半导体物理学考试大纲

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杭州电子科技大学《半导体物理》考研大纲_杭电考研论坛

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杭州电子科技大学《半导体物理》考研大纲一、物理基础1.晶体中原子的结合。

2.晶体结构与对称性。

3.常见晶体结构。

4.晶格振动与声子。

5.光学声子与声学声子。

二、半导体材料的能带结构1.能带的形成。

2.导带、价带、禁带及禁带宽度。

3.材料的导电性能与能带结构的关系。

4.直接带隙与间接带隙。

5.导带电子与价带空穴,载流子。

6.电子与空穴的有效质量。

7.施主与受主,类氢原子近似。

8.P型、N型和本征半导体材料的特点。

9.杂质对半导体导电性能的影响。

三、半导体材料的电学性能1.外场下半导体材料中载流子的运动形式。

2.半导体材料的迁移率与电导率。

3.半导体材料的电学性能随温度的变化。

4.半导体材料的电学性能随杂质浓度的变化。

5.半导体材料的光电导与非平衡载流子。

6.半导体材料的霍尔效应。

7.半导体材料的热电现象。

四、半导体器件1.PN结的结构与电学性能,I-V曲线。

2.MOS器件的结构、工作原理及电学性能特点。

3.双极型三极管的结构、工作原理及电学性能特点4.发光二极管的工作原理。

5.太阳能电池的工作原理。

6.半导体温度传感器的工作原理。

五、半导体材料分析测试技术1.半导体材料禁带宽度的测量方法。

2.半导体材料中杂质电离能的测量。

3.半导体材料载流子浓度的测量方法。

4.半导体材料电阻率的测量。

5.半导体材料中载流子迁移率的测量方法。

6.半导体材料中少数载流子寿命的测量方法。

参考书目:《半导体物理》(第1版),季振国编,浙江大学出版社,2005.9文章来源:文彦考研。

半导体物理复习提纲

半导体物理复习提纲

《半导体物理学》复习提纲第二章平衡状态下半导体体材的特性重点掌握描述每个量子态被电子占据的几率随能量E变化的分布函数;费米能级E F;本征半导体的载流子浓度;掺杂半导体的载流子浓度;第三章非平衡状态下半导体体材的特性重点掌握非平衡状态指的是什么;载流子的漂移输运现象;载流子的扩散输运现象;电导率方程;爱因斯坦关系;布尔兹曼关系;连续性-输运方程第四章平衡和偏置状态下的PN结特性重点掌握PN的能带图;接触势;PN结的偏置;耗尽区厚度与电压的关系;结电容第五章PN结的伏-安特性重点掌握肖克莱定律;正偏条件下的PN 结特性;反偏条件下的PN 结特性;PN 结的瞬态特性第六章半导体表面和MIS 结构重点掌握p 型和n 型半导体积累、耗尽、反型和强反型状态下的表面感生电荷层 表面势;p 型和 n 型半导体在积累、耗尽、反型和强反型状态下的能带结构MIS 结构的 C-V 第七章 金属-半导体接触和异质结重点掌握金属和掺杂半导体形成的接触; 肖特基势垒; 功函数;半导体的亲和能;例题:1,分别计算比E F 高2kT 、3 kT 和低2 kT 、3 kT 能级电子的占有几率(e = 2.7183)。

解:(1) 比E F 高2kT 的能级2FEE kT根据21110.1192117.38911FE E kTf Ee e(2) 比E F 高3kT 的能级3FEE kT根据31110.0474121.08591FE E kTf Eee(3) 比E F 低2kT 的能级2FE EkT根据21110.8807110.13531FE E kTf Eee(4) 比E F 高3kT 的能级3FE EkT根据31110.95251 1.04981FE E kTf Eee比E F 高2kT ,3 kT 和低2 kT ,3 kT 能级电子的占有几率分别是12%、5%、88% 和95%。

2,设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近的能量能量E c (k ) 为222213C k k k E kmm价带极大值附近的能量E v (k ) 为式中m 为电子质量,k 1 = π/a ,a = 3.14Å 试求:(1)该晶体的禁带宽度;(2)导带底电子的有效质量; (3)价带顶电子的有效质量。

831半导体物理考试大纲

831半导体物理考试大纲

831半导体物理考试大纲
对于半导体物理考试大纲,我们需要从多个角度来进行分析和
回答。

首先,我们可以从课程内容和重点知识点入手,其次可以探
讨考试形式和题型,最后可以谈论备考方法和建议。

从课程内容和重点知识点来看,半导体物理考试大纲通常涵盖
以下内容,半导体的基本概念、晶体结构与晶格常数、载流子的统
计物理、半导体的能带结构、半导体的导电性质、PN结与二极管、
场效应晶体管、光电子器件等。

