二氧化硅自动分析仪的设计
ABB二氧化硅SiO
2019年7月26日星期五
仪表培训教程
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8241型SiO2分析仪的基本组成
样品预处理系统
组成
1. 减压阀 2. 过滤器
作用
1. 将过高的样品压力降低，以便适合 分析仪表的分析要求
ABB二氧化硅（SiO2）分析仪 培训教程
上海如丰公司 海南炼化在线分析仪表部
2008.10
上海如丰RFC
二氧化硅（SiO2）分析仪
概述 ABB二氧化硅分析仪的基本组成 ABB二氧化硅分析仪的测量原理 ABB二氧化硅分析仪的基本操作 ABB二氧化硅分析仪的故障分析和排除
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8241型SiO2分析仪的测量原理
事件顺序为：
在样品含有磷酸盐的应用中，增加 柠檬酸的浓度，以破坏任何磷酸盐 络合物，后者可能会增加下一步中 所形成的颜色。
在溶液进入控温块中的第三反应旋管（提供1分 钟延迟）之前加入还原溶液，使黄色络合物还 原为蓝色形式。
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8241型SiO2分析仪的测量原理
样品池和光学检测元件
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样品池的 填充和排放程序图
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8241型SiO2分析仪的测量原理
样品池和光学检测元件
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样品池和光学检测元件 结构图
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8241型SiO2分析仪的测量原理
样品处理及化学反应
粉尘中游离二氧化硅含量测定仪设备工艺原理
粉尘中游离二氧化硅含量测定仪设备工艺原理前言
在现代工业生产、建筑施工、采矿和冶炼、农业生产中，都会涉及到大量的粉尘产生。
而粉尘中含有的游离二氧化硅对于人类的健康也有较大的影响，如长期接触可引起职业性肺病等。
因此，针对粉尘中的二氧化硅含量进行准确测定，是十分必要的。
本文将简单介绍粉尘中游离二氧化硅含量测定仪设备工艺原理。
二氧化硅含量测定仪设备工艺原理
设备概述
粉尘中游离二氧化硅含量测定仪是一种专门用于测定空气中游离二氧化硅浓度的仪器。
具体包括一个采样系统、一个流量计、一个气固分离系统，以及一个分析传感器。
工艺原理
该测定仪实际上是根据红外吸收原理进行测定的。
在采样系统中收集空气中的粉尘，并将其与恒定的体积气流一同通过流量计进入气固分离系统。
气固分离系统可将收集到的粉尘进行离散处理，并提取其中的二氧化硅。
而分析传感器则在测量样品前后，用红外线在3070.6 cm-1处进行吸收率测定，计算出被分离出来的二氧化硅含量。
测定范围
粉尘中游离二氧化硅含量测定仪的测定范围通常为0-200mg/m3。
可广泛应用于电子、矿业、建筑、冶金等行业的粉尘中二氧化硅含量
的测量。
总结
粉尘中游离二氧化硅含量测定仪设备工艺原理主要是采用气固分离、红外吸收等原理进行测量。
由于其测量范围广，可应用于多个领域。
对于保障生产环境和职工健康，具有十分重要的意义。
二氧化硅分析仪安全操作及保养规程
二氧化硅分析仪安全操作及保养规程概述二氧化硅分析仪是一种常用的分析仪器，用于对空气、水等样品中的二氧化硅含量进行定量分析。
为确保操作人员的安全和仪器的正常运行，需要指定相应的安全操作及保养规程。
安全操作规程1. 仪器设置1.1 仪器不宜设置在易受振动和冲击的场所，不宜设置在高温、高湿、高尘、强磁场、电磁辐射等场所。
1.2 安装时，仪器应平稳，支持应健康牢固。
如有需要，应安装隔震装置等保护装置。
2. 电源2.1 仪器的电源应接在市电的电源插座上。
如必须使用非标准电源插头，应严格按照国家标准和现场实际安装情况进行接线，确保插头与插座相配并正确安装。
2.2 使用前，应检查电路和接线是否完好，电源供电是否稳定，并执行“三合一”操作：•确认设备一切接线、电器、液位等处于正常位置；•发出运转指令，并观察机器及仪表的动作是否规范、正常；•当发现设备存在问题进入复合状态，应立即应急处理。
3. 操作前的准备3.1 操作者应具备必要的操作技能和安全知识，了解仪器的结构和原理，掌握所有使用的工具和材料的安全操作方法。
