A r A r r r r r 222222222222222222sin cos 2sin 1sin 2sin cos 2sin 12sin 22cot 22e e e A 七、亥姆霍兹定理如果矢量场F 在无限区域中处处是单值的,且其导数连续有界,则当矢量场的散度、旋度和边界条件(即矢量场在有限区域V ’边界上的分布)给定后,该矢量场F 唯一确定为()()()=-∇+∇⨯F r r A r φ其中 1()()4''∇⋅'='-⎰F r r r r V dV φπ1()()4''∇⨯'='-⎰F r A r r r V dV π第2章 电磁学基本规律一、麦克斯韦方程组 1. 静电场基本规律真空中方程:d ⋅=⎰SE S qεd 0⋅=⎰lE l 0∇⋅=E ρε 0∇⨯=E 场位关系:3''()(')'4'-=-⎰r r E r r r r V q dV ρπε =-∇E φ 01()()d 4π''='-⎰r r |r r |V V ρφε介质中方程:d ⋅=⎰D S Sqd 0⋅=⎰lE l ∇⋅=D ρ 0∇⨯=E极化:0=+D E P ε e 00(1)=+==D E E E r χεεεε 极化电荷:==⋅P e PS n n P ρ =-∇⋅P P ρ2. 恒定电场基本规律电荷守恒定律:0∂∇⋅+=∂J tρ传导电流: =J E σ 与运流电流:ρ=J v恒定电场方程:d 0⋅=⎰J S Sd 0l⋅=⎰E l 0∇⋅=J 0∇⨯E =3. 恒定磁场基本规律真空中方程:0 d ⋅=⎰B l lI μ d 0⋅=⎰SB S 0∇⨯=B J μ 0∇⋅=B场位关系:03()( )()d 4π ''⨯-'='-⎰J r r r B r r r VV μ =∇⨯B A 0 ()()d 4π'''='-⎰J r A r r r V V μ 介质中方程:d ⋅=⎰H l lId 0⋅=⎰SB S ∇⨯=H J 0∇⋅=B磁化:0=-BH M μ m 00(1)=+B H =H =H r χμμμμ 磁化电流:m =∇⨯J M ms n =⨯J M e4. 电磁感应定律d d ⋅=-⋅⎰⎰S E l B S ld dt ∂∇⨯=-∂BE t5. 全电流定律和位移电流全电流定律: d ()d ∂⋅=+⋅∂⎰⎰D H l J S l S t ∂∇⨯=+∂DH J t 位移电流: d =DJ d dt6. Maxwell Equationsd ()d d d d d 0∂⎧⋅=+⋅⎪∂⎪∂⎪⋅=-⋅⎪∂⎨⎪⋅=⎪⎪⋅=⎪⎩⎰⎰⎰⎰⎰⎰⎰D H J S B E S D S B S l S l SSV Sl t l t V d ρ 0∂⎧∇⨯=+⎪∂⎪∂⎪∇⨯=-⎨∂⎪∇⋅=⎪⎪∇⋅=⎩D H J B E D B t t ρ ()() ()()0∂⎧∇⨯=+⎪∂⎪∂⎪∇⨯=-⎨∂⎪∇⋅=⎪⎪∇⋅=⎩E H E H E E H t t εσμερμ 二、电与磁的对偶性e m e m e m e e m m e e m mm e 00∂∂⎫⎧∇⨯=-∇⨯=⎪⎪∂∂⎪⎪∂∂⎪⎪∇⨯=+∇⨯=--⎬⎨∂∂⎪⎪∇=∇=⎪⎪⎪⎪∇=∇=⎩⎭⋅⋅⋅⋅B D E H D B H J E J D B D B t t &t t ρρ m e e m ∂⎧∇⨯=--⎪∂⎪∂⎪∇⨯=+⇒⎨∂⎪∇=⎪⎪∇=⎩⋅⋅B E J D H J D B tt ρρ 三、边界条件 1. 一般形式12121212()0()()()0⨯-=⨯-=⋅-=⋅-=e E E e H H J e D D e B B n n S n Sn ρ2. 理想导体界面 和 理想介质界面111100⨯=⎧⎪⨯=⎪⎨⋅=⎪⎪⋅=⎩e E e H J e D e B n n Sn S n ρ 12121212()0()0()0()0⨯-=⎧⎪⨯-=⎪⎨⋅-=⎪⎪⋅-=⎩e E E e H H e D D e B B n n n n 第3章 静态场分析一、静电场分析1. 