光电子技术基础09

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《光电子技术基础》第二版朱京平Cha

《光电子技术基础》第二版朱京平Cha

书籍概述
本书综合介绍了光电子技术的基础知识和应用。旨在帮助读者全面了解光电 子技术的原理、发展历科大学生、研究生以及电子工程专业学生。
工程师
从事光电子技术相关工作的工程师和研究人员。
爱好者
对光电子技术感兴趣的科技爱好者和自学者。
主要章节
1
第一章:光电子技术的基本概念
提供与该书内容相关的额外 学习资料、网站链接和参考 书目。
实践活动建议
为读者提供一些实际操作的 建议,帮助他们将理论知识 应用到实际中。
知识测试
最后,读者可以通过一些知 识测试来检验对所学内容的 理解和掌握程度。
《光电子技术基础》第二 版朱京平Cha
这本书是一本全面介绍光电子技术基础的书籍。它详细阐述了光电子技术的 基本概念、光辐射与光电效应、光电子器件、光电探测与信号放大、光电模 块、光电检测系统、光电子应用以及光纤通信与光纤传感等主要章节。
作者的背景和资历
朱京平
拥有多年光电子技术的研究和教学经验,是该领域的专家。
介绍光电子技术的基本原理和核心概念。
2
第二章:光辐射与光电效应
探讨光辐射和光电效应对光电子技术的重要性。
3
第三章:光电子器件
讲解常见的光电子器件和它们的特性及应用。
4
第四章:光电探测与信号放大
介绍光电探测和信号放大的原理与方法。
5
第五章:光电模块
讲述光电模块的构成和应用案例。
学习资源和实践活动
推荐学习资源

光电子技术基础考试题及答案

光电子技术基础考试题及答案

光电子技术基础考试题及答案光电子技术基础考试题及答案一、选择题1.光通量的单位是( B ).A.坎德拉B.流明C.熙提D.勒克斯2. 辐射通量φe的单位是( B )A 焦耳 (J)B 瓦特 (W) C每球面度 (W/Sr) D坎德拉(cd)3.发光强度的单位是( A ).A.坎德拉B.流明C.熙提D.勒克斯4.光照度的单位是( D ).A.坎德拉B.流明C.熙提D.勒克斯5.激光器的构成一般由( A )组成A.激励能源、谐振腔和工作物质B.固体激光器、液体激光器和气体激光器C.半导体材料、金属半导体材料和PN结材料D. 电子、载流子和光子6. 硅光二极管在适当偏置时,其光电流与入射辐射通量有良好的线性关系,且动态范围较大。

适当偏置是(D)A 恒流B 自偏置C 零伏偏置D 反向偏置7.2009年10月6日授予华人高锟诺贝尔物理学奖,提到光纤以SiO2为材料的主要是由于( A )A.传输损耗低B.可实现任何光传输C.不出现瑞利散射D.空间相干性好8.下列哪个不属于激光调制器的是( D )A.电光调制器B.声光调制器C.磁光调制器D.压光调制器9.电光晶体的非线性电光效应主要与( C )有关A.内加电场B.激光波长C.晶体性质D.晶体折射率变化量10.激光调制按其调制的性质有( C )A.连续调制B.脉冲调制C.相位调制D.光伏调制11.不属于光电探测器的是( D )A.光电导探测器B.光伏探测器C.光磁电探测器D.热电探测元件/doc/021*******.html,D 摄像器件的信息是靠( B )存储A.载流子B.电荷C.电子D.声子13.LCD显示器,可以分为( ABCD )A. TN型B. STN型C. TFT型D. DSTN型14.掺杂型探测器是由(D )之间的电子-空穴对符合产生的,激励过程是使半导体中的载流子从平衡状态激发到非平衡状态的激发态。