3.2 操作前，应先对仪器进行检查，确保传感器和控制器的连接良好、确保管道系统连接正常。
检查完毕后，应先让仪器运行1-2分钟，确保仪器处于正常工作状态。
4. 操作须知4.1 在操作时，应按照仪器的正常操作步骤进行操作。
避免出现操作失误等情况，当发下问题时，须及时报修或报警。
4.2 操作人员在使用前，应戴好防护手套和口罩等防护用品，以免手部受伤或吸入二氧化硅而影响身体健康。
4.3 吸入二氧化硅有一定的危害，操作人员在操作过程中要注意呼吸顺畅，呼吸时避免直接吸入样品或样品气体。
4.4 当仪器运行过程中出现异常情况，如警报声等，操作人员应立即中止操作，并检查可能存在的问题。
4.5 完成操作后，将仪器关闭，并恰当处理样品和废弃物，然后对每部分进行擦拭和清洁处理。
5. 安全防护5.1 操作过程中，如出现紧急情况应按紧急处理程序执行。
利用ABB新的分析仪降低二氧化硅监测的成本
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提供两点和单点校准 ， 在低量程应用场合可以使用 自动零位功能。这种新的分析器能够提供连续分析和可编程取样
两种分析模式 ， 用户能够通过操作员显示面板在这两种模式之 间切换。在可编程取样 分析模式 中， 装置能够设置为
在指定时间测试样品。在二氧化硅浓度趋势相对稳定的应用场 ， ａｉ ｔ ０ Ｎ ｖ ａ ｒ ０有助于降低试剂的消耗量。 ｇ ｏ６ Ｎｖ ａ ｒ ０ ａｉ ｔ ０的一大优点是操作方便 。前面板安装 的按钮 允许 简单 的数据选 择 ， ｇ ｏ６ 在熟悉 的 Ｗｉ ｏ ｓ环境 内 ｎｗ ｄ 提供 。 设置和调试是 直截了当的 ， 菜单 提供 的选项 设定 和细调操 作 参数 。通 过广泛 的文本 在线 帮助特性 提供 用
二氧化硅的红外光谱测定
二氧化硅的红外光谱测定一、引言（约100字）二氧化硅是一种重要的无机化合物，具有广泛的应用领域。
红外光谱技术是一种常用的无损分析方法，可用于对二氧化硅进行定性和定量分析。
本文将探讨二氧化硅的红外光谱测定方法、仪器设备和样品处理等关键内容。
二、二氧化硅的红外光谱测定方法（约200字）二氧化硅的红外光谱测定方法主要分为传统红外光谱和傅里叶变换红外光谱两种。
传统红外光谱仪器包括样品室与光学部分，通过样品与红外辐射的相互作用，得到样品的红外吸收光谱图谱。
傅里叶变换红外光谱则利用傅里叶变换将时域信号转换为频域信号，从而得到样品的红外吸收谱图。
两种方法各有优劣，选择合适的方法应根据实际需求和仪器设备的可用性进行考量。
三、红外光谱仪器设备（约200字）红外光谱测定二氧化硅需要一台专用的红外光谱仪器。
常见的红外光谱仪器包括单光束红外光谱仪、双光束红外光谱仪和便携式红外光谱仪等。
其中，双光束红外光谱仪具有较高的测量精度和可靠性，常用于较为精确的红外光谱测定。
对于一些特殊场合或需要现场快速检测的情况，便携式红外光谱仪则具有便携性和操作简单的特点。
选择合适的红外光谱仪器应根据实际需要和预算进行综合考虑。
四、样品处理（约200字）在二氧化硅的红外光谱测定过程中，样品的处理非常重要。
首先，应将样品制备成均匀的粉末或片状，以便获得准确可靠的光谱结果。
其次，在样品处理过程中需要注意避免氧气和水分的污染，因为它们可能会干扰红外吸收信号。
对于水分含量较高的样品，可以通过真空干燥等方法进行预处理。
此外，还需要考虑样品的浓度范围和测定温度，以确保测定结果的准确性和可重复性。
五、红外光谱分析与解读（约300字）通过对二氧化硅的红外光谱进行分析与解读，可以确定样品的分子结构、官能团以及化学键情况等信息。
常见的红外光谱吸收峰包括基频吸收峰、变形振动吸收峰和组合振动吸收峰等。
在解读红外光谱时，需要结合相关的红外光谱图谱和数据库进行比对和分析。
二氧化硅自动分析仪的设计
二氧化硅自动分析仪的设计本文介绍了一种二氧化硅浓度自动分析仪的设计方法，该自动分析系统以80C196KC单片机为核心，能对使用水自动采样、自动分析，并能显示、打印分析结果，同时兼具样水温度、化学试剂置、光源电池电压和二氧化硅浓度超限报警功能。
标签：二氧化硅浓度分析0引言在石油、化工、电力等工业生产中，有时需要对使用水的二氧化硅含量进行控制，使其浓度不超过控制指标，于是就需要对二氧化硅的浓度进行测量分析。
本文介绍了一种二氧化硅浓度自动分析仪的设计方法，该自动分析系统以单片机80C196KC为核心，能对使用水自动采样、自动分析、自动清洗，并能显示、打印分析结果，同时兼具样水温度、化学试剂量、光源电池电压和浓度超限报警功能见图1。