位函数方程与边界条件位函数方程: 220∇=-∇=ρφφε电位的边界条件:121212=⎧⎪⎨∂∂-=-⎪∂∂⎩s nn φφφφεερ 111=⎧⎪⎨∂=-⎪∂⎩s const nφφερ(媒质2为导体) 2. 电容定义:=qC φ两导体间的电容:=C q /U任意双导体系统电容求解方法:2211⋅⋅===⋅⋅⎰⎰⎰⎰D S E S E lE lS S d d qC Ud d ε 3. 静电场的能量N 个导体: 112==∑ne i i i W q φ 连续分布: 12=⎰e VW dV φρ 电场能量密度:12D E ω=⋅e二、恒定电场分析1. 位函数微分方程与边界条件位函数微分方程:20∇=φ边界条件:121212=⎧⎪⎨∂∂=⎪∂∂⎩nn φφφφεε 12()0⋅-=e J J n 1212[]0⨯-=J J e n σσ 2. 欧姆定律与焦耳定律欧姆定律的微分形式: =J E σ 焦耳定律的微分形式: =⋅⎰E J VP dV3. 任意电阻的计算2211d d 1⋅⋅====⋅⋅⎰⎰⎰⎰E l E l J SE SSSU R G Id d σ (L R =σS )4. 静电比拟法:C —— G ,ε —— σ2211⋅⋅===⋅⋅⎰⎰⎰⎰D S E S E lE lS S d d qC Ud d ε 2211d d d ⋅⋅===⋅⋅⎰⎰⎰⎰J S E SE lE lS S d I G Uσ三、恒定磁场分析1. 位函数微分方程与边界条件矢量位:2∇=-A J μ 12121211⨯⨯⨯A A e A A J n s μμ()=∇-∇=标量位:20m φ∇= 211221∂∂==∂∂m m m m n nφφφφμμ 2. 电感定义:d d ⋅⋅===⎰⎰B S A l SlL IIIψ=+i L L L3. 恒定磁场的能量 N 个线圈:112==∑Nm j j j W I ψ 连续分布:m 1d 2A J =⋅⎰V W V 磁场能量密度:m 12H B ω=⋅ 第4章 静电场边值问题的解一、边值问题的类型● 狄利克利问题:给定整个场域边界上的位函数值()=f s φ ● 纽曼问题:给定待求位函数在边界上的法向导数值()∂=∂f s nφ● 混合问题:给定边界上的位函数及其向导数的线性组合:2112()()∂==∂f s f s nφφ ● 自然边界:lim r r φ→∞=有限值二、唯一性定理静电场的惟一性定理:在给定边界条件(边界上的电位或边界上的法向导数或导体表面电荷分布)下,空间静电场被唯一确定。
汉语拼音知识点
1、汉语拼音知识点字母表A aB bC cD dE eF fG gH h I i J j K k L l M m N nO o P p Q q R r S s T tU u V v W w X x Y y Z z2、声母表b p m f d t n lg k h j q xzh ch sh r z o s3、整体认读:zhi、chi、shi、ri、zi、ci、siyi、wu、yu、ye、yue、yin、yun、ying、yuan4、韵母表a o e i u v ai ei ui ao ou iu ie ve er an en in un vn ang eng ing ong汉语拼音的第一个字母有时要大写,归纳起来主要有下面几种情况:1. 汉语人名。
姓的第一个字母和名的第一个字母要大写。
如Zhang Hui(张辉)Z和H 要大写。
姓和职务、称呼等组成词语时,姓的开头第一个字母要大写,其余字母小写。
如W ang lao shi(王老师)W要大写。
但“老”“小”“大”“阿”等称号,开头第一个字母也要大写。
如Xiao Liu(小刘)X、L要大写。
2. 汉语地名、专有名词(如书名、机关、团体等)的第一个字母要大写。
如Bei jing (北京)B要大写,Shang hai(上海)S要大写,Ning bo (宁波)N要大写。
如果专有名词是词组,要按词连写,每个词的第一个字母要大写。
如Zhonghua Renmin Gongheguo(中华人民共和国),中华的第一个字母Z,人民的第一个字母R,共和国的第一个字母G都要大写。