A.禁带B.分子C.粒子D.能带15.激光具有的优点为相干性好、亮度高及( B )A色性好 B单色性好 C 吸收性强 D吸收性弱16.红外辐射的波长为( D ).A 100-280nmB 380-440 nmC 640-770 nmD 770-1000 nm17.可见光的波长范围为( C ).A 200—300nmB 300—380nmC 380—780nmD 780—1500nm18.一只白炽灯,假设各向发光均匀,悬挂在离地面1.5m的高处,用照度计测得正下方地面的照度为30lx,该灯的光通量为( A ).A .848lxB .212lxC .424lxD .106lx19.下列不属于气体放电光源的是( D ).A .汞灯B .氙灯C .铊灯D .卤钨灯20.LCD是(A)A.液晶显示器B.光电二极管C.电荷耦合器件D.硅基液晶显示器21.25mm的视像管,靶面的有效高度约为10mm,若可分辨的最多电视行数为400,则相当于( A )线对/mm.A.16B.25C.20D.1822. 光电转换定律中的光电流与 ( B ) .A 温度成正比 B光功率成正比 C暗电流成正比 D光子的能量成正比23. 发生拉曼—纳斯衍射必须满足的条件是( A )A 超声波频率低,光波平行声波面入射,声光作用长度短B 超声波频率高,光波平行声波面入射,声光作用长度短C 超声波频率低,光波平行声波面入射,声光作用长度长D 超声波频率低,光束与声波面间以一定角度入射,声光作用长度短24.光束调制中,下面不属于外调制的是 ( C )A 声光调制B 电光波导调制C 半导体光源调制D 电光强度调制25.激光具有的优点为相干性好、亮度高及 ( B )A 多色性好 B单色性好 C 吸收性强 D吸收性弱26.能发生光电导效应的半导体是 ( C )A本征型和激子型 B本征型和晶格型 C本征型和杂质型 D本征型和自由载流子型27.电荷耦合器件分 ( A )A 线阵CCD和面阵CCDB 线阵CCD和点阵CCDC 面阵CCD和体阵CCD D 体阵CCD和点阵CCD28.电荷耦合器件的工作过程主要是信号的产生、存储、传输和( C )A 计算B 显示C 检测D 输出29.光电探测器的性能参数不包括(D)A光谱特性 B光照特性 C光电特性 D P-I特性30.光敏电阻与其他半导体电器件相比不具有的特点是(B)A.光谱响应范围广B.阈值电流低C.工作电流大D.灵敏度高31.关于LD与LED下列叙述正确的是(C)A. LD和LED都有阈值电流 B .LD调制频率远低于LED C. LD发光基于自发辐射D .LED可发出相干光32.光敏电阻的光电特性由光电转换因子描述,在强辐射作用下(A )A. ?=0.5B.? =1C. ?=1.5D. ?=233.硅光二极管主要适用于[D]A紫外光及红外光谱区 B可见光及紫外光谱区 C可见光区 D 可见光及红外光谱区34.硅光二极管主要适用于[D]A紫外光及红外光谱区 B可见光及紫外光谱区 C可见光区 D 可见光及红外光谱区35.光视效能K为最大值时的波长是(A )A.555nm B.666nm C.777nm D.888nm36. 对于P型半导体来说,以下说法正确的是(D)A 电子为多子B 空穴为少子C 能带图中施主能级靠近于导带底D 能带图中受主能级靠近于价带顶37. 下列光电器件, 哪种器件正常工作时需加100-200V的高反压(C)A Si光电二极管B PIN光电二极管C 雪崩光电二极管D 光电三极管38. 对于光敏电阻,下列说法不正确的是:(D)A 弱光照下,光电流与照度之间具有良好的线性关系B 光敏面作成蛇形,有利于提高灵敏度C 光敏电阻具有前历效应D 光敏电阻光谱特性的峰值波长,低温时向短波方向移动39. 在直接探测系统中, (B)A 探测器能响应光波的波动性质, 输出的电信号间接表征光波的振幅、频率和相位B 探测器只响应入射其上的平均光功率C 具有空间滤波能力D 具有光谱滤波能力40. 对于激光二极管(LD)和发光二极管(LED)来说,下列说法正确的是(D)A LD只能连续发光B LED的单色性比LD要好C LD内部可没有谐振腔D LED辐射光的波长决定于材料的禁带宽41. 对于N型半导体来说,以下说法正确的是(A)A 费米能级靠近导带底B 空穴为多子C 电子为少子D 费米能级靠近靠近于价带顶42. 依据光电器件伏安特性, 下列哪些器件不能视为恒流源: (D)A 光电二极管B 光电三极管C 光电倍增管D 光电池43. 硅光二极管在适当偏置时,其光电流与入射辐射通量有良好的线性关系,且动态范围较大。

电子技术基础教程第9章光电子器件及其应用优选全文

电子技术基础教程第9章光电子器件及其应用优选全文

光敏电阻将光的强弱变化转变为电阻值的差异,从而
可以由流过电流表的不同电流直接显示亮度。其中R1、 R2用于调节表面刻度,RW用于控制表头的灵敏度。
2024/10/9
19
(2)红外测温仪的前置放大电路
调制光入射光敏电阻后转化为电信号,然后送放大
器进行放大。输出uO的大小即可反映温度的高低。
2024/10/9
光电耦合器件:光电器件与电光器件的组合。
2024/10/9
2
9.1 发光二极管(LED)
9.1.1 发光二极管的工作原理 1.发光二极管的外形、电路符号和伏安特性
外形图:
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3
电路符号和伏安特性
•LED的正向工作电压UF一般为1.5~3V; •反向击穿电压一般大于5V;
•正向工作电流IF为几毫安到几十毫安,且亮度随IF的增加而
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9.2.1 光电器件及其应用
箭头与
LED符号
1.光电二极管外形、电路符号及工作原理 的区别
外形
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光导模式
电路符号
光伏模式
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2.光电二极管的应用
(1)光电二极管的简单应用电路
光照射,2CU导 通,有电压输出
光照射2CU, VT导通, KA吸合。
简单光控电路
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光控继电器电路
增大;
•发光二极管正向工作电压的大小取决于制作材料;
•不同的半导体材料及工艺使发光二极管的颜色、波长、亮度、
光功率均不相同。
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2EF系列发光二极管的主要参数
型号
工作 电流
IF/mA
正向 发光 电压 强度

光电子技术基础

光电子技术基础

光电子技术基础•光电子技术概述•光源与光辐射•光电探测器与光电转换目录•光学系统与光路设计•光电子器件与工艺•光电子技术应用实例光电子技术概述01CATALOGUE光电子技术的定义与发展光电子技术的定义光电子技术是研究光与电子相互作用及其应用的科学领域,涉及光的产生、传输、调制、检测和处理等方面。