学生需要掌握半导体物理的基本理
论知识,包括晶体结构、能带理论、载流子的行为以及半导体器件
的工作原理等内容。

在考试形式和题型方面,半导体物理考试大纲可能涵盖选择题、填空题、计算题和简答题等多种题型。

选择题考察学生对知识点的
掌握程度,填空题和计算题考察学生对公式和理论的运用能力,而
简答题则考察学生对概念的理解和分析能力。

针对备考方法和建议,学生可以通过系统地复习课本内容、做
大量的习题和模拟试卷来巩固知识,同时也可以结合实际应用场景,加深对知识的理解。

此外,建议学生多与老师和同学讨论,多加强
实验操作,以便更好地理解和掌握半导体物理的知识。

总的来说,半导体物理考试大纲涵盖了广泛的知识点和题型,
学生需要通过系统的复习和实践来全面准备,以取得理想的成绩。

希望以上回答能够帮助你对半导体物理考试大纲有一个全面的了解。

《半导体物理》考试大纲

《半导体物理》考试大纲

《半导体物理》考试大纲一、考试内容(一)、晶格结构和结合性质§1.1晶体的结构晶格的周期性、金刚石结构、闪锌矿结构和钎锌矿结构§1.2半导体的结合性质共价结合和离子结合、共价四面体结构、混合键(二)、半导体中的电子状态§2.1 晶体中的能带原子能级和固体能带、晶体中的电子状态§2.2 晶体中电子的运动§2.3 导电电子和空穴§2.4 常见半导体的能带结构§2.5 杂质和缺陷能级施主能级和受主能级、n型半导体和p型半导体、类氢模型、深能级杂质、等电子杂质(三)、电子和空穴的平衡统计分布§3.1 费米分布函数§3.2 载流子浓度对费米能级的依赖关系态密度、载流子浓度§3.3 本征载流子浓度§3.4 非本征载流子浓度杂质能级的占用几率、单一杂质能级情形、补偿情形(四)、输运现象§4.1 电导和霍尔效应的分析§4.2 载流子的散射§4.3 电导的统计理论(五)、过剩载流子§5.1 过剩载流子及其产生和复合§5.2 过剩载流子的扩散一维稳定扩散、爱因斯坦关系§5.3 过剩载流子的漂移和扩散§5.7 直接复合§5.8 间接复合§5.9 陷阱效应(六)、pn结§6.1 pn结及其伏安特性§6.3 pn结的光生伏特效应§6.4 pn结中的隧道效应(七)、半导体表面层和MIS结构§7.1 表面感生电荷层§7.2 MIS电容理想MIS结构的C-V特性、实际MIS结构的C-V特性、Si-SiO2系统中电荷的实验研究(八)、金属半导体接触和异质结§8.1 金属-半导体接触§8.2 肖特基二极管的电流越过势垒的电流、两极管理论、扩散理论、隧穿电流和欧姆接触§8.4 异质结§8.6 半导体超晶格注:以上的考试大纲内容大约是参考书内容的一半,这是必须掌握的,也是考试的主要范围,其余部分可作进一步学习的参考。

820--《半导体物理》考试大纲

820--《半导体物理》考试大纲

820--《半导体物理》考试大纲一、基本要求《半导体物理》硕士研究生入学考试内容主要包括半导体物理的基本概念、基础理论和基本计算;考试命题注重测试考生对相关的物理基本概念的理解、对基本问题的分析和应用,强调物理概念的清晰和对半导体物理问题的综合分析。

二、考试范围1、半导体中电子状态1.1 半导体的晶格结构和结合性质1.2 半导体中的电子状态和能带1.3 半导体中电子的运动有效质量1.4 本征半导体的导电机构空穴1.5 回旋共振1.6 硅,锗和砷化镓的能带结构2、半导体中杂质和缺陷能级2.1 硅、锗晶体中的杂质能级2.2 Ⅲ-Ⅴ族化合物中的杂质能级2.3 缺陷、位错能级3、半导体中载流子的统计分布3.1 状态密度3.2 费米能级和载流子的统计分布3.3 本征半导体的载流子浓度3.4 杂质半导体的载流子浓度3.5 一般情况下的载流子统计分布3.6 简并半导体4、半导体的导电性4.1 载流子的漂移运动迁移率4.2 载流子的散射4.3 迁移率与杂质浓度和温度的关系4.4 电阻率及其与杂质浓度和温度的关系4.5 玻耳兹曼方程电导率的统计理论4.6 强电场下的效应热载流子5、非平衡载流子5.1 非平衡载流子的注入和复合5.2 非平衡载流子的寿命5.3 准费米能级5.4 复合理论5.5 陷阱效应5.6 载流子的扩散运动5.7 载流子的漂移运动,爱因斯坦关系式5.8 连续性方程6、 p-n结6.1 p-n结及其能带图6.2 p-n结电流电压特性6.3 p-n结电容6.4 p-n结击穿。

半导体器件物理复习纲要word精品文档5页

半导体器件物理复习纲要word精品文档5页

第一章 半导体物理基础能带:1-1什么叫本征激发?温度越高,本征激发的载流子越多,为什么?1-2试定性说明Ge 、Si 的禁带宽度具有负温度系数的原因。

1-3、试指出空穴的主要特征及引入空穴的意义。

1-4、设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k)和价带极大值附近能量E v (k)分别为:2222100()()3C k k k E k m m -=+和22221003()6v k k E k m m =-;m 0为电子惯性质量,1k a π=;a =0.314nm ,341.05410J s -=⨯⋅,3109.110m Kg -=⨯,191.610q C -=⨯。

试求:①禁带宽度;②导带底电子有效质量;③价带顶电子有效质量。

题解:1-1、 解:在一定温度下,价带电子获得足够的能量(≥E g )被激发到导带成为导电电子的过程就是本征激发。

其结果是在半导体中出现成对的电子-空穴对。

如果温度升高,则禁带宽度变窄,跃迁所需的能量变小,将会有更多的电子被激发到导带中。

1-2、 解:电子的共有化运动导致孤立原子的能级形成能带,即允带和禁带。

温度升高,则电子的共有化运动加剧,导致允带进一步分裂、变宽;允带变宽,则导致允带与允带之间的禁带相对变窄。

反之,温度降低,将导致禁带变宽。

因此,Ge 、Si 的禁带宽度具有负温度系数。

1-3、准粒子、荷正电:+q ; 、空穴浓度表示为p (电子浓度表示为n ); 、E P =-E n (能量方向相反)、m P *=-m n *。

空穴的意义:引入空穴后,可以把价带中大量电子对电流的贡献用少量空穴来描述,使问题简化。

1-4、①禁带宽度Eg 根据dk k dEc )(=2023k m +2102()k k m -=0;可求出对应导带能量极小值E min 的k 值: k min =143k , 由题中E C 式可得:E min =E C (K)|k=k min =2104k m ;由题中E V 式可看出,对应价带能量极大值Emax 的k 值为:k max =0;并且E min =E V (k)|k=k max =22106k m ;∴Eg =E min -E max =221012k m =222012m a π =23423110219(1.05410)129.110(3.1410) 1.610π----⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯=0.64eV②导带底电子有效质量m n2222200022833C d E dk m m m =+=;∴ 22023/8C n d E m m dk == ③价带顶电子有效质量m ’ 22206V d E dk m =-,∴2'2021/6V n d E m m dk ==- 掺杂:2-1、什么叫浅能级杂质?它们电离后有何特点?2-2、什么叫施主?什么叫施主电离?2-3、什么叫受主?什么叫受主电离?2-4、何谓杂质补偿?杂质补偿的意义何在?题解:2-1、解:浅能级杂质是指其杂质电离能远小于本征半导体的禁带宽度的杂质。