3. 每个整句开头的第一个字母要大写;如果是诗歌,每行开头的第一个字母也要大写。
4. 商标和商店的名字,一般每个字母都大写。
朗读时应注意的几个语音问题语音标准音节的声、韵、调三要素发音要正确无误,音变要合乎规则,(1)声、韵、调①调值:阴平是一个高平调,调形为[55];阳平是一个高升调,调形为[35];上声是一个降升调,调形为[214];去声是一个全降调,调形为[51]。
喷漆知识点总结
喷漆知识点总结一、喷漆工艺1. 准备工作:在进行喷漆之前,首先要对被喷漆物体进行清洁,去除表面的灰尘、油渍等杂质。
然后进行打磨,使得表面光滑平整,有利于漆膜的附着和均匀性。
2. 底漆涂装:在进行喷漆之前,通常需要先喷涂一层底漆,以增强附着力和防止腐蚀。
底漆的选择要根据所涂物体的材质和喷漆的目的来确定。
3. 涂装操作:在进行喷漆时,要掌握好喷漆枪的距离、角度和速度,保持均匀的喷涂厚度和避免出现滴落和流挂。
另外要注意避免污染和尘埃的侵入,保持喷漆环境的洁净。
4. 表面涂装:在底漆干燥后,可以进行表面涂装,选择适当的颜料和工艺,使得被喷漆物体的外观更加美观和耐久。
5. 防护涂装:在一些特殊要求的场合,还需要进行防护涂装,如防火、防腐蚀、防静电等。
二、材料选择1. 喷漆颜料:根据不同的喷漆目的和要求,可以选择不同种类的颜料,如溶剂型、水性、UV固化等。
2. 底漆:根据被涂物体的材质和实际情况,选择适合的底漆种类,如环氧、酚醛、聚酯等。
3. 溶剂:在选择溶剂时要考虑其挥发性和毒性,避免对环境和人体造成伤害。
4. 辅助材料:如稀释剂、固化剂、填料等,都需要根据实际需要进行选择和配置。
三、喷漆设备1. 喷枪:根据不同的喷漆要求,可以选择不同种类的喷枪,如重力式、吸引式、压缩式等。
2. 压缩空气源:喷漆需要通过压缩空气来实现,因此需要选择合适的压缩机和空气干燥设备,以保证喷漆质量和效率。
3. 混合系统:一些喷漆需要通过混合系统来实现,如双组份漆、多组份漆等,需要进行合理的配置和调节。
4. 通风设备:在喷漆时需要保持良好的通风环境,以减少有害气体的污染和对人体的危害。
四、安全防护1. 个人防护:在喷漆作业时,操作人员需要佩戴适当的防护设备,如呼吸器、防护面具、防护服、手套等,以保护自身安全。
2. 操作环境:喷漆作业需要在专门的作业区域进行,保持良好的通风和安全设施,避免事故的发生。
3. 废弃物处理:对于喷漆产生的废弃物,需要进行合理的处理和回收,避免对环境造成污染。
太阳辐射知识点总结
太阳辐射知识点总结一、太阳辐射的组成和特点太阳辐射主要由可见光、紫外线和红外线组成,它们在电磁波谱中所占的位置如下:1. 可见光:波长为380-780纳米,占据了整个电磁波谱的很小一部分;2. 紫外线:波长为10-400纳米,它又可以分为UV-A、UV-B和UV-C三种不同波长的紫外线;3. 红外线:波长为780纳米-1毫米,也是太阳辐射的一部分。
太阳辐射的特点主要有以下几点:1. 太阳辐射是电磁波辐射的一种,它是由太阳核内核反应所产生的;2. 太阳辐射具有传播速度快、能量大、波长范围广等特点;3. 太阳辐射在地球大气层中的传播和吸收会产生一系列的物理和化学反应。
二、太阳辐射的对地球的影响太阳辐射对地球的影响主要有以下几个方面:1. 气候变化:太阳辐射是导致地球气候变化的主要原因之一。
太阳辐射直接影响了大气的温度、湿度和气压等因素,从而影响了地球的气候。
2. 光合作用:太阳辐射是植物光合作用的能量来源,它直接影响了植物生长和物种的分布。
3. 紫外线辐射:太阳的紫外线辐射会对人类和其他生物产生影响,包括致癌、导致眼睛和皮肤疾病等。
4. 太阳风和太阳黑子:太阳辐射还会导致太阳风和太阳黑子等现象,这些现象对地球的电磁场和磁层等产生影响。
三、太阳辐射的测量和应用太阳辐射的测量主要通过太阳光谱仪、宽视场光谱仪、白光反照率测量和微波辐射计等设备进行。
这些设备可以用来测量太阳辐射的强度、波长和分布等参数。