系统采用吸收测量的方法，这种分析方法是间接的。
首先使待分析的样水与一系列化学试剂反应，生成稳定的蓝色溶液，蓝色溶液的深浅与二氧化硅的浓度相关；然后将单色光穿过溶液，二氧化硅的浓度不同，蓝色溶液的深浅则不同，对单色光的吸收能力不同，于是透射光的光强是不同的：最后用光电池测量透射光的光强。
由于透射光的光强与二氧化硅的浓度相关，进而间接反映出二氧化硅的浓度。
1分析原理将样水与成色液、掩色液和还原剂进行一系列化学反应，最后生成的是稳定的蓝色溶液——异聚钼蓝复酸盐。
反應过程见图2。
成色液(试剂A)为钼酸氨——硫酸溶液，与水中的二氧化硅反应，生成硅钼酸。
掩色液(试剂B)为酒石酸，防止样水中的磷酸根离子参与反应。
还原剂(试剂C)为钠溶液，与硅钼酸反应生成蓝色的异聚钼蓝复酸盐。
将单色红光穿过反应后的蓝色溶液，投射到光电池上，光电池输出一个相应的电流信号，它与入射光的光强成正比，即由输出电流可以计算出入射光强，进而确定二氧化硅的浓度。
计算方法如下：C=Alog(B)其中：C为测得的浓度，单位为ppb；A为吸收系数，由已知浓度的标准蓝色玻璃的透射光强计算出；B为未知浓度的蓝色溶液的透射光强。
2分析系统硬件组成自动分析系统以80C196KC单片机为核心，配以运算放大器、温度传感器、锡光电池、液位传感器、驱动电路等组成。
二氧化硅快速测定仪
二氧化硅快速测定仪使用说明书一、概述本氟硅酸钾法快速测定二氧化硅方法的配套装置，主要用于生料中二氧化硅的控制分析，借助于本装置，生料中二氧化硅的单样测定可在25分钟左右完成，对于操作熟练者整个操作过程可在20分钟内完成。
分析结果标准偏差小于0.09%。
本装置也可以用于水泥、熟料及各种原材料的二氧化硅分析，同时还可以用来做生料中铁、铝的络合滴法快速滴定（三氧化二铁和三氧化二铝两个组分的测定可在20分钟内完成）和水泥中三氧化硫的离子交换法测定。
本装置还可以用于银坩埚熔样。
水泥、生样、熟料及石灰石，粘土等样品的全分析试样，可以30分钟内熔融完全。
因此，本装置在水泥实验室具有广泛用途。
二、本装置用于测定二氧化硅的原理硅酸根离子在有过量的氟离子和钾离子存在下的强酸性溶液中，能与氟离子作用，生成氟硅酸根离子（SiF62-），并进而与钾离子作用，生成氟硅酸钾沉淀：Sio32-+6H++6F-≒SiF62-+3H2OSiF62-+2K+≒K2SiF6↓将氟硅酸钾沉淀过虑，中和无残余酸后，使之在沸水中水解，生成等当量的氢氟酸：K2SiF6+3H2O≒2KF+H2SiO3 +4HF因而可以用氢氧化钠标准溶液进行滴定，采用酚酞作指示剂，终点为1粉红色：HF+NaOH=NaF+H2O上述为测定的主要化学方程式，采用氟硅酸钾法测定二氧化硅时，其关键在于氟硅酸钾沉淀的生成和对沉淀的洗涤及残余酸中和。
借助于熔样电炉，生料等样品中的二氧化硅可以在5—6分钟内被氢氧化钾熔解。
对熔体急冷以便于对熔体的迅速浸取。
把熔体用硝酸溶解后在热溶液中加入氟化钾和氯化钾，并借助于搅拌器，能使氯化钾迅速溶解，并且加快了氟硅酸钾的生成和陈化的速度。
在沉淀生成和陈化的同时，对溶液进行冷却，以保证溶液中的二氧化硅全部转化为氟硅酸钾沉淀。
由于搅拌充分，氯化钾可按理论值加入，而不需饱和析出，使得对氟硅酸钾沉淀的过滤和洗涤非常简单。
在中和残余酸时，采用较大的中和残余酸操作的难度。
二氧化硅SiO2检测仪技术参数
二氧化硅SiO2检测仪技术参数二氧化硅气体检测仪产品描述：在线式二氧化硅气体检测仪,适用于各种环境中的二氧化硅气体浓度和泄露实时准确检测，采用进口电化学传感器和微控制器技术. 响应速度快，测量精度高，稳定性和重复性好等优点. 防爆接线方式适用于各种危险场所, 并兼容各种控制报警器, PLC, DCS等控制系统, 可以同时实现现场报警预警, 4-20mA 标准信号输出,继电器开关量输出; 完美显示各项技术指标和气体浓度值; 同时具有多种极强的电路保护功能, 有效防止各种人为因素, 