2023 804半导体物理大纲

2023 804半导体物理大纲

2023年804半导体物理大纲一、导言在当今信息社会,半导体技术正在发挥着日益重要的作用。

而要学习半导体技术,就必须首先了解半导体物理这门学科的基本知识。

本文将介绍2023年804半导体物理的大纲内容。

二、大纲内容1. 半导体基本概念(1) 半导体的定义和特性(2) 半导体材料的分类与特点(3) 禁带宽度和载流子2. 半导体的基本物理过程(1) 载流子的产生与复合(2) PN结的形成和特性(3) 势垒和击穿电压3. 半导体器件(1) PN结二极管的特性和应用(2) 晶体管的结构和工作原理(3) MOS场效应管的特性和应用4. 半导体材料特性(1) 硅(Si)材料的物理特性(2) 加工工艺与性能测试(3) 新型半导体材料的研究进展5. 半导体器件的制造工艺(1) 制造工艺的基本流程(2) 光刻、腐蚀、沉积等工艺的原理和方法(3) 半导体器件的后工艺处理6. 半导体器件的应用(1) 信息通信领域(2) 光电子领域(3) 消费电子领域三、大纲解读本大纲内容涵盖了半导体物理学科的基本理论、典型器件原理和制造工艺,并涉及到半导体材料的特性和应用。

通过学习这些内容,能够使学生对半导体物理学科有一个系统和全面的了解,为今后从事相关领域的研究和应用打下良好的基础。

四、总结半导体技术的发展日新月异,学习半导体物理知识已经成为大势所趋。

深入了解半导体物理的基本知识和原理是十分必要的。

希望通过本文的介绍,能够对读者理解2023年804半导体物理大纲内容有所帮助。

在2023年,半导体技术已经成为信息技术、通信、光电子、消费电子等领域的关键支撑,半导体物理的重要性也日益凸显。

在这样的背景下,学习半导体物理已经成为许多科学技术专业的必修课程。

2023年804半导体物理大纲的内容将更加注重半导体技术的前沿研究和创新应用,以适应日益发展的半导体产业需求。

在半导体基本概念部分,除了介绍半导体的定义和特性外,还将加入对新型半导体材料如石墨烯、氮化镓等的介绍,以及其在半导体器件中的应用。

半导体物理考试大纲

半导体物理考试大纲

《半导体物理》考试大纲考试科目名称:半导体物理Ⅱ考试科目代码:[829]一、考试要求:要求考生系统地掌握半导体物理的基本概念和基本原理,并能利用基本原理分析半导体的物理性能。

要求考生对半导体的晶体结构和能带论、载流子统计分布、载流子输运过程、p-n结理论、金属-半导体接触理论、半导体光电效应等基本原理有很好的掌握,并能熟练运用分析半导体的光电特性。

二、考试内容:1)半导体晶体结构和能带论a:半导体晶格结构及电子状态和能带b:半导体中电子的运动c:本征半导体的导电机构d:硅和锗及常用化合物半导体的能带结构2)杂质半导体理论a:硅和锗晶体中的杂质能级b: 常用化合物半导体中的杂质能级c: 缺陷、位错能级3)载流子的统计分布a:状态密度与载流子的统计分布b:本征与杂质半导体的载流子浓度c:一般情况下载流子统计分布d: 简并半导体4)半导体的导电性a:载流子的漂移运动与散射机构b:迁移率、电阻率与杂质浓度和温度的关系c:多能谷散射、耿氏效应5)非平衡载流子a:非平衡载流子的注入、复合与寿命b:准费米能级c:复合理论、陷阱效应d:载流子的扩散、电流密度方程e:连续性方程6)p-n结理论a: p-n结及其能带图b: p-n结电流电压特性c: p-n结电容、p-n结隧道效应7)金属-半导体接触理论a:金-半接触、能带及整流理论b:欧姆接触8)半导体光电效应a:半导体的光学性质(光吸收和光发射)b:半导体的光电导效应c:半导体的光生伏特效应d:半导体发光二极管、光电二极管三、试卷结构:a)考试时间:180分钟,满分:150分b)题型结构a:概念及简答题(60分)b:论述题(90分)c)内容结构a:半导体晶体结构和能带论及杂质半导体理论(30分)b: 载流子的统计分布(20分)c: 半导体的导电性(20分)d: 非平衡载流子(20分)e: p-n结理论和金属-半导体接触理论(30分)f: 半导体光电效应(30分)四、参考书目1. 刘恩科,朱秉升,罗晋升编著. 半导体物理学. 电子工业出版社, 2011.03.2. [美]施敏(S.M.Sze),半导体器件物理,电子工业出版社,1987.12.。

《半导体物理学》考研大纲

《半导体物理学》考研大纲

《半导体物理学》(科目代码843)考试大纲
特别提醒:本考试大纲仅适合2010年微电子学与固体电子学专业的《半导
体物理》考试科目。

1.考研建议参考书目
刘恩科等著《半导体物理学》,国防工业出版社; 或西安交通大学出版社ISBN 7-5605-1010-8/TN.54。

2.基本要求
(1)掌握半导体中的电子状态和能带;本征半导体中的导电机构和空穴;半导体中电子的运动和有效质量;硅和锗的能带结构和Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体的能带结构。