光电子技术的发展历程自20世纪初爱因斯坦提出光电效应以来,光电子技术经历了从基础研究到应用研究的逐步发展,现已成为现代科技领域的重要分支。

光电子技术在通信领域的应用主要包括光纤通信、无线通信和卫星通信等,实现了高速、大容量的数据传输。

通信领域光电子技术在显示技术方面的应用如液晶显示、有机发光显示等,为现代电子产品提供了丰富多彩的视觉体验。

显示技术光电子技术在太阳能利用、光伏发电等领域的应用,为可再生能源的开发和利用提供了技术支持。

能源领域光电子技术在生物医学领域的应用如光学成像、光动力疗法等,为疾病的诊断和治疗提供了新的手段。

生物医学随着微电子技术的发展,光电子器件将越来越微型化、集成化,实现更高的性能和更小的体积。

微型化与集成化人工智能和自动化技术的引入将进一步提高光电子系统的智能化水平,实现更高效的运行和管理。

智能化与自动化环保意识的提高将推动光电子技术向更环保的方向发展,如开发低能耗、无污染的光电子器件和系统等。

绿色环保光电子技术与材料科学、生物医学等学科的融合将产生更多的交叉学科和创新应用。

跨学科融合光源与光辐射02CATALOGUE利用物体加热到高温后产生的热辐射发光,如白炽灯、卤钨灯等。

具有连续光谱、色温低、显色性好等特点。

热辐射光源利用气体放电时产生的可见光辐射发光,如荧光灯、高压汞灯等。

具有高效、节能、长寿命等优点。

气体放电光源利用固体发光材料在电场或光场激发下产生的发光现象,如LED 、OLED 等。

具有节能环保、响应速度快、可调控性强等特点。

固体发光光源光源的种类与特性表示光源发出的总光能量,单位是流明(lm )。

《光电子技术基础》(第二版)Chap

《光电子技术基础》(第二版)Chap
光电效应定义
当光照射在物质上时,物质吸收光能并释放电 子的现象。
光电效应分类
包括外光电效应、内光电效应和光生伏特效应。
光电效应原理
光子能量大于物质禁带宽度时,光子被吸收并使电子从价带跃迁至导带,形成 光电子。
光电器件的工作原理
光电子发射
当光照射在物质上时,电子从物质表面逸出的现 象。
光生电流
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ光电器件受到光照时,产生光生电流的原理。
激光的波长与颜色
激光的波长取决于所使用的物质, 不同的物质产生不同波长的激光, 因此激光可以有多种颜色。
激光器的种类与结构
固体激光器
固体激光器使用固体材料作为增益介质,常见的有晶体和玻璃激光器。 其结构包括增益介质、泵浦源和光学谐振腔等部分。
气体激光器
气体激光器使用气体作为增益介质,常见的有氦氖激光器和二氧化碳 激光器。其结构包括放电管、反射镜和光学谐振腔等部分。
光通信系统的组成与原理
1 2
光源
用于产生光信号,常用的光源有激光器和发光二 极管。
光调制器
将电信号转换为光信号,常用的调制方式有直接 调制和间接调制。
3
光纤
传输光信号的介质,具有低损耗、高带宽等优点。
光通信系统的组成与原理
光检测器
将接收到的光信号转换为电信号,常用的检测器有光电二极管和 雪崩光电二极管。
射。
光的干涉与衍射
光的干涉
01
两束或多束相干光波在空间相遇时,会因相位差叠加产生干涉
现象。
光的衍射
02
光波在传播过程中遇到障碍物时,会绕过障碍物边缘产生衍射
现象。
干涉与衍射的应用
03
干涉和衍射现象在光学仪器、通信等领域有广泛应用,如干涉

光电子技术基础与应用习题答案

光电子技术基础与应用习题答案
6 第六章 光电探测技术(十一、十二讲)
7 第七章 光电显示技术(十三、十四、十五讲) 8 第八章 光通信无源器件技术(十六、十七、十八、十九讲) 9 第九章 光盘与光存储技术(二十、二十一、二十二讲) 10 第十章 表面等离子体共振现象与应用的探究(二十三讲) 11 第十一章 连续可调太赫兹超常材料宽带低损超吸收器(二十四讲)
8. 从麦克斯韦通式(2-28)出发,推导波动方程(2-44)。
1. 填空题:
第二章 习题答案(1)
第二章 习题答案(2)
第二章 习题答案(3)
6. 输出波长为=632.8nm的He-Ne激光器中的反射镜是在玻璃上交替涂覆ZnS和 ThF2形成的,这两种材料的折射率系数分别为1.5和2.5。问至少涂覆多少个双层 才能使镜面反射系数大于99.5%?
6. 输出波长为=632.8nm的He-Ne激光器中的反射镜是在玻璃上交替涂覆ZnS和 ThF2形成的,这两种材料的折射率系数分别为1.5和2.5。问至少涂覆多少个双层 才能使镜面反射系数大于99.5%?
7. 有m个相距为d的平行反射平面。一束光以倾角投射至反射面。设每一反射平面 仅反射一小部分光,大部分光仅透射过去;又设各层的反射波幅值相等。证明 当sin=/2d时,合成的反射波强度达到最大值,这一角度称为Bragg角。
第三章复习思考题(13)
4. 简述题 (8)简述光谱线展宽的分类,每类的特点与光谱线线型函数的类型。
第三章复习思考题(14)
4. 简述题 (8)简述光谱线展宽的分类,每类的特点与光谱线线型函数的类型。
4. 简述题
第三章复习思考题(15)
第三章复习思考题(16)
4. 简述题 (10)激光器按激光工作介质来划分可分为几类?各举出一个 典型激光器,并给出其典型波长、转换效率、典型优点。