不可控因素导致的仪器损坏;二氧化硅气体检测仪产品特性：★进口电化学传感器具有良好的抗干扰性能，使用寿命长达3年;★采用先进微处理器技术，响应速度快,测量精度高，稳定性和重复性好;★检测现场具有现场声光报警功能，气体浓度超标即时报警，是危险现场作业的安全保障;★现场带背光大屏幕LCD显示，直观显示气体浓度/类型/单位/工作状态等;★独立气室，传感器更换便捷,更换无须现场标定，传感器关键参数自动识别;★全量程范围温度数字自动跟踪补偿，保证测量准确性;★半导体纳米工艺超低功耗32位微处量器;★全软件自动校准,传感器多达6级目标点校准功能,保证测量的准确性和线性,并且具有数据恢复功能;★具备过压保护,防雷保护,短路保护,反接保护,防静电干扰,防磁场干扰等功能;并且具有自动恢复功能,防止发生外部原因,人为原因,自然灾害等造成仪器损坏;★全中文/英文操作菜单,简单实用,带温度补偿功能;★PPM,%VOL,mg/m3三种浓度单位可自由切换;★防高浓度气体冲击的自动保护功能;型号：SK-500-SiO2-A检测气体：空气中的二氧化硫SiO2检测范围：0-100ppm、500ppm、1000ppm、5000ppm、0-100%LEL分辨率：0.1ppm、0.1%LEL显示方式：液晶显示温湿度：选配件，温度检测范围：-40 ～120℃，湿度检测范围：0-100%RH 检测方式：扩散式、流通式、泵吸式可选安装方式：壁挂式、管道式检测精度：≤±3% 线性误差：≤±1%响应时间：≤20秒（T90）零点漂移：≤±1%（F.S/年）恢复时间：≤20秒重复性：≤±1%信号输出：①4-20mA信号：标准的16位精度4-20mA输出芯片，传输距离1Km②RS485信号：采用标准MODBUS RTU协议，传输距离2Km③电压信号：0-5V、0-10V输出，可自行设置④脉冲信号：又称频率信号，频率范围可调（选配）⑤开关量信号：标配2组继电器，可选第三组继电器，继电器无源触点，容量220VAC 3A/24VDC 3A传输方式：①电缆传输：3芯、4芯电缆线，远距离传输（1-2公里）②GPRS传输：可内置GPRS模块，实时远程传输数据，不受距离限制（选配）接收设备：用户电脑、控制报警器、PLC、DCS、等报警方式：现场声光报警、外置报警器、远程控制器报警、电脑数据采集软件报警等报警设置：标准配置两级报警，可选三级报警；可设置报警方式：常规高低报警、区间控制报警电器接口：3/4″NPT内螺纹、1/2″NPT内螺纹，同时支持2种电器连接方式防爆标志：ExdII CT6（隔爆型）壳体材料：压铸铝+喷砂氧化/氟碳漆，防爆防腐蚀防护等级：IP66 工作温度：-30 ～60℃工作电源：24VDC（12～30VDC）工作湿度：≤95%RH，无冷凝尺寸重量：183×143×107mm(L×W×H）1.5Kg(仪器净重)工作压力：0 ～100Kpa标准配件：说明书、合格证质保期：一年应用场所石油石化、化工厂、冶炼厂、钢铁厂、煤炭厂、热电厂、医药科研、制药生产车间、烟草公司、环境监测、学校科研、楼宇建设、消防报警、污水处理、工业气体过程控制、锅炉房、垃圾处理厂、隧道施工、输油管道、加气站、地下燃气管道检修、室内空气质量检测、危险场所安全防护、航空航天、军用设备监测等。
二氧化硅含量测定标准
二氧化硅含量测定标准二氧化硅是一种重要的无机化合物，广泛应用于建筑材料、玻璃制品、化工产品等领域。
因此，对二氧化硅含量进行准确测定具有重要意义。
本文将介绍二氧化硅含量测定的标准方法，以便确保产品质量和生产安全。
一、样品准备。
在进行二氧化硅含量测定之前，首先需要准备样品。
样品的选择应当代表所要测定的产品或原料的整体情况。
样品的制备应当遵循相关标准方法，确保样品的代表性和可测性。
二、仪器设备。
进行二氧化硅含量测定需要使用一系列仪器设备，包括但不限于分光光度计、pH计、电子天平等。
这些仪器设备应当经过校准和验证，确保其准确性和可靠性。
三、测定方法。
1. 酸碱滴定法。
酸碱滴定法是一种常用的二氧化硅含量测定方法。
首先将样品溶解，然后用酸或碱溶液滴定至中和终点，通过滴定液的消耗量计算出二氧化硅含量。
这种方法操作简便，适用于大批量样品的快速测定。
2. 分光光度法。
分光光度法是一种精密的二氧化硅含量测定方法。
通过测定样品溶液在特定波长下的吸光度，然后根据已知标准曲线计算出二氧化硅含量。
这种方法准确性高，适用于对含量要求严格的场合。
四、质量控制。
在进行二氧化硅含量测定时，需要进行质量控制以确保测定结果的准确性和可靠性。
质量控制包括但不限于平行样品测定、标准溶液校准、仪器设备验证等。
只有在质量控制合格的情况下，测定结果才能被认可和采用。
五、结果分析。
在得到二氧化硅含量测定结果之后，需要对结果进行分析和评价。
根据测定结果，可以评估产品或原料的质量情况，为生产和质量控制提供依据。
同时，也可以根据测定结果进行产品配方调整或工艺优化。
六、结论。
二氧化硅含量测定是产品质量控制和生产管理中的重要环节。
通过严格遵循标准方法，合理选择仪器设备，进行质量控制和结果分析，可以确保二氧化硅含量测定的准确性和可靠性，为产品质量和生产安全提供保障。
总结来说，二氧化硅含量测定标准方法的正确应用对于产品质量的保障至关重要。