太阳辐射有着广泛的应用价值,主要包括以下几个方面:1. 太阳能利用:太阳辐射是太阳能发电的能源之一,可以通过太阳能电池板将太阳辐射转化为电能。
2. 气象预报:太阳辐射是气象预报的重要数据之一,它直接影响了大气层的能量平衡和天气变化。
3. 农业生产:太阳辐射对农业生产有重要的影响,包括农作物的生长、土壤温度的变化和水分蒸发等问题。
4. 医疗保健:太阳辐射对人体有着重要的影响,可以通过控制太阳辐射来预防和治疗一些疾病。
uv 和 荧光光谱焦点
uv 和荧光光谱焦点UV和荧光光谱是两种常见的分析手段,主要用于确定样品的化学成分和结构性质。
UV光谱和荧光光谱的分析原理、应用范围和实验方法不同,但它们具有较强的互补性,在许多领域有着广泛的应用。
一、UV光谱UV光谱是研究物质吸收和散射紫外线的规律的一种手段。
它是基于分子的电子跃迁现象,使用紫外线作为激发光源,测量溶液、气体或固体样品的吸收特性,从而获得物质的分子结构、化学键、共振能级等信息。
UV光谱常用于有机分子、天然产物、药物、食品等的研究中。
在UV光谱实验中,一般使用可见光以下的紫外线作为照射源,样品溶液置于石英或烧结石英样品池中,通过紫外线穿透样品溶液后被探测器检测,获得吸收强度与波长的变化曲线。
UV光谱可以提供一系列的谱带和峰,这些谱带和峰与物质的分子结构密切相关,因此能够用于定性和定量分析,例如用于检测有机物、酸、碱、金属离子、重金属等。
二、荧光光谱荧光光谱是指物质在光激发下,发出荧光时所对应的光谱特征谱带。
荧光光谱常用于生物医学、化学分析、环境监测等领域,用于确定样品的成分、结构、光学性质等信息。
荧光光谱是研究物质分子内部电子能级与电子转移的一种手段。
在荧光光谱实验中,样品在激光或其他型号的光源作用下激发,荧光发生时,测量溶液或固体样品发射光谱,通过分析发射光的强度和波长,获得物质的光学性质和结构信息。
荧光光谱的特点是比较灵敏,能检测到低浓度的物质,同时还具有较强的互补性,可以与其他分析方法联合使用,例如与质谱相结合,能够追踪物质的代谢途径,从而检测代谢物和化合物在生物体内的变化。
三、UV和荧光光谱的互补性UV和荧光光谱在应用中具有互补性,主要表现在以下方面:1.样品浓度差异:UV光谱适用于高浓度的样品,而荧光光谱适用于低浓度的样品。
这是由于荧光光谱的检测灵敏度更高,因此能够检测到低浓度的物质,而UV光谱则分析高浓度样品时不易受到干扰。
2.光源差异:UV和荧光光谱的光源不同,UV光谱使用紫外线作为激发光源,而荧光光谱使用激光或其他光源激发样品。
知识点 生物碱结构鉴定
裂解规律: 1、母核稳定的化合物,一般易产生由于取代基或边链裂 解产生特征离子。 ① 主体或整体由芳香结构组成 如:4-喹酮、吖啶酮、喹啉去氢阿朴菲等类:
OR M-R N O
+
②
取代氨基甾体、秋水仙碱、苦参碱等环系多,分子 结构紧密的:
CH3 CH N(CH3)2
+ CH3CH N(CH3)2
H - CH3
一)UV法 用于反映分子中所含共与否。
当生色团(羰基、双键、苯基和硝基等)在生物碱 的整体结构中 时,UV可以反映其骨架类型特征------对 其骨架类型的判断和推定有重要作用。 如吡啶类,喹啉类和简单吲哚类。
例:吲哚类生物碱骨架的紫外吸收:
例:吲哚类生物碱骨架的紫外吸收: 简单吲哚 200, 280~290 nm 二氢吲哚 250 nm (s) α-羰基吲哚 320 nm
α裂解 例2
F
N H H
F
H OH N H H
E D
D
H OH H
OH
H OH H 浙贝甲素
F
N +
m/e 112(100%)
α裂解 例3-- 苄基裂解
OR3 R 2O R1O N R OR4 OR5 R2O R1O N R + OR3
多为基峰
(2) RDA裂解 ------环已烯的结构,产生一对互补离子, 对结构鉴定有用
因此均应为反式喹喏里西丁环
H N R R'
A B
R=CH2OH R’=H R=H R’=CH2OH
IR: 2768 cm-1 IR: 2765 cm-1
三)MS 法