光电子技术基础复习资料

光电子技术基础复习资料

选择题1、光电子技术在当今信息时代的应用主要有(abcd )A.信息通信B.宇宙探测C.军事国防D.灾害救援2、激光器的构成一般由(a )组成A.激励能源、谐振腔和工作物质B.固体激光器、液体激光器和气体激光器C.半导体材料、金属半导体材料和PN结材料D. 电子、载流子和光子3、光波在大气中传播时,引起的能量衰减与(abcd )有关A.分子及气溶胶的吸收和散射B.空气折射率不均匀C.光波与气体分子相互作用D.空气中分子组成和含量4、2009年授予华人高锟诺贝尔物理学奖,提到光纤以SiO2为材料的主要是由于( a )A.传输损耗低B.可实现任何光传输C.不出现瑞利散射D.空间相干性好5、激光调制器主要有(abc )A.电光调制器B.声光调制器C.磁光调制器D.压光调制器6、电光晶体的非线性电光效应主要与(ac )有关A.外加电场B.激光波长C.晶体性质D.晶体折射率变化量7、激光调制按其调制的性质有(cd )A.连续调制B.脉冲调制C.相位调制D.光强调制8、光电探测器有(abc )A.光电导探测器B.光伏探测器C.光磁电探测器D.热电探测元件9、CCD 摄像器件的信息是靠( b )存储A.载流子B.电荷C.电子D.声子10、LCD显示器,可以分为(abcd )A. TN型B. STN型C. TFT型D. DSTN型11、可见光的波长范围为(C )A. 200—300nmB. 300—380nmC. 380—780nmD. 780—1500nm12、电荷耦合器件分(A )A. 线阵CCD和面阵CCDB. 线阵CCD和点阵CCDC. 面阵CCD和体阵CCDD. 体阵CCD和点阵CCD填空题1、黑体是指一个物体能全部吸收投射在它上面的辐射而无反射。

2、色温是指在规定两波长处具有与热辐射光源的辐射比率相同的黑体的温度。

其并非热辐射光源本身的温度。

3、声波在声光晶体中传播会引起晶体中的质点按声波规律在平衡位置振动,按照声波频率的高低以及声波和光波作用的长度不同,声光相互作用可以分为拉曼-纳斯衍射和布喇格衍射两种类型。

《光电子技术基础》(第二版)

《光电子技术基础》(第二版)
第8章 光通信无源器件技术
大家好
1
第8章 光通信无源器件技术
❖ 8.1光纤连接器 ❖ 8.2光衰减器 ❖ 8.3光耦合器 ❖ 8.4光波分复用器 ❖ 8.5光隔离器 ❖ 8.6 光开关
• 光纤通信、光纤传感及其他光纤应用领域不可缺少的光器件,
• 工作原理:遵守光线理论和电磁波理论, • 各项技术指标、计算公式、测试方大法家等好与纤维光学、集成光学息息相关。2
大家好
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8.1.5光纤固定连接器(固定接头或接线子)
作用:
使一对或几对光纤之间形成永久性连接,
要求
要求损耗低、后向反射光小、操作简便、性能稳定。 对互换性、重复性没有要求
制作方法:
➢熔接法:应用最广。插损很小,无后向反射光,理想接头 ➢V形槽法:多芯连接。插损小,后向反射小,小巧、操作简 ➢毛细管法:插损小,一定后向反射光,小巧、操作简,适合野外作业 ➢套管法:插损小,一定后向反射光,小巧、操作简便,适合野外作业
大家好
10
8.1.2 影响插入损耗的各种因素(3)端面间隙损耗
❖ 由于光纤连接端面处存在间隙Z而引起的损耗 ❖ 多模渐变光纤在模式稳态分布时,端面间隙损耗:
ILZ 10lg14Za1nn0
n0:空气折射率,Z: 端面间隙。
❖ 单模光纤端面间隙Z引起的损耗:
IZ L 1 l1 g 0 Z 2 n 2 w 2 2 1
RL10lgPr (dB) P0
其中RL为插损,Pi 为输入端光功率, Pr为后向反射光功率。
• 回损越大越好,以减少反射光对光源和系统的影响。 • 典型值初期要求应不小于25dB,现要求不小于38dB。
大家好
5
8.1.1 光纤连接器主要指标—(3)重复性与互换性

电子技术基础月考试题

电子技术基础月考试题

09级电子技术基础月考试题一、选择题(每小题2分,共60分。

每小题中只有一个选项是正确的)1.以下对PN结描述正确的是()。

A.P区接电路中的高电位,N区接低电位时,PN结导通B.N区接电路中的高电位,P区接低电位时,PN结导通C.PN结具有双向导电性能D.以上描述都不对2.在P型半导体中()。

A.只有自由电子B.只有空穴C.有空穴也有自由电子D. 以上都不对3. 一个二极管的反向击穿电压是150V,则其最高反向电压U R应是()A、大于150VB、等于150VC、约是75VD、不能确定4.PN结的基本特性是( )A . 放大B . 稳压C . 单向导电性D . 伏安特性5.当反向电压增大到一定数值时,二极管反向电流突然增大这种现象称为( )A. 正向稳压B. 正向死区 C . 反向截止D. 反向击穿6.需要工作在正向电压下的特殊二极管是( )A . 稳压二极管B . 光电二极管C . 发光二极管C 变容二极管7. 稳压值为6V的稳压二极管,温度升高,稳压值:()A.略有上升B.略有降低C.基本不变D.根据情况而变8.光电二极管当受到光照时电流将( )A 不变B 增大C 减小D 都有可能9. 当温度为20度时某二极管在路电压为Vd=0.7V。