(2)掌握半导体中杂质和缺陷能级;重点掌握硅、锗晶体中的杂质能级和Ⅲ-Ⅴ族化合物中的杂质能级。

(3)掌握半导体中载流子的统计分布理论以及简并半导体的基础理论;并掌握本征半导体和杂质半导体的载流子浓度和一般情况下的载流子统计分布。

(4)掌握半导体的导电性理论;载流子的散射;迁移率、电阻率及其杂质浓度和温度的关系;强电场下的热载流子效应和耿氏效应。

(5)掌握非平衡载流子的注入、复合、寿命;准费米能级;复合理论。

并掌握载流子的扩散运动;漂移运动和爱因斯坦关系式及连续性方程。

(6)掌握p-n结及其能带图,p-n结电流电压特性,p-n结电容和p-n结击穿与隧道效应的基础知识。

(7)掌握金属与半导体的接触及其能带图;金属半导体接触整流理论基础知识。

(8)掌握半导体表面和表面电场效应;MIS结构的电容-电压特性,硅-二氧化硅系统的性质。

(9)掌握异质结及其能带图,异质结的电流输运机构基础知识。

考试大纲-半导体物理

考试大纲-半导体物理

半导体物理考试大纲第一部分:半导体中的电子状态一.理解下列基本概念能级,能级简并化,共有化运动,能带(导带,价带,满带,空带),禁带,有效质量,纵向(横向)有效质量,k空间等能面,本征半导体,本征激发,空穴(重空穴,轻空穴),载流子。

二.分析掌握下列基本问题1.能带的特点,能带的杂化,能带的描述。

2.导体,半导体,绝缘体能带结构的区别。

3.本征半导体的导电原理。

4.Si,Ge,GaAs能带结构的异同点。

第二部分:半导体中杂质和缺陷能级一.理解下列基本概念杂质,替位式杂质,间隙式杂质,杂质能级施主杂质,施主能级,正电中心,施主电离,电离能,n型半导体受主杂质,受主能级,负电中心,受主电离,P型半导体浅能级杂质,深能级杂质,杂质补偿,中性杂质二.分析掌握下列基本问题1.N型半导体和p型半导体的导电原理2.某些杂质在半导体中产生若干个能级的原理3.杂质的补偿原理及其利弊4.位错在Si(Ge)中起施主或受主作用的原理,及其对Eg的影响第三部分:半导体中载流子的统计分布一.理解下列基本概念热平衡状态,热平衡载流子,费米能级非简化性系统,非简并半导体,简并性系统,简并半导体有效状态密度,状态密度有效质量,多数载流子,少数载流子二.分析掌握下列基本问题1.费米分布函数的性质2.玻氏分布代替费米分布的条件3.导带电子浓度和价带空穴浓度表示式分析推导的思想方法4.杂质半导体EF随杂质浓度变化关系,随温度的变化关系5.载流子浓度随温度的变化关系6.区分半导体载流子出现非简并,弱简并,简并的标准5.各种热平衡状态下半导体电中性条件三.熟识公式并运用1.费米分布函数表示式2.玻氏分布函数表示式3.导带电子浓度,价带空穴浓度表示式4.本征载流子浓度表示式,本征费米能级表示式5.载流子浓度乘积表示式,及其与本征载流子浓度的关系6.饱和电离温度区载流子浓度及EF的表示式(n型和p型半导体)7.过渡温度区载流子浓度表示式(n-s 和p-s)8.简并半导体载流子浓度表示式9.已电离杂质浓度表示式第四部分:半导体的导电性一.理解下列基本概念电流密度,漂移运动,平均漂移速度,迁移率自由时间,平均自由时间,电导有效质量载流子散射,散射几率,格波,声子,弹性散射,非弹性散射热载流子二.分析掌握下列基本问题1.迁移率概念的引进,迁移率简单理论分析的思想方法2.电离杂质散射机理3.迁移率与杂质和温度的关系4.电阻率与杂质和温度的关系5.波尔兹曼方程建立的思想方法6.统计理论分析与简单理论分析得到半导体电导率结果比较7.强电场作用下半导体发生欧姆定律偏离的原因,热载流子产生三.熟识公式并运用1.欧姆定律的微分形式2.电导率表示式(混合型,n型,p型,本征型半导体)3.迁移率表示式4.电离杂质散射和晶格散射几率与温度关系5.电阻率表示式(混合型,n型,p型,本征型半导体)6.波尔兹曼方程表示式7.电导率统计理论的结果表示式第五部分:非平衡载流子一.理解下列基本概念载流子的产生率,复合率,净复合率电子—空穴对的复合几率,半导体非平衡态;非平衡载流子非平衡载流子的复合率,复合几率,积累率准费米能级,非平衡载流子寿命,有效寿命(表观寿命)直接复合,简介复合,表面复合,复合截面,复合中心,复合中心能级陷阱效应,陷阱,陷阱中心扩散系数,扩散长度,扩散速度,牵引长度二.分析掌握下列基本问题1.半导体热平衡态和非平衡态特点的比较2.非平衡载流子的注入与检验的方法的原理3.非平子随时间衰减规律,及其推证思想方法,寿命τ的物理意义4.准费米能级的特点5.复合过程的性质6.直接复合过程分析7.间接复合的特点,间接复合过程的分析8.金在Si中如何起复合中心作用9.表面复合存在的依据及解释10.杂质在半导体中的作用,杂质能级在怎样情况下才有明显的陷阱效应作用,怎样分析最有效的陷阱11.一维稳定扩散的特点,一维稳定扩散的分析思想方法12.爱恩斯坦关系推证的思想方法13.非平载流子既漂移又扩散时的非平子浓度分析14.连续性方程的意义以及具体情况下的求解三.熟识公式并运用1.非平衡载流子随时间衰减规律表示式2.非平衡载流子复合率与非平衡载流子浓度关系表示式3.非平衡导体电子浓度(价带空穴浓度)表示式4.直接复合机构决定的非平衡载流子寿命表示式(大,中,小信号)5.间接复合理论分析得到的非平衡载流子寿命表示式6.连续性方程表示式第六部分:金属和半导体接触一.理解下列基本概念半导体表面,空间电荷区,表面势,表面势垒,表面势垒高度功函数,接触电势垒,接触势垒,高阻区(阻挡层),高电导区(反阻挡层)耗尽层,少子注入,欧姆接触,肖特基势垒二.分析掌握下列基本问题1.外电场作用下半导体表面空间电荷区的形成,表面层电场,电势,电势能的分布及能带图。