只有在严格遵循标准方法的情况下，才能得到准确可靠的测定结果，为生产和质量控制提供有力支持。
游离二氧化硅测定仪
游离二氧化硅测定仪电力和煤炭行业生产环境中粉尘的种类较多, 主要有矽尘、煤尘、锅炉尘、石棉尘、水泥尘、电焊烟尘等, 其特点是粉尘中游离二氧化硅含量较高, 粉尘的分散度也比拟高, 即多为呼吸性粉尘, 因此对接尘人员的危害较大。
根据生产性粉尘的理化性质、空气中浓度、进入人体的量和作用部位, 产生的危害也有不同, 主要包括鼻炎、咽炎、气管炎、支气管炎等呼吸系统疾病。
我国政府以及电力和煤炭行业部门对防尘工作高度重视, 因此, 加强对粉尘中游离二氧化硅含量的检测是一件非常重要和紧迫的工作。
以往检测粉尘中游离二氧化硅含量, 均采用?作业场所空气中粉尘测定方法?(GB5748—85) 规定的“焦磷酸重量法〞, 该方法存在操作步骤复杂、使用试剂种类繁多、检测周期长、准确性差、试验室条件要求苛刻等一系列问题, 难以满足现场批量检测的要求。
我国测定作业场所粉尘中游离二氧化硅很多仍沿用焦磷酸重量法，该法需用试样量大,一般只能测定矿(岩)石或自然降尘样,对呼吸性粉尘中的游离二氧化硅尚无法直接测定。
国外常用X—射线衍射法和红外法。
由于红外法的仪器价格较廉价,也不会产生对人体有害的放射性辐射,故很受重视。
美英等国已把红外法作为测定煤尘中游离二氧化硅的标准方法。
为了提高检测的准确性, 实现批量检测的目的,根据红外光谱法原理专门研制FC-2000D粉尘中游离二氧化硅分析仪用来检测粉尘中游离二氧化硅含量。
粉尘中游离二氧化硅分析仪主要数据处理功能：数据处理功能－轻松处理分析结果，包括标峰、峰面积积分、基线校准等操作快速创立实验报告，打印实验报告标准文件格式－保持实验结果，方便共享和处理光谱文件存储打印光谱背景基线记忆光谱背景基线校正光谱数据累加运算%T与ABS转换粉尘中游离二氧化硅分析仪性能指标：波数范围：2.5-25Um波数精度: ≤±2 cm-1全波长扫描狭缝程序五档可调杂散光≤0.5%T(4000-650cm-1)；样品研磨至粒度小于8Lm电脑最低配置要求：硬盘160G；内存：1G；显示器，光驱仪器特点：具有快速、灵敏、能鉴别游离二氧化硅的三种晶形等特点, 而因其设备投资较少、操作简便、可适用于自动分析等优势获得了广泛的应用。
分析化验 分析规程 二氧化硅的测定
二氧化硅的测定方法一硅钼蓝—1.2.4酸分光光度法1 适用范围本方法适用于天然水、循环冷却水和锅炉炉水等SiO2含量较高的水样中SiO2的测定，其测定范围为0.1～5mg/L。
2 分析原理在pH=1.1～1.3的条件下，水溶性硅酸(H4SiO4)与钼酸铵反应，定量生成黄色的水溶性硅钼杂多酸配合物(即硅钼黄)，再用有机还原剂1-氨基-2-萘酚-4-磺酸(简称1．2．4—酸)，将硅钼黄定量还原为蓝色的水溶性硅钼杂多酸配合物(即硅钼蓝)。
蓝色的深浅和与可溶性硅含量成正比，故可用分光光度法测定。
3 仪器和试剂3.1 试剂3.1.1 100g/L钼酸铵[(NH4)6Mo7O24·4H2O]溶液：称取100g钼酸铵溶于水中，稀释到1000mL，混匀。
3.1.2 100g/L草酸(H2C2O4·2H2O)溶液：称取100g草酸溶于水中，稀释到1000mL，混匀。
3.1.3 1.5mol/L硫酸溶液：将42mL 浓硫酸在不断搅拌下加到300mL 水中，冷却至室温后用水稀释至500mL。
3.1.4 2.5g/L 1.2.4—酸溶液：将2g 1.2.4酸与4g亚硫酸钠溶于200mL 水中(可温热促溶)，再与含有120g 亚硫酸氢钠的600mL 溶液混匀(若有浑浊，可过滤之)。
3.1.5 二氧化硅标准贮备溶液(1mg SiO2/mL)方法一：准确称取光谱纯二氧化硅0.5000g于铂坩埚中，加约5g无水碳酸钠，充分摇匀后放入高温炉内，在950～1000℃下加热至完全熔融，然后将其溶解于热水中(如发现有不溶残渣应重做)，移入500mL 容量瓶中，用水稀释至刻度，摇匀，保存于塑料瓶中。
方法二：称取3.133g 优级纯氟硅酸钠(Na 2SiF 6)倒入约600mL 一级水，转入容量瓶中用一级水配成1000mL ，保存在塑料瓶中。
3.1.6 二氧化硅标准工作溶液(0.01mg SiO 2/mL)吸取上述二氧化硅标准贮备溶液10mL 于1000mL 容量瓶中，用新煮沸冷却后的水稀释至刻度，摇匀。
Polymetron9210二氧化硅分析仪