某它参数不变,当温度升到40度时,Vd的大小将()A、等于0.7VB、大于0.7 VC、小于0.7VD、不能确定10. 电路中的一只二极管的正极电位是5V,负极电位是3V,则该二极管()A、正向导通B、截止C、击穿D、开路11.工作在放大状态的PNP型三极管,其三个电极上电位关系是()。

A.V C>V B>V E B.V C> V E > V BC.V C<V B<V E D.V C< V E < V B 12.三极管有个PN结。

A.2B.3 C.4 D.513.对三极管共集电极放大电路描述正确的是()。

A.基极是输入端,发射极是输出端B.发射极是输入端,基极是输出端C.发射极是输入端,集电极是公共端D.集电极是输入端,发射极是输出端14.静态工作点对放大器的影响,以下叙述正确的是()。

光电子学基础

光电子学基础

光电子学基础光电子学是研究光与电子的相互作用及其应用的学科,涵盖了光电效应、光电器件、激光技术等内容。

本文将从光电效应、光电器件和激光技术三个方面介绍光电子学的基础知识。

一、光电效应光电效应是指当光线照射到金属表面时,会产生电子的发射现象。

其中最具代表性的现象是经典光电效应,根据爱因斯坦光电效应方程E = hf - Φ,光子的能量hf必须大于金属的功函数Φ才能使电子脱离金属。

光电效应的实际应用包括光电池、光电倍增管等。

二、光电器件光电器件是指通过光电效应进行能量转换的器件,主要包括光电导、光电晶体、光电发射管等。

其中,光电导是将入射光线转换为电流的器件,它根据光线的强弱产生不同大小的电流。

光电晶体则是将光线转换为电压的器件,它利用光的能量使晶体产生正负电离子,从而形成电势差。

而光电发射管则是利用光电效应产生光电流的器件,广泛应用于通信和传感领域。

三、激光技术激光技术是光电子学的重要应用领域之一,它利用光子的共振放射产生一种高度聚焦、能量密度极高的激光束。

激光器是实现激光技术的关键装置,它将电能转换为高强度的光能。

激光的应用非常广泛,包括材料加工、医学治疗、通信传输等领域。

光电子学的研究与应用已经深入到各个方面,它在能源、通信、医疗等领域都有着重要的作用。

随着科学技术的发展,人们对光电子学的需求也将越来越大。

因此,深入研究光电子学的基础知识是非常重要的。

总结本文从光电效应、光电器件和激光技术三个方面介绍了光电子学的基础知识。

光电子学作为一门学科,在科学研究和应用中扮演着重要的角色。

通过研究光与电子的相互作用,我们可以深入了解光电效应的原理,并掌握光电器件和激光技术的相关知识。

相信随着科技的不断发展,光电子学的前景将更加广阔,为人类社会带来更多的创新和进步。

光电子技术答案

光电子技术答案

工作物质能实现能态集居数反转分布的条条件? 2)工作物质能实现能态集居数反转分布的条条件?上 述条件是必要条件还是充分条件?为什么? 述条件是必要条件还是充分条件?为什么? 三能级E 三能级E3 泵浦吸收带 内部条件 寿命较长的 亚稳态 外部条件 四能级E 四能级E4 产生激光的上能级
要求泵浦光足够强( 要求泵浦光足够强(Vp>VG)
四能级产生激光的能级是激发态E3和E2能级,在 产生激光的能级是激发态E 能级, 产生激光的能级是激发态 泵浦的作用使大量基态E 离子受激吸收 受激吸收跃迁到 泵浦的作用使大量基态E1的Nd3+离子受激吸收跃迁到 达能带E 离子在E 寿命极短, 达能带E4内,但Nd3+离子在E4上寿命极短,很快通过 非辐射驰豫过程(用曲线箭头S 表示) 非辐射驰豫过程(用曲线箭头S43表示)跃迁到寿命 过程 较长的亚稳态E3上。而能级E2的寿命又很短,进入该 较长的亚稳态E 而能级E 寿命又很短, 亚稳态 能态的粒子又很快非辐射跃迁( 表示)到基态, 能态的粒子又很快非辐射跃迁(又S21表示)到基态, 非辐射跃迁 所以N 约为0 这样N 在能态E 和能态E 所以N2约为0,这样N3≥N2,在能态E3和能态E2间实现 集居数分布反转。三能级模型与四能级模型相比, 了集居数分布反转。三能级模型与四能级模型相比, 在实现集居数分布反转上,要比四能级困难。 在实现集居数分布反转上,要比四能级困难。 困难
∆nt ≤ n
,
所以三能级系统的阈值能量或阈值功率要比四能级系
光学谐振腔的作用?(两种) ?(两种 7)光学谐振腔的作用?(两种)
选择激光模式,提高激光的相干性。 ①选择激光模式,提高激光的相干性。 ②提供光的正反馈,实现光的受激辐射放大。 提供光的正反馈,实现光的受激辐射放大。

光电子技术基础

光电子技术基础

光电子技术基础
光电子技术是一种新型的技术,是光学与电子学技术的结合,其基本特性来自于光学
和电子技术,它可以实现光学传输、电子控制、信号处理、信号分析等功能,在许多研究
领域得到广泛应用,并作用于如通讯、精密仪器仪表等工业领域。

光电子技术的基础是光学和电子学,而光学是研究光的分布规律,光的性质,光的传
播行为,光祯现象,光的控制以及与电磁波的相互作用的一门学科。

光学的概念的应用,
涵盖着从宇宙射线至紫外线的电磁波及比紫外线更小的电磁辐射,从动物视觉到人眼,以
及可以常识性地解释视觉特性,色彩、传播、像、成像、光纤等重要概念都涉及这门学科。