半导体物理参考书和考试大纲

半导体物理参考书和考试大纲

北大半导体物理"参考书和考试大纲
参考书:可选用下面两本参考书中的任一本。

1、叶良修,"半导体物理学"(上册),高等教育出版社, 1994年。

2、刘恩科等,"半导体物理学",国防工业出版社, 1989年。

考试大纲:
1、晶格结构和结合性质
(对应参考书1中的§1.1-§1.3,参考书2中的§1.1,§2.3).
2、半导体中的电子状态
(对应参考书1中的§2.1-§2.7,参考书2中的§1.2-§1.4,
§1.6-§1.7, §2.1-§2.2).
3、电子和空穴的平衡统计分布
(对应参考书1中的§3.1-§3.5,参考书2中的§3.1-§3.6).
4、输运现象
(对应参考书1中的第四章,参考书2中的§4.1-§4.6).
5、过剩载流子
(对应参考书1中的第五章,参考书2中的第五章).
6、pn结
(参考书1 中的第六章,参考书2中的第六章).
7、半导体表面和MIS结构
(对应参考书1中§7.1-§7.4,参考书2中的§8.1-§8.5).
8、金属半导体接触和异质结
(对应参考书1中的§8.1-§8.5,参考书2中的§9.1-§9.3).
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《半导体物理》课程考试大纲 .doc

《半导体物理》课程考试大纲 .doc

《半导体物理》课程考试大纲一、适用专业:集成电路工程二、参考书目:1.刘恩科朱秉升编,半导体物理学,国防工业出版社三、考试内容与基本要求:第一章绪论[考试要求]本章要求学生掌握本课程研究的对象和内容,了解半导体材料及器件的应用,了解本课程的基本要求;了解与半导体晶体相关的概念,重点掌握倒格子、布里渊区的概念,重点了结晶体中的缺陷、晶格振动和晶体中的电子运动。

[考试内容]①晶格、格点、基矢、布里渊区、倒格子等概念②晶体中的缺陷、晶格振动③晶体中的电子运动第二章半导体中的电子状态[考试要求]本章要求学生掌握电子、空穴和有效质量的概念,重点了解和掌握半导体的能带结构,了解半导体中的杂质和缺陷能级。

[考试内容]①电子、空穴和有效质量的概念②能带论,并用能带理论解释半导体物理学中的一些现象③常用半导体的能带结构④半导体中的杂质和缺陷第三章热平衡状态下载流子的统计分布[考试要求]本章要求学生掌握状态密度及费米能级的概念,掌握热平衡状态下本征半导体及杂质半导体的载流子浓度,了解非简并情况下费米能级和载流子浓度随温度的变化。

[考试内容]①状态密度及费米能级的概念以及它们的表达式②热平衡状态下本征及杂质半导体的载流子浓度③非简并情况下费米能级和载流子浓度随温度的变化④简并半导体第四章载流子的漂移和扩散[考试要求]本章要求学生掌握半导体中载流子的各种散射机制,了解电阻率和迁移率与杂质浓度和温度的关系,掌握载流子的扩散和漂移运动、爱因斯坦关系。

[考试内容]①半导体中载流子的各种散射机制②电导率和迁移率③电阻率和迁移率与杂质浓度和温度的关系④载流子的扩散和漂移运动,爱因斯坦关系⑤强电场效应,热载流子第五章非平衡载流子[考试要求]本章要求学生掌握非平衡载流子的注入与复合,了解各种复合理论,连续性方程。

[考试内容]①非平衡载流子的注入与复合②各种复合理论③连续性方程第六章p-n结[考试要求]本章要求学生掌握p-n结概念及其能带图,掌握理想p-n结的电流电压关系,了解p-n 结电容,了解实际p-n结的电流电压关系、p-n结击穿、p-n结隧道效应等。

苏大半导体物理考试大纲

苏大半导体物理考试大纲

苏州大学硕士研究生入学考试
《半导体物理或集成电路设计原理》科目考查的内容范围
半导体物理部分
(一)基本晶体结构与半导体能带理论
1、掌握晶体的基本结构分类和半导体晶体结构
2、掌握半导体基本能带结构
3、半导体掺杂的基本方法
4、掌握费米统计、费米能级、有效质量、态密度的基本概念
5、掌握基本能带理论
(二)固体的散射机制与半导体的导电理论
1、掌握固体载流子迁移率的基本概念
2、掌握固体载流子散射的基本理论
3、掌握半导体导电率的基本概念
3、掌握半导体热载流子、多能谷效应等的基本概念
(三)非平衡载流子的运动、产生、复合
1、载流子扩散运动与漂移运动的基本理论
2、非平衡载流子的产生、复合
(四)PN结
1、空间电荷区、中性区的基本概念
2、PN结基本电流特性
3、PN结势垒电容与扩散电容的基本概念
4、PN结雪崩击穿与隧道击穿的基本概念
(五)金属半导体接触
1、肖特基结的整流特性
2、金属半导体欧姆接触特性
(六)MOS结构
1、MOS结构的电容特性
2、表面缺陷与散射性质
3、MOS结构的耗尽、积累和反型。