Polymetron 9210二氧化硅分析仪9210型硅分析仪9210型硅分析仪典型应用在线连续监控硅含量、除盐水车间、电厂炉水、给水和蒸汽仪器特点● 多通道操作（1-6）● 极低的运行成本，试剂配方公开● 运行维护量小● 界面友好，操作简单● 内置数据记录仪● 自动两点校准（化学零点和斜率）测量原理样水通过样水选择电磁阀进入仪表，每路样水的流量都能通过针形阀调节。
在一路样水进入测量池之前,它有足够的流动时间来冲洗整个水路和溢流槽。
然后，样水阀打开，样水进入测量池。
一旦测量池被冲洗完毕并且充满样水，样水阀关闭，并顺序注入试剂。
● 试剂1：硫酸+钼酸盐● 试剂2：草酸● 试剂3：硫酸亚铁铵注意：对于试剂的输送现在已由微活塞泵代替了传统的蠕动泵测量池配有加热器和磁性搅拌器，以保证试剂的充分混合和完全反应。
在磷钼兰缓和物形成之前，仪表要进行参比光密度测量，光的吸收量被计算出，磷的浓度通过对比校准曲线计算得出。
技术指标测量范围0-1000ppb SiO2 0-5000ppb SiO2重现性±0.5ppb或±2%，取大者±2ppb或±2%，取大者检测限≤0.5ppb≤2ppb循环时间10分钟(每通道) 10分钟(每通道)样品要求5-50℃，0.2-2bar（0.5-6bar选配）入口6mm外径管PE/PTFE排放12×10mm内径管PE/PTFE供电100-240V AC，50/60Hz功耗约80V A校准自动，可设置维护每45天，更换试剂和校准溶液显示有背光功能，LCD显示浓度，自诊断，报警状态，校准常数，历史数据，趋势曲线模拟输出6个0/4-20mA(每通道一个)，最大负载650 Ohm继电器8个通讯可选RS485 300-9600波特率，最多站点32，JBUS/MODBUS，Profibus防护等级IP65/NEMA 4X材料，盘装，聚苯乙烯重量盘装：10Kg，墙装柜：10Kg订购指南09210=A=100X(X=1-6) 0-1000ppb盘装式09210=A=500X(X=1-6) 0-5000ppb盘装式09210=A=110X(X=1-6) 0-1000ppb壁挂式09210=A=510X(X=1-6) 0-5000ppb壁挂式。
粉尘中游离二氧化硅测试仪设备工艺原理
粉尘中游离二氧化硅测试仪设备工艺原理引言粉尘中游离二氧化硅的检测在许多行业中都具有重要意义，如建筑、矿业、制药等等。
粉尘污染对人员的健康有着不可忽视的影响，因此粉尘中游离二氧化硅的检测工作显得尤为重要。
本文将对粉尘中游离二氧化硅测试仪的设备工艺原理进行详细介绍。
设备介绍粉尘中游离二氧化硅测试仪是一种专门用于检测空气中游离二氧化硅浓度的设备。
该设备通常由采样器、测试仪和计算机软件组成。
采样器主要作用是采集空气中的粉尘颗粒，并将其输送至测试仪中进行分析。
一般来说，采样器采用的是泵引空气方式，将空气通过过滤器，去除其中大颗粒物质，使得剩下的粉尘颗粒通过采样器，被吸入内部容器中，准备进行测试。
测试仪则是主要的检测装置，它通过内置的光谱分析元件，对从采样器中收集到的粉尘颗粒进行分析，计算出其中的二氧化硅浓度，最终将结果输出至计算机。
计算机软件则用于对测试仪输出的数据进行处理和记录。
软件一般提供界面友好、测量结果直观等特点，便于用户使用和数据管理。
工艺原理粉尘中游离二氧化硅测试仪的工艺原理主要涉及以下两个方面：采样分析原理粉尘中游离二氧化硅测试仪采用的是激光光谱法进行分析。
该方法实质是一种光谱分析法，适用于高浓度测量，因此是粉尘中游离二氧化硅测试的理想选择。
具体地，采样器在吸入粉尘颗粒的同时，喷射出脉冲式激光，在激光照射下，粉尘颗粒中的二氧化硅分子吸收激光能量，产生反射光。
根据反射光的强度和波长等特征，测试仪能够准确地测量出二氧化硅的浓度，进而输出测试结果。
操作流程粉尘中游离二氧化硅测试仪的操作由以下几个步骤组成：1.将采样器连接至测试仪，并选择采样时间、流量以及其它测试条件。
2.开启测试程序，启动采样器的工作。
3.采样器工作一段时间后，停止工作，并将粉尘颗粒标本送至测试仪中。
此时测试仪开始工作，并进行光谱分析。
4.测试仪完成分析后，将测试结果输出至计算机。
5.操作者查看测试结果，根据需要进行数据处理。
总结粉尘中游离二氧化硅测试仪是一种可靠高效的二氧化硅浓度检测设备。
二氧化硅测定仪安全操作及保养规程
二氧化硅测定仪安全操作及保养规程介绍二氧化硅测定仪是一种用于检测空气中二氧化硅浓度的仪器，常用于实验室、工厂、办公场所等处。
本文档介绍了二氧化硅测定仪的安全操作及保养规程，以确保其正常运行和使用。
安全操作预先准备在使用二氧化硅测定仪之前，必须确保其外部清洁，无杂质和损坏。
仪器的电源线必须连接到地线插座上，以确保使用时的安全。
在检测空气中二氧化硅浓度之前，应将仪器校准至零点。