而电子学是研究基于电子在物理学现象、力学物理量及外加电场控制的物理系统的应用的
一门学科,电子学关注电话机、集成电路以及其他电子器件的设计和运行原理;此外,电
子学也关联量子力学、电磁波、传播,以及气体电子学。

从二者的融合演变中可以看到,光电子技术把以上两门学科的原理和理论都融入其中,开发出各种光电子器件,如激光器、激光显示器、光电池、图像传感器等,该技术还可以
实现以光信号为媒介进行传输的信息处理,如在沟通、视频调制解调、卫星通信、图像处
理等工程中,给相关行业带来了极大的发展。

光电子技术基础》第二版朱京平Cha

光电子技术基础》第二版朱京平Cha


美国 肖洛(A.L.Schawlow)/汤斯(C.H.Townes)(“红外和光学振荡
器”)

前苏联 N.G.Basow/M.Prohorov(实现三能级粒子数反转和半导体激光器
的建议)
• 1960年,美国 梅曼(T.H.Maiman) 红宝石激光器问世(波长694.3nm)
• 从理论到实现历时44年,原因有二:
x() e
E()
m (02 2 ) i
•简谐振子模型下,电子受迫振动的频率与驱动光波频率相同,
•受迫振动与驱动光场之间存在相位差(式中含有i 项)
由上述过程可知:
(可1)以当看出,若0 不考虑时,,则电x子(ω先)吸为收有少限量恒光值能,,电引子起将受吸迫收振的动能,量并全辐部射辐次射波出。去由,x中(ω间)表
m
d2x dt 2
kx
m02
x
K:弹性系数,x:电子偏移平衡位置距离,m:电子质量,0 k m
:电子固
有频率。
电子在原子内部的运动形成固有频率为0的等幅简谐振子,向外辐射电磁波, 辐射场又对电子产生反作用,产生与电子速度成正比的阻尼力;
光波电磁场入射,对阻尼振子施加一个电磁力作用,电子运动方程变为:
• 为信息处理提供了稳定的载息媒介。
3.1 相干光源、非相干光源与激光 ——激光
• 1916年,美国 爱因斯坦,提出概念,指明获得途径 (《关于辐射的量子理论》)
• 1954年,美国 汤斯(C.H.Townes),研制成功MASER(致冷氨分子),
• 1958年,美国和前苏联科学家几乎同时提出了实现激光振荡的具体设想:
χ (ν)
Ne2 4π 2mε0ν0 Δν
1
4

光电子技术的基础原理

光电子技术的基础原理

光电子技术的基础原理随着科技的不断发展,光电子技术逐渐成为了新兴领域之一。

这种技术将光学和电子学相结合,实现了光的检测、发射、传输等一系列高科技产品的开发。

从掌上设备到飞机航天飞行器,从医学诊断到环境监测,光电子技术无处不在。

本文将着重介绍光电子技术的基础原理。

基本概念光电子技术是通过光与电子之间相互作用的方法将电磁波转换成电信号或者逆转化。

其中,光子和电子是基本的概念。

光子是量子电磁场的基本携能粒子,电子是带负电的基本粒子。

在光电子技术中,光和电子之间会相互作用,从而产生特定的效应。

光电效应光电效应是光与物质相互作用的一种基本过程,原理是光子辐射能量被物质的电子吸收,电子受到能量的激发而从原子或分子内层跃迁到外层,进而脱离物质并产生电子束。

同时,当光子与电子相遇时,电子会吸收光子的能量,产生电离能,电子被激发出,从而形成电子束。

光电探测器光电探测器是一种专门用于光电转换器件,可将光的能量转换为可视电信号输出。

常见的光电探测器有光电倍增管、光电晶体管、光导管、石英红外探测器等。

光电转化器件一般包括光电感应器、信号放大电路和信号输出电路等几部分。

光电感应器在感应到光信号后将信号转换成电信号,信号放大电路将电信号进行放大,然后将信号输出到目的地。

激光技术激光技术是一种将电能转化为光能的技术,它的基本原理是在种激光器中,泵浦光使能够引起共振放电的活性介质被激发,激光发射。

激光技术应用广泛,如在医疗领域中采用激光治疗癌症,以及在测距装置和制造业等领域中。

光通讯光通讯是指利用光作为信号传输的一种方式。

光通讯具有传输信息率高、可靠性强、广带宽等优势。

一般使用光导纤维来传输光信号,而发射或接收信号的装置则称为光收发器。

现在,光通讯应用越来越普及,如电话、网络、电视、广播等都在采用光通讯技术。

总结光电子技术源于光学和电子学的发展,并且将两种科学相结合。

光电子技术在现代社会中应用广泛,例如用于制造高科技的设备和医疗器材等。

光电子技术基础知识

光电子技术基础知识

光电子技术根底知识什么是光电子技术呢?收集知道或者学习了哪些光电子技术根底知识?光电子技术根底知识:光源选择的根本知识判断机器视觉的照明的好坏,首先必须了解什么是光源需要做到的!显然光源应该不仅仅是使检测部件能够被摄像头〞看见〞。