此法在生物碱结构测定中多有应用。
大多情况下可用EI-MS 测定分子量 鉴定功能团和取代基的存在 指示个别生物碱的特有结构 不同结构式的生物碱,会因其结构上的特点, 表现一定方式的裂解
uv值公式
uv值公式
UV值公式是衡量紫外线强度的一种指标,它的计算公式为UV = UVA + UVB + UVC,其中UVA、UVB和UVC分别代表不同波长的紫外线辐射。
紫外线是太阳光中的一种电磁波,它对人体健康有着重要的影响。
适量的紫外线可以促进维生素D的合成,增强人体免疫力,但过量的紫外线会损害皮肤细胞,导致皮肤老化和癌变。
UVA波长范围在320-400纳米之间,它是紫外线中最长的波长,可以穿透玻璃和云层,对皮肤的深层组织造成伤害。
长时间暴露在UVA辐射下,会导致皮肤衰老、皱纹增多,甚至引发皮肤癌。
UVB波长范围在280-320纳米之间,它是中等波长的紫外线,可以被地球大气层部分吸收。
UVB辐射对皮肤的损伤更为明显,容易引发晒伤、皮炎和皮肤癌。
UVC波长范围在100-280纳米之间,是最短的紫外线波长,也是最具有杀菌作用的紫外线。
由于地球大气层的吸收作用,UVC辐射很少能够到达地表。
为了保护皮肤免受紫外线的伤害,我们需要做好防晒工作。
选择合适的防晒霜是非常重要的,它应该能够同时阻挡UVA和UVB辐射。
此外,避免在强烈的紫外线辐射下暴晒,可以选择在阳光强烈的时段避免外出,或者使用遮阳伞、太阳镜等防护用品。
除了防晒措施,还应该注意定期检查皮肤健康,及时发现和治疗可能的皮肤问题。
如果发现皮肤上出现了痣、斑点、溃疡等异常症状,应该及时就医,进行进一步的诊断和治疗。
紫外线是一种对人体健康有着重要影响的辐射,我们应该加强对紫外线的认识,采取适当的防护措施,保护好自己的皮肤健康。
同时,也要加强对皮肤健康的关注,及时发现和治疗可能的问题,保持健康的肌肤。
uv是什么材料
uv是什么材料
UV是什么材料。
UV是紫外线(Ultraviolet)的缩写,指的是波长在100-400纳米之间的电磁波。
UV材料是指能够吸收或反射紫外线的材料,它在日常生活中有着广泛的应用。
UV材料主要分为有机和无机两大类,它们在不同领域有着不同的应用。
有机UV材料是指由有机物质构成的吸收紫外线的材料,常见的有机UV材料
有紫外线吸收剂、紫外线稳定剂等。
它们主要应用于塑料、涂料、油墨等领域,能够有效地吸收或分散紫外线,起到保护材料不受紫外线侵害的作用。
此外,有机
UV材料还可以用于制备紫外线防护服、太阳镜等用品,保护人体不受紫外线伤害。
无机UV材料是指由无机物质构成的反射紫外线的材料,常见的无机UV材料
有二氧化钛、氧化锌等。
它们主要应用于建筑材料、防晒霜、防晒服装等领域,能够通过反射紫外线的方式起到防晒的作用。
此外,无机UV材料还可以用于制备紫外线反射膜、紫外线防护涂料等产品,保护建筑和设备不受紫外线侵害。
总的来说,UV材料在日常生活中有着重要的应用,它们能够有效地保护人体、材料和设备不受紫外线侵害。
随着科技的进步,UV材料的种类和应用领域还将不
断扩展,为人们的生活带来更多的便利和保护。
UV材料的发展也将成为材料科学
领域的一个重要研究方向,为人类的健康和环境的保护做出更大的贡献。
uv值公式
uv值公式标题:UV值公式:揭示太阳辐射的神秘面纱引言:太阳辐射是地球上生命存在的重要条件之一,但过度暴露于太阳下会对人类造成伤害。
了解太阳辐射的强度和安全水平,需要依靠UV 值公式。
本文将详细介绍UV值公式以及其对人类健康的重要性。
UV值公式的由来:UV值公式是基于太阳辐射中的紫外线强度而来。
它是一种衡量太阳辐射对人体的影响的指标。
根据紫外线的波长,我们将其分为UVA、UVB和UVC三个不同的区域。
UV值公式能够综合考虑这三个区域的紫外线强度,从而为人们提供一个辐射安全水平的参考。
UV值公式的计算方法:UV值公式的计算方法较为复杂,其中包括了太阳高度角、地球上空大气的吸收和散射等多个因素。
但简单来说,UV值公式可以表示为UV = k × E,其中UV代表紫外线指数,k是一个修正因子,E是太阳辐射总能量。