半导体物理学复习提纲(重点).pptx

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§6.5 p-n 结隧道效应 1、隧道结及其电流电压特性 什么是隧道结,隧道结的电流电压特性。 2、隧道结热平衡时的能带图 3、隧道结电流电压特性的定性解释
第七章 金属和半导体的接触
§7.1. 金属半导体接触及其能带图 1、金属和半导体的功函数 定义式
2、接触电势差 阻挡层概念及能带图。 3、表面态对接触势垒的影响
2mn* 3/ 2
h3
E Ec 1/ 2 ;
价带顶附近的状态密度: gv (E) 4V
2m*p 3/ 2
h3
EV E 1/ 2
§3.2 费米能级和载流子的浓度统计分布
Fermi 分布函数:
f (E)
1

1 exp E EF / k0T
Fermi 能级的意义:它和温度、半导体材料的导电类型、杂质的含量以及能量零点的选取有
理想 p-n 结的电流是少数载流子扩散形成的。但实际上还存在复合电流、大注入效应、
8
书山有 路
体电阻效应以及产生电流,使得实际电流-电压特性偏离理想情形。归纳如下

p+-n
结加正向偏压时,电流电压关系可表示为JF
exp
qV mk0T
,m

1~2
之间变化,
随外加正向偏压而定。 正向偏压较小时,m=2, JF∝exp(qV/2k0T),势垒区的复合电流起主要作用,偏离理想
则杂质浓度ND 较小时就发生简并;3)杂质浓度越大,发生简并的温度范围越宽;4)简并 时杂质没有充分电离;5)简并半导体的杂质能级展宽为能带,带隙宽度会减小。 3、杂质能带及杂质带导电。
第四章 半导体的导电性
§4.1 载流子的漂移运动 迁移率
欧姆定律的微分形式: J E ;

《半导体物理》考试大纲

《半导体物理》考试大纲

陕西科技大学硕士研究生入学考试
《半导体物理》考试大纲
一、考试要求
要求考生对半导体物理学的基本概念有深入的理解,系统掌握半导体物理学中基本定理和定律,并具有综合运用所学知识分析和解决问题的能力。

二、考试内容
1.晶体结构(金刚石、闪锌矿、纤锌矿结构)和半导体的结合性质;
2.半导体中电子状态:Ge、Si、GaAs 能带结构,半导体有效质量、空穴、杂质能级;回旋共振;
3.热平衡状态下半导体载流子的统计分布:状态密度,费米能级,本征半导体和杂质半导体的载流子浓度,简并半导体和重掺杂效应;
4.半导体的导电性:载流子的漂移运动、迁移率、散射的概念,半导体电导率随温度、杂质浓度的变化,强电场效应、热载流子,负阻效应;
5.非平衡载流子:非平衡载流子的注入与复合、寿命、准费米能级,爱因斯坦关系等概念,复合理论,陷阱效应和连续性方程;
6.p-n 结:平衡与非平衡p-n 结特点及其能带图,p-n 结理想和非理想I-V 特性,p-n 结电容与击穿机制,p-n 结隧道效应。

三、考试形式
考试形式均为笔试、闭卷。

参考书目:《半导体物理学》(第七版)刘恩科,电子工业出版社。

复试半导体物理考试大纲

复试半导体物理考试大纲

山东建造大学硕士研究生入学考试《半导体物理》考试大纲本大纲适用于山东建造大学凝结态物理的硕士研究生入学考试。

半导体物理学是现代微电子学与固体电子学的重要基础理论课程,它的主要内容包括半导体的晶格结构和电子状态;杂质和缺陷能级;载流子的统计分布;载流子的散射及电导问题;非平衡载流子的产生、复合及其运动逻辑;半导体的表面和界面─包括p-n结、金属半导体接触、半导体表面及MIS结构、异质结;半导体的光、热、磁、压阻等物理现象和非晶半导体部分。

要求考生对其基本概念有较深入的了解,能够系统地控制书中基本定律的推导、证实和应用,并具有综合运用所学知识分析问题和解决问题的能力。

(一)半导体的晶格结构和电子状态1.了解半导体的晶格结构和结合性质的基本概念。

2.理解半导体中的电子状态和能带的基本概念。

3.控制半导体中的电子运动逻辑,理解有效质量的意义。

4.理解本征半导体的导电机构,理解空穴的概念。

5.熟练控制空间等能面和盘旋共振的相关公式推导、并能灵便运用。

6.理解硅和锗的能带结构,控制有效质量的计算主意。

7.了解III-V族化合物半导体的能带结构。

8.了解II-VI族化合物半导体的能带结构。

(二)半导体中杂质和缺陷能级1.理解替位式杂质、间隙式杂质、施主杂质、施主能级、受主杂质、受主能级的概念。

2.容易计算浅能级杂质电离能。

3.了解杂质的补偿作用、深能级杂质的概念。

4.了解III-V族化合物中杂质能级的概念。

5.理解点缺陷、位错的概念。

(三)半导体中载流子的统计分布1.深入理解并熟练控制状态密度的概念和表示主意。

第 1 页/共 4 页2.深入理解并熟练控制费米能级和载流子的统计分布。

3.深入理解并熟练控制本征半导体的载流子浓度的概念和表示主意。

4.深入理解并熟练控制杂质半导体的载流子浓度的概念和表示主意。

5.理解并控制普通情况下的载流子统计分布。

6.深入理解并熟练控制简并半导体的概念,简并半导体的载流子浓度的表示主意,简并化条件。

868半导体物理考试范围

868半导体物理考试范围

868半导体物理考试范围摘要:一、前言二、半导体物理基本概念1.半导体的定义2.半导体材料分类3.半导体中的电子态三、半导体中的电子与空穴1.电子与空穴的产生2.电子与空穴的浓度3.电子与空穴的迁移率四、半导体中的电导现象1.半导体中的电导率2.半导体中的霍尔效应3.半导体中的光电效应五、半导体器件1.二极管2.晶体管3.场效应晶体管六、半导体物理的应用领域1.光电子器件2.微电子器件3.能源转换器件七、半导体的发展趋势与挑战1.新型半导体材料的研究2.半导体器件的微型化3.半导体产业的可持续发展正文:半导体物理是研究半导体材料的基本性质以及半导体中电子和空穴的行为规律的一门学科。