检测过程在使用二氧化硅测定仪进行检测时，必须遵守以下安全操作：1.紧密密封测试区域，确保检测结果准确无误。
2.操作时保持安静，避免振动干扰测试结果。
3.在测试结束前，不要打开测试区域，以免影响测试精度。
4.若需调整仪器设置，请在停机后进行。
停机操作在停止使用二氧化硅测定仪时，需要遵循以下操作：1.将仪器从电源上断开，等待其冷却。
2.将仪器的测试区域清空并清洗。
3.保持仪器干燥，存放在干燥通风处。
保养规程定期清洁在使用二氧化硅测定仪过程中，需要定期清洁以确保其正常运行。
清洁方式如下：1.使用软布轻轻擦拭仪器外表，避免使用硬刷或化学剂。
2.使用气压枪、吹气球或吸气管排除不必要的灰尘。
3.定期清洗测试区域并更换用过的滤芯。
定期维护除了定期清洁外，二氧化硅测定仪还需要进行定期的维护。
以下是建议的维护时间表：1.每六个月内定期检查电线连接和插头情况。
2.每六个月更换二氧化硅传感器以确保仪器准确性。
3.每年更换所有滤芯。
总结正确的操作和保养二氧化硅测定仪能够确保其正常运行和使用。
在操作二氧化硅测定仪时，请务必关注仪器的安全性和准确性，以避免任何危险或误操作。
若有任何问题或疑问，请咨询相关专家。
游离二氧化硅测定仪
游离二氧化硅测定仪电力和煤炭行业生产环境中粉尘的种类较多, 主要有矽尘、煤尘、锅炉尘、石棉尘、水泥尘、电焊烟尘等, 其特点是粉尘中游离二氧化硅含量较高, 粉尘的分散度也比较高, 即多为呼吸性粉尘, 因此对接尘人员的危害较大。
根据生产性粉尘的理化性质、空气中浓度、进入人体的量和作用部位, 产生的危害也有不同, 主要包括鼻炎、咽炎、气管炎、支气管炎等呼吸系统疾病。
我国政府以及电力和煤炭行业部门对防尘工作高度重视, 因此, 加强对粉尘中游离二氧化硅含量的检测是一件非常重要和紧迫的工作。
以往检测粉尘中游离二氧化硅含量, 均采用《作业场所空气中粉尘测定方法》(GB5748—85) 规定的“焦磷酸重量法”, 该方法存在操作步骤复杂、使用试剂种类繁多、检测周期长、准确性差、试验室条件要求苛刻等一系列问题, 难以满足现场批量检测的要求。
我国测定作业场所粉尘中游离二氧化硅很多仍沿用焦磷酸重量法，该法需用试样量大,一般只能测定矿(岩)石或自然降尘样,对呼吸性粉尘中的游离二氧化硅尚无法直接测定。
国外常用 X—射线衍射法和红外法。
由于红外法的仪器价格较便宜,也不会产生对人体有害的放射性辐射,故很受重视。
美英等国已把红外法作为测定煤尘中游离二氧化硅的标准方法。
为了提高检测的准确性, 实现批量检测的目的,根据红外光谱法原理专门研制FC-2000D粉尘中游离二氧化硅分析仪用来检测粉尘中游离二氧化硅含量。
粉尘中游离二氧化硅分析仪主要数据处理功能：数据处理功能－轻松处理分析结果，包括标峰、峰面积积分、基线校准等操作快速创建实验报告，打印实验报告标准文件格式－保持实验结果，方便共享和处理光谱文件存储打印光谱背景基线记忆光谱背景基线校正光谱数据累加运算 %T与ABS转换粉尘中游离二氧化硅分析仪性能指标：波数范围：2.5-25Um波数精度: ≤±2 cm-1全波长扫描狭缝程序五档可调杂散光≤0.5%T(4000-650cm-1)；样品研磨至粒度小于8Lm电脑最低配置要求：硬盘160G；内存：1G；显示器，光驱仪器特点：具有快速、灵敏、能鉴别游离二氧化硅的三种晶形等特点, 而因其设备投资较少、操作简便、可适用于自动分析等优势获得了广泛的应用。
二氧化硅仪表的校正
二氧化硅仪表的校正一：第一步骤（首次标定）1、首先仪表的拉杆处于推入状态（即处于下标状态）。
2、进入仪表主界面，选择“线性”界面框3、在线性框内，清除“调整1”、“调整2”的所有参数4、然后按选择健，进入“标二”下标健，5、然后往水斗中倒入“正加药”显色液（2次或2次以上）（注意：此时标二的显示仍然为“-000.0”6、接着按选择健进入“标一”上标健。
同时把标一的数值设置为’40”7、往水斗中倒入“40”的标液,反复冲洗2次获2次以上。
8、然后按“返回”健，接着用无硅水冲洗，至少三次以上。
界面上显示“负值”9、接着往漏斗中加入“倒加药”液，假如此时界面显示“-2.2”（此数值即即为试剂水中含硅量）二：第二步骤（重新标定）1、在主界面上进入“标二”的界面。
2、往漏斗中加入“倒加药”液2次或2次以上，此时标二仍显“-000.0”3、然后按选择健进入“标一”处。
4、将标一参数调整到：“0042.2”（即将第一步骤的2.2加上）5、往漏斗中加入“40”的标液，反复两次。