UV值公式的应用:UV值公式被广泛应用于天气预报、户外活动安全指南等方面。
通过对UV值进行监测和预测,人们可以及时采取防晒措施,避免过度暴露在太阳下,从而保护皮肤免受伤害。
UV值公式与人类健康的关系:太阳辐射中的紫外线对人类健康有着重要的影响。
适量的紫外线可以促进维生素D的生成,有益于骨骼生长和免疫系统的正常功能。
然而,过度暴露于紫外线下会增加患皮肤癌和眼部疾病的风险。
UV 值公式的引入,使人们能够根据紫外线指数的高低,合理安排户外活动和防晒措施,从而维护健康。
结论:UV值公式是一项重要的科学成果,它能够帮助人们了解太阳辐射的强度和安全水平。
通过合理利用UV值公式,我们可以更好地保护自己免受紫外线伤害。
在未来,随着科技的不断进步,UV值公式也将得到进一步的完善,为人类的健康提供更加精确的保障。
让我们一起关注太阳辐射,享受阳光的同时,保护自己的健康。
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09 10 知识点:
理解UV。
UV基本投射的用法。
折分UV前的规划。
折分UV的常用命令。
重点:
设计UV的投射方式,Relax,Unfold,cut/sew的使用。
UV的输出与传递。
命令:
UV:2D纹理坐标控制纹理在模型上的对应关系
Nurbs uv始终在0-1空间内
拆UV原则:
避免重叠与交错
UV块数尽量少
接缝处要隐蔽
保持在0-1空间内
Planar Mapping 平面投射
X Y Z cam
keep image ratio 保持物体比例不变
Cylinderical Mapping 圆柱体投射
Spherical Mapping 球形投射
Automatic Mapping 自动投射纹理
lessdistortion 少拉伸
Fewer pieces 少面数
copy UVS 复制UV
paste UV 粘贴UV
Normalize UVS 把UV归一化处理
Unitize UVs 把选择的面归到0~1.
Flip UVs 翻转UV
Rotate UVs 旋转UV
Cycle UVs 旋转选择面的UV,选择单一面时较好使用
Best Plane Texturing Tool
Map UV border 使选择的UV边缘排成矩形或园。
Straighten UV Border 把UV边界弄直
Relax UVS 放松UVS(pin unselected uvs 仅松弛选择的点)
Unfold 按3D模型分割UV
Layout UVs 把散乱的UV重排列
Grid UVs 使选择的UV按设定的栅格进行排列。
Align UVs 把选择的UV对齐
warp image 比较一个polygon上的两个UV set,产生一个新的图像。
cut uvs 切开UV
sew uvs 缝合UV
move and Sew UVs 移动并缝合UV
Merge UVs 合并UVS
Delete UVs 删除UVS
物体一样或点数一样时可用transfer传递UV
物体显示粗边,1 uv面板也要显示,
2display-polygons-border edges切割边界
完成后:复制镜像scale:X-1 合并物体polygons_combine
缝合点mesh –merge
UVsets creat empty UV sers 创建空的UVsets
映射UV
找到UVlinking 的UV-centric
Unford 3D
导入obj格式
Edit-mouse buildings- Alias wavefront maya MAYA的操作方法
Viewport Orbit 旋转Alt左
Viewport Pan 平移Alt中
Viewport Zoom 放缩Alt右
点边,按住shift接着选边
(蓝色是选上的,白色是将要选择的方向)
Ctrl加右键框选取消选择的边
切割分UV 松弛不能保存,保存后只能在MAY A中显示结果。