半导体在现代科技领域中具有重要的应用价值,如微电子、光电子和能源转换等。

本文将概述半导体物理的基本概念,以及半导体中的电子与空穴、电导现象、半导体器件和半导体物理的应用领域。

首先,我们需要了解半导体物理的基本概念。

半导体是一种介于导体和绝缘体之间的材料,其导电性能介于两者之间。

半导体材料可以分为元素半导体和化合物半导体两大类。

在半导体中,电子态既包括自由电子态也包括束缚电子态。

半导体中的电子与空穴是构成其导电性的基本因素。

电子与空穴的产生主要源于半导体中的杂质或光照。

电子与空穴的浓度受温度、掺杂浓度等因素影响。

电子与空穴的迁移率则反映了其导电性能。

半导体中的电导现象主要包括电导率和霍尔效应。

电导率是描述半导体中电子或空穴导电能力的物理量。

霍尔效应是指导电半导体在磁场作用下产生横向电压的现象。

半导体中的光电效应则是指光照射到半导体上产生的电子与空穴的现象。

半导体器件是半导体物理在实际应用中的重要体现。

常见的半导体器件包括二极管、晶体管和场效应晶体管等。

这些器件在放大、开关、调制等方面具有广泛的应用。

半导体物理的应用领域非常广泛,包括光电子器件、微电子器件和能源转换器件等。

光电子器件如发光二极管、激光二极管等,广泛应用于显示、通信和照明等领域。

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初试科目:半导体物理学参考书:半导体物理学 顾祖毅 田立林 富力文 电子工业出版社 考试大纲:第一章 半导体的晶格结构和缺陷 1 半导体的基本特性 2 常见半导体材料3 主要半导体器件及其可选用的材料4 常见半导体的结构类型5 名词解释化学键 共价键 离子键 分子键 金属键 晶格缺陷 间隙式杂质 代位式杂质 反晶格缺陷 层错 扩散系数 晶粒间界 第二章 半导体中的电子状态1 在周期性势场中,电子薛定谔方程的解为布洛赫函数,即波函数:1()()ik rk r u r e ψ⋅=()()k k n u r u r a =+布洛赫函数不是单色平面波。

K 为波矢,描述电子共有化运动。

平面波因子e ikr表明晶体中不再是局域化的,扩展到整个晶体之中,反映了电子的共有化运动。

u k (r)反映了周期性势场对电子运动的影响,说明晶体中电子在原胞中不同位置上出现的几率不同。

u k (r)的周期性说明晶体中不同原胞的各等价位置上出现的几率相同。

2 电子在周期场中运动的量子力学处理有几种近似的方法?试简述之。

(1)近自由电子近似 (2)紧束缚近似3 由于共有化运动,晶体中电子可以看成是整个晶体共有的,因此孤立原子的能级形成能带,能带通常只对有序的晶态物质而言,是关于晶体中电子运动的一种量子理论,它说明了晶体中电子能量限定在某些“带”中。

这种情况下,电子能量是按照电子的准动量hk 和电子波矢k 分类的,即电子的E(k)~k 关系。

4 能带中电子可用波矢k 描述其状态,即电子能量E 和速度v 都是k 的函数,即:22()2h kE k m =; 1 () dE v k h dk=;晶体中电子的所有运动状态都可以由k 空间一个有限的区域来描述,把k 空间的这个区域称为布里渊区。

5 有效质量:22*112221()()nd E d E m dphdk--==在能量极小值附近,*0n m >;在能量极大值附近,*0n m <。

利用有效能量的概念,不仅能象讨论自由电子一样讨论晶体电子的运动,而且由于*n m 与能带结构有关,有助于对能带的理解。

6 有效能量可以通过那些回旋共振实验测得?并据此推导半导体能带结构7 空穴具有正的有效能量,空穴导电实质就是价带中大量电子的导电;8 何谓类氢模型? 由类氢模型给出基态电离能。

9 名词解释布里渊区; 加速度; 有效能量; 空穴; 金属; 导体; 绝缘体; 半金属; k 空间; 杂质或缺陷能级; 局域化电子态: 施主杂质: 受主杂质; 本征半导体; n 型半导体; p 型半导体; 重掺杂半导体。

第三章 平衡载流子浓度1 何谓态密度? 试导出(1)球型等能面 (2)旋转椭球等能面 (3)价带顶简并三种情况下的态密度2 晶体中电子的能量状态是量子化的,电子在各状态的分布遵循费米分布规律3 费米能级E F 是决定各个能级上电子和空穴统计分布的重要参数,它充分反映了半导体的掺杂情况。

4 热平衡下,简并半导体的电子和空穴浓度;非简并半导体的电子和空穴浓度5 由载流子浓度的基本公式出发,可以确定费米能级的位置。

本征半导体的费米能级E F (1)杂质电离区(a )低温弱电离区: (b )中等电离区: (c )强电离区:6 何谓简并半导体?试讨论简并的具体条件。

第四章 弱场下的载流子运输1 电子在热运动时,不断受到晶格振动和杂质的散射作用,因而不断地改变运动方向。

半导体中的主要散射机构是电离杂质散射和晶格振动散射,而晶格震动散射主要以长纵光学波和长纵声学波为主,散射作用的强弱用散射几率P(或平均自由时间τ=l /P)和平均自由程1来衡量。

2 当几种散射机构同时存在时,总的散射几率应为各种散射机构引起的散射几率之和,即 i P P =∑用动量驰豫时间表示应为:11iττ=∑迁移率为:11iμμ=∑3 电导率:20/n n n n q m στ= 20/pp p p q m στ=欧姆定律:i ij j j σε=∑4 通电半导体垂直电流方向加磁场后,在垂直于电流和磁场的方向上产生横向电场,这个现象称为霍尔效应。