6、然后按“返回”健，用无硅水冲洗数次三：第三步骤（检验）1、用“正加药”液检验上述“2.2”显示的数值是否正确2、按健进入仪表至“冲洗”状态，先加入“正加药”液，此时仪表显示”2.8”,(误差±2为正常)3、接着加入“20“的标液，（此时应显示20＋2.2为正常）。
仪表显示23.24、接着加入“40”的标液，仪表显示“41.9”（即40±2.2正常）5、加入“80”的标液，此时显示“75.5“，（此时应以此数进行线性调整）（即“调整1”的参数）6、加入“160”液，显示“128”，(此时应以此数进行线性调整)（即“调整2”的参数）三：线性输入1、按选择健，进入“调整1”，将理想值：输入：82.2（即标液值80＋正加药空白值2.2），实际值：输入“75.5”，确认健确认。
2、按选择健，进入“调整2”，将理想值：输入为：162.2（即标液值160＋2.2），实际值输入为：“128”3、然后按“E”健确认。
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二氧化硅自动分析仪的设计
摘要：本文介绍了一种二氧化硅浓度自动分析仪的设计方法，该自动分析系统以80C196KC单片机为核心，能对使用水自动采样、自动分析，并能显示、打印分析结果，同时兼具样水温度、化学试剂量、光源电池电压和二氧化硅浓度超限报警功能。
关键词：二氧化硅浓度分析
0 引言
在石油、化工、电力等工业生产中，有时需要对使用水的二氧化硅含量进行控制，使其浓度不超过控制指标，于是就需要对二氧化硅的浓度进行测量分析。
本文介绍了一种二氧化硅浓度自动分析仪的设计方法，该自动分析系统以单片机80C196KC为核心，能对使用水自动采样、自动分析、自动清洗，并能显示、打印分析结果，同时兼具样水温度、化学试剂量、光源电池电压和浓度超限报警功能。
系统采用吸收测量的方法，这种分析方法是间接的。
首先使待分析的样水与一系列化学试剂反应，生成稳定的蓝色溶液，蓝色溶液的深浅与二氧化硅的浓度相关；然后将单色光穿过溶液，二氧化硅的浓度不同，蓝色溶液的深浅则不同，对单色光的吸收能力不同，于是透射光的光强是不同的；最后用光电池测量透射光的光强。
由于透射光的光强与二氧化硅的浓度相关，进而间接反映出二氧化硅的浓度。
1 分析原理
将样水与成色液、掩色液和还原剂进行一系列化学反应，最后生成的是稳定的蓝色溶液——异聚钼蓝复酸盐。
成色液(试剂A)为钼酸
氨——硫酸溶液，与水中的二氧化硅反应，生成硅钼酸。
掩色液(试剂B)为酒石酸，防止样水中的磷酸根离子参与反应。
还原剂(试剂C)为1氨基——2苯酚——4磺酸亚硫酸氢钠溶液，与硅钼酸反应生成蓝色的异聚钼蓝复酸盐。
将单色红光穿过反应后的蓝色溶液，投射到光电池上，光电池输出一个相应的电流信号，它与入射光的光强成正比，即由输出电流可以计算出入射光强，进而确定二氧化硅的浓度。
计算方法如下：C=A log( B )
其中：C为测得的浓度，单位为ppb；A为吸收系数，由已知浓度的标准蓝色玻璃的透射光强计算出；B为未知浓度的蓝色溶液的透射光强。
2 分析系统硬件组成
自动分析系统以80C196KC单片机为核心，配以运算放大器、温度传感器、锡光电池、液位传感器、驱动电路等组成。
系统有两种输入信号：一种是模拟信号，有两路，它们是光电池输出的电流信号和温度传感器输出的电阻信号，经过放大和转换电路变成直流电压信号分别送入单片机进行A/D变换；另一种是开关信号，有溢流槽样水液位，试剂A、B、C的液位。
系统输出有：显示、打印样水二氧化硅的浓度；进水阀和排水阀、加热器和电磁过滤器、试剂泵、搅拌马达、分析光源、标定用蓝色标准浓度玻璃的开关控制；还有电池电压、溢流槽液位、试剂液位、样水温度和二氧化硅浓度超限报警信号。
分析系统从自动采样、分析到清洗完毕，一个循环需要15分钟，
共分为30步运行，即15分钟分析一个样。
为了保证分析精度，系统采取了一系列措施：①分析池照射光源采用电池供电，保证光强的稳定性。
②保证最佳的反应温度，用加热器控制样水的水温在40~44范围内。
③取光电池的电流输出信号，光电池的负载用50Ω的标准电阻，保证入射光强与输出电流的线性关系，且当入射光强在0～1000Lx时输出电流为0～1600μA。
④分析每个样水前，需要测量暗电流、0ppb时、及500ppb标准蓝色玻璃时的电流、采用自校正的方法[1]，修正测量曲线。
⑤为保证加入的化学试剂量准确，采用三个容积式隔膜泵进行加药。
3 结束语
使用二氧化硅浓度自动分析仪，在0～50℃的环境温度下，对含有不同浓度二氧化硅的样水进行测量分析。
分析结果表明：在0～50℃的环境温度下，在0~500ppb浓度范围内，系统测量的相对误差小于1.5%。