有时候,一个完整的机器视觉系统无法支持工作,但是仅仅优化一下光源就可以使系统正常工作。

比照度:比照度对机器视觉来说非常重要。

机器视觉应用的照明的最重要的任务就是使需要被观察的特征及需要被忽略的图像特征之间产生最大的比照度,从而易于特征的区分。

比照度定义为在特征及其周围的区域之间有足够的灰度量区别。

好的照明应该能够保证需要检测的特征突出于其他背景。

亮度:中选择两种光源的时候,最正确的选择是选择更亮的那个。

当光源不够亮时,可能有三种不好的情况会出现。

第一,相机的信噪比不够;由于光源的亮度不够,图像的比照度必然不够,在图像上出现噪声的可能性也随即增大。

其次,光源的亮度不够,必然要加大光圈,从而减小了景深。

另外,当光源的亮度不够的时候,自然光等随机光对系统的影响会最大。

鲁棒性:另一个测试好光源的方法是看光源是否对部件的位置敏感度最小。

当光源放置在摄像头视野的不同区域或不同角度时,结果图像应该不会随之变化。

方向性很强的光源,增大了对高亮区域的镜面反射发生的可能性,这不利于后面的特征提取。

在很多情况下,好的光源需要在实际工作中及其在实验室中的有一样的效果。

好的光源需要能够使你需要寻找的特征非常明显,除了是摄像头能够拍摄到部件外,好的光源应该能够产生最大的比照度、亮度足够且对部件的位置变化不敏感。

光源选择好了,剩下来的工作就容易多了!机器视觉应用关心的是反射光。

物体外表的几何形状、光泽及颜色决定了光在物体外表如何反射。

机器视觉应用的光源控制的诀窍归结到一点就是如何控制光源反射。

如何能够控制好光源的反射,那么获得的图像就可以控制了。

因此,在机器视觉应用中,当光源入射到给定物体外表的时候,明白光源最重要的方面就是要控制好光源及其反映。

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y
因此,当这两个光波穿过晶体后将产生一个相位差
3 3 ny n x 2 Ln0 63E z 2 n0 63V


(19)
式中的 V = Ez L 是沿Z 轴加的电压;当电光晶体和通光波长
确定后,相位差的变化仅取决于外加电压,即只要改变电压,
就能使相位成线性地变化。
n3 d ( 1 ) dn 2 n2
即得到(泰勒展开后也可得) :
3 nx 1 n0 63 Ez 2 3 n y 1 n0 63 Ez 2 nz 0
(16)

3 nx n0 1 n0 63 E z 2 3 n y n0 1 n0 63 E z 2 nz ne
2 2 Ex E y 2Ex E y 2 cos sin 2 A1 A2 A12 A2
项,即具有如下形式:
x2 y 2 z2 2 2 1 2 nx n y nz
(11 )
(11)式中, x’, y’, z’为加电场后椭球主轴的方向,通常称为感 应主轴;nx , n y , nz 是新坐标系中的主折射率,由于(10)式中的 x和 y是对称的 , 故可将 x 坐标和 y 坐标绕z轴旋转α角,于是从旧坐
出一个新的坐标系, 使(9)式在该坐标系中主轴化, 这样才可能确定 电场对光传播的影响。为了简单起见, 将外加电场的方向平行于 轴 zE,即 z E,
Ex Ey 0
, 于是(9)式变成:
x2 y2 z 2 2 2 2 63 xyEz 1 (10) 2 n0 n0 ne
为了寻求一个新的坐标系 (x’, y’, z’),使椭球方程不含交叉
将(8)式代入(4)式,便得到晶体加外电场E后的新折射率椭球方
程式:
x2 y2 z 2 2 2 2 41 yzEx 2 41 xzEy 2 63 xyEz 1 2 n0 n0 ne (9)
由上式可看出, 外加电场导致折射率椭球方程中“交叉”项的出
现, 说明加电场后, 椭球的主轴不再与 x, y, z 轴平行, 因此, 必须找
( 12 63 E z ) x2 ( 12 63 E z ) y2 1 n0 n0
(18)
1 1 1 2 2 2 ( 2 63 Ez ) x ( 2 63 Ez ) y 2 z 1 n0 n0 ne (14)
nz=ne y
这个椭圆的一个象限如图中的暗影部分 所示。它的长、短半轴分别与 x’ 和 y’ 重合, x’ 和 y’ 也就是两个分量的偏振方 向, 相应的折射率为 nx’ 和 ny’ 。 当一束线偏振光沿着z轴方向入射晶体, 且E矢量沿x方向,进入
光频
Eo
E
(折射率)随 Eo 的大小改变 '
电光效应
方向, ' 是张量。
光波在介质中的传播规律受到介质折射率分布的制约,而折
射率的分布又与其介电常量密切相关。晶体折射率可用施加电场
E的幂级数表示,即
n n0 E kE (1)
2
或写成
n n n0 E kE2 (2)
表1 KDP型(42m晶类)晶体的半波电压和 6 3 (波长=0.5um)
3.光偏振态的变化
根据上述分析可知,两个偏振分量间的差异,会使一个分
量相对于另一个分量有一个相位差(△),而这个相位差作用
就会(类似于波片)改变出射光束的偏振态。在一般情况下,出 射的合成振动是一个椭圆偏振光,用数学式表示为:
晶体(z=0)后即分解为沿x’和y’方向的两个垂直偏振分量。由于二
者的折射率不同, 则沿x’方向振动的光传播速度快, 而沿y’方向振 动的光传播速度慢, 当它们经过长度 L 后所走的光程分别为 nx’L
和ny’L, 这样, 两偏振分量的相位延迟分别为
x
3 n 2 nx L 2L (n0 1 n0 63 Ez ) 2 3 n 2 n y L 2L (n0 1 n0 63 Ez ) 2
(17)
结论:
由此可见,KDP晶体沿 Z(主)轴加电场时, 1. 由单轴晶变成了双轴晶体, 2. 折射率椭球的主轴绕z轴旋转了45o角, 3. 此转角与外加电场的大小无关, 4. 其折射率变化与电场成正比, (16)式的△n值称为电致折射率变化。这是利用电光效 应实现光调制、调Q、锁模等技术的物理基础。
(7)
而且 41 52 ,因此,这一类晶体独立的电光系数只有 41和 63两 个。将(7)式代入(6)式,可得:
电光系数:γ63
1 2 0, n 1 1 2 0, n 2 1 2 0, n 3 1 2 41 E x n 4 1 2 41 E y n 5 1 2 63 E z n 6 (8)
Chapter 3 光调制技术
1. 2.
3.
光束调制原理 晶体光学基础 光在晶体中的传播
4.
5. 6.
电光调制
声光调制 磁光调制
3.4 电光调制
3.4.1 光波在电光晶体中的传播
1. 2.
3.
电致折射率变化 电光相位延迟 光偏振态的变化 电光强度调制 电光相位调制 电光调制器的电学性能 电光波导调制器
对电光效应的分析和描述有两种方法:一种是电磁理论
方法,但数学推导相当繁复;另一种是用几何图形───折射
率椭球体(又称光率体)的方法,这种方法直观、方便,故通常 都采用这种方法。 在晶体未加外电场时,主轴坐标系中,折射率椭球由如 下方程描述:
x y z2 1 2 2 2 nx n y n z
3.4.2 电光调制
1. 2. 3. 4.
3.4.1 光波在电光晶体中的传播-电光效应
电光效应:介质在外加直流或低频电场作用下,由于极化 而出现光学特性(各向异性)的改变,影响到光波在介质 中的传播特性。 电光效应实质:在光波电场与外电场的共同作用下,使介 质出现非线性的极化过程。 (一)、电场作用下材料的非线性极化 (二)、电光系数张量 (三)、折射率椭球的形变 基本假设: 1. 外加电场为低频场(相对于光频) 2. 非中心反演对称晶体 3. 外加电场沿介电主轴作用
(4)
比较 (3)和 (4)两式可知,由于外电场的作用,折射率椭球各系数 1 2 随之发生线性变化,其变化量可定义为 n