霍尔效应的实质是带电粒子在磁场中运动受到洛文兹力的结果。

实验测定表明,霍尔电场y ε与电流密度x j 和磁感应强度z B 成正比,即:Y H X Z R j B ε= H R 称为霍尔系数。

一种载流子导电,不计入速度分布: 01/H p R p q =; 01/H n R n q =- 计入速度分布:222221H p v v R pqv ττ<><>=<>222221H n v v R nqv ττ<><>=<>当同时存在浓度为0n 的电子和浓度为0p 的空穴时:2200200()()H p n H p n p n R q p n μμμμμμ-=+其中///H H n n H p p μμμμμμ==利用霍尔效应可以判断半导体材料的导电类型,测量半导体的载流子浓度和迁移率,低温下霍尔效应实验还是研究半导体材料补偿度和杂质电离的有效方法。

5 磁阻效应是指半导体的电阻率随磁场改变而变化。

这种效应称为磁阻效应,磁阻的大小通常用相对值来描述。

0/()/B B B ρρρρρ∆=- 磁场(B Z )与电流(j Z )垂直时产生的磁阻称为横向磁阻。

磁场与电流平行时产生的磁阻称为纵向磁阻。

6 在半导体的热导率中,通常是晶格热导占主要地位,但在载流子浓度很高的半导体中,晶格热导和载流子热导则都要考虑,热导率是晶格热导率K L 和载流子热导率Ke 之和7 半导体的热电效应半导体的热电性质是指半导体把热能转换成电能的温差电现象,实质上是热现象和电现象通过了电子动能和费米能级相互联系起来的一种效应,主要有塞贝克效应,珀尔帖效应和汤姆逊效应。

(1)简述塞贝克效应的定义,温差电动势率,温差电动势形成的机理;(2)简述珀尔帖效应的定义,珀尔帖系数表达式,珀尔帖效应形成的机理; (3)简述汤姆逊效应的定义、表达式和形成机理。

8 半导体的热磁效应将有温度梯度但无电流的半导体置于磁场中,此时观察到的现象为热磁现象,其根源在于带电粒子受到洛伦兹力和速度的线性关系。

(1)能斯脱效应; (2)爱廷豪森效应;(3)里纪—勒杜克效应。

9 考虑分布函数漂移变化和散射作用后,玻尔兹曼方程的一般表达式:(,,)(,,)()k r f k f k r t v f k r t b a t t∂∂=-∇-∇+-∂∂考虑稳态情况,/0f t ∂∂=,并且考虑驰豫时间近似,玻尔兹曼方程可以写成一个单纯的微分方程:0(,,)(,,)()k r f f dkf k r t v f k r t dt k τ-∇+∇=-对球形等能面,电导率为:2202nn q v m vτσ<>=迁移率:22n n q v m v τμ<>=<>第五章 过剩载流子及其复合1 半导体处于非平衡状态的过剩载流子浓度。

2 过剩载流子通过复合而消失,其平均存在的时间叫做寿命τ。

它可以描写扰动撤除后平衡恢复的快慢,1/τ表示了过剩载流子的复合几率。

寿命τ是半导体材料一个重要的“结构灵敏”参数,因此,测量非平衡载流子寿命是鉴定半导体材料晶体质量的常规手段。

3 注入停止后,过剩载流子浓度随时间衰减的规律4 在准热平衡状态下,可以认为导带电子系统和价带空穴系统本身各自仍符合费米分布和玻尔兹曼分布,相应有各自的费米能级。

5 爱因斯坦关系式。

6 当电子和空穴的浓度是空间和时间的函数时,它们随时间的变化率将由载流子的扩散、漂移及其产生复合所决定,由电子数、空穴数的守恒原则,载流子随时间的净变化率7 由双极扩散系数和双极迁移率的讨论:8 简述少子漂移迁移率的测试原理。

讨论:(1)没有外扬存在,也不考虑过剩载流子的复合;(2)同时考虑过剩载流子的复合;(3)考虑存在电场时,上述三种情况过剩少子分布,并解释。

9 寿命τ的数值主要取决于载流子的复合,半导体的载流子复合可以有许多途径,但主要是电子-空穴直接复合和通过禁带中复合中心的能级进行的复合。

(1) 带间直接复合: (2) 带间俄歇复合:(3) 通过复合中心的复合10 何谓陷阱效应,在什么条件下可以形成陷阱效应。

第六章 同质pn 结1 p-n 结是半导体器件结构的基本组成部分,它是利用控制杂质分布的工艺方法来实现的。

根据杂质分布可分为突变结和缓变结p-n结定义形成机理2 突变结电场分布,电位分布,接触电势差;缓变结电场分布,电位分布,接触电势差;3 平衡时p-n结载流子浓度:4 p-n结正向偏压时,外加电场削弱势垒区内建电场,因而势垒区内扩散占优势。

若p区和n区有少于注入,形成正向扩散电流5 p-n-结有电容效应,分为势垒电容CT和扩散电容CD。

由于势垒区的空间电荷数量随外加电压的变化而产生电容效应称为势垒电容,由于扩散区的电荷数量随外加电压的变化产生的电容效应称为扩散电容。

6 反向偏置的p-n结。

当电压升高到某值(VB)时,反向电流急剧增加,现象称为p-n结击穿,VB称为击穿电压。

主要的击穿机制有两种:雪崩击穿和隧道击穿。

7 试解释隧道二极管的伏安特性第八章金属半导体接触和半导体异质结1 功函数的定义。

试写出金属和半导体的功函数2 试画出:金属与n型半导体接触的能带图。

Wm >WSWm<WS金属与P型半导体接触的能带图。

3 发射理论和扩散理论。

前者运用于薄阻挡层,后者运用于厚阻挡层.试写出热电子发射理论导出的电流密度公式试写出扩散理论导出的电流密度公式。

4 由两种不同性质的半导体形成的结成为异质结异质结能带图异质结电容晶格失配5 解释异质结电流输运机构的模型有几种。

我们重点讨论了什么模型,散电流起控制作用时,讨论电子注入比。

6 量子阱超晶格。

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