1 ij E j 2 n i j 1
3
(5)
式中,γij 称为线性电光系数;i取值1,…,6;j取值1,2,3。 (5)式可以用张量的矩阵形式表式为:
2.电光相位延迟
电光效应引起的相位延迟。一种是电场方向与通光方向一致,
称为纵向电光效应;另一种是电场与通光方向相垂直, 称为横 向电光效应。仍以KDP类晶体为例进行分析, 沿晶体Z轴加电 场后,其折射率椭球如图2所示。如果光波沿Z方向传播,则 其双折射特性取决于椭球与垂直于Z 轴的平面相交所形成的 椭园。在(14)式中,令 Z = 0,得到该椭圆的方程为:
当光波的两个垂直分量Ex’ , Ey’ 的光程差为半个波长(相应的相位
V 或 差为π)时所需要加的电压,称为“半波电压”,通常以 V 2
表ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
示。由(19)式得到
V
2
c0 3 3 2 n 0 63 w n 0 63
(
20 )
半波电压是表征电光晶体性能的一个重要参数,这个电压越小越 好,特别是在宽频带高频率情况下,半波电压小,需要的调制功 率就小。半波电压通常可用静态法(加直流电压)测出,再利用 (20)式就可计算出电光系数 6 3 值。下表 为 KDP型(42m晶类)晶 体的半波电压和电光系数(波长=0.55um)的关系。
KDP(KH2PO4)类晶体属于四方晶系, 42m点群, 是负单轴晶 体, 因此有 n x n y n0 , n z ne , 且n0 ne , 这类晶体的电光张量为: 0 0 0

ij
0 0 41 0 0
0 0 0
52
0
0 0 0 0 63
y y' x'
450
x
图1加电场后的椭球的形变
1 1 2 63 E z 2 nx no 1 1 2 63 E z 2 n y n0 1 1 2 2 nz ne (15)
由于γ63 很小(约10-10m/V),一般是γ63EZ <<
利用微分式
1 , n02
d ( 12 ) 23 dn n n
式中,γ和 k 为常量,n0为未加电场时的折射率。在(2)式中, γE 是一次项,由 该项引起的折射率变化,称为线性电光效应或泡克耳斯(Pockels)效应;由二次 项γE2引起的折射率变化,称为二次电光效应或克尔(Kerr)效应。对于大多 数电光晶体材料,一次效应要比二次效应显著,可略去二次项。
1.电致折射率变化
标系到新坐标系的变换关系为:
z z' x x cos y sin y x sin y cos
将(12)式代入(10)式,可得:
y’
y
α
x’ x
(12)
1 1 1 2 2 2 ( 2 63 EZ sin 2 ) x ( 2 63 Ez sin 2 ) y 2 z n0 n0 ne 2 63 Ez cos 2xy 1 (13)
• 考虑 D ~ E 关系,(为简化,设外加电场
// 晶体某主轴,则 D // E ,标量关系);
线性
D E E E
2 3
D
射频
dD ' 2E 3E 2 dE
斜率,代表介质材料对电场响应的大小 • E 为光频时, ' 相当于光频折射率; • E 为射频时, ' 相当于射频介电系数; • 同时存在射频和光频时,相当于工作点 设在 ,并对光频产生响应。 Eo 若外加电场不在主轴
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