场效应管及其放大电路

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第七章 场效应管及其基本放大电路

第七章  场效应管及其基本放大电路

N沟道增强型MOS管的输出特性曲线
7
(3) uDS和uGS同时作用时
uDS一定,uGS变化时 给定一个uGS ,就有一条不同的 iD – uDS 曲线。
iD / mA 预夹断临界点轨迹 uDS = uGS - Uth 可变电阻区 7V
8 6 4 2 0 饱和区 6V 5V 4V uGS = 3V 截止区 0 5 10 15 20 uDS / V
低频跨导:
gm iD u GS
U
DS
夹断区(截止区)
常量
不同型号的管子UGS(off)、IDSS将不同。
20
7.3场效应管的分类
工作在恒流区时g-s、d-s间的电压极性
N 沟道 ( u GS < 0, u DS > 0 ) 结型 P 沟道 ( u GS > 0, u DS < 0 ) N 沟道 ( u GS > 0, u DS > 0 ) 场效应管 增强型 P 沟道 ( u GS < 0, u DS < 0 ) 绝缘栅型 N 沟道 ( u GS 极性任意, u DS > 0 ) 耗尽型 P 沟道 ( u GS 极性任意, u DS < 0 )
场效应管工作在恒流区的条件是什么?
17
3. JFET特性
iD / mA 可变电 阻区 -1V 恒流区 -2V -3V -4V -5V 0 (a) 输出特性曲线 夹断区 uDS / V UP -6 -5 -4 -3 -2 -1 0 uGS / V (b) 转移特性曲线 预夹断轨迹 uGS = 0V iD / mA IDSS
各种场效应管的特性比较(2)
结构类型
工作 方式 增 强 型
电路符号
转移特性曲线

场效应管三种组态放大电路特点

场效应管三种组态放大电路特点

场效应管三种组态放大电路特点
场效应管有三种组态放大电路,分别是共源放大电路、共漏放大电路和共栅放大电路。

它们的特点如下:
1. 共源放大电路:
- 输入电压是输入信号的电压变化,输出电压是负载电阻上的电压变化。

- 具有电压放大和电流放大的作用,电压增益较大。

- 输入电阻高,输出电阻低。

- 可以实现单端放大,但需要外部耦合电容。

2. 共漏放大电路:
- 输入电压是输入信号的电压变化,输出电压是源极电压的变化。

- 具有电压放大和电流放大的作用,电压增益较大。

- 输入电阻低,输出电阻高。

- 适用于低频信号放大,对高频信号响应较差。

3. 共栅放大电路:
- 输入电压是栅极电压的变化,输出电压是负载电阻上的电压变化。

- 具有电压放大和电流放大的作用,电压增益较小。

- 输入电阻低,输出电阻高。

- 适用于高频信号放大,对低频信号响应较差。

这三种组态放大电路根据不同的应用需求选择,能够满足不同频率
范围、电压增益和输入输出特性的要求。

模拟电子技术第章场效应管及其放大电路

模拟电子技术第章场效应管及其放大电路

v O1
例在如图所示电路中,已知VDD=15V,Rg1=150kΩ, Rg2=300kΩ, Rg3=1MΩ, Rd= RL=5kΩ,Rs=0.5kΩ, MOS管的VT=2V, IDO=2mA 。 试求解:
(1)电路的静态工作点;R 2
(2)电路的电压放大倍数、输入
电阻和输出电阻;
解:(1)
vI vi
i
2.共源极放大电路的动态分析
R2
+
vO
vI vi
vo
vGS 2VT
fL
v2 R1 v2
vO1 /V
-
vGS 2
交流等效电路
VT1
Av
V T
VVo2i VT
vGS
g
mVGS (Rd VGS
// RL )
v GS1
g m RL vGS VT
f
Rivi
vI 2
Ro Rd
vO2 /V
第25页/共32页
5
0.15 0.3
Ri
Rg 3
Rg1
//
Rg 2
(2
)M 0.15 0.3
2.1M
vOR1o/
V
Rd
2k
vi
第28页/共32页
v GS1 vGS VT
fL
f vI 2
3.共漏极放大电路的动态分析
R2 vi
vI
V i vO
VGS g mVGS
v2 R1
VGG VGSQ I DQ RS
(1)
vGD VT
iD几乎仅仅受控于vGS
vGS的增大几乎全部用 来克服夹断区的电阻
第12页/共32页
R2 vI
(2)特性曲线和电流方程

《模拟电子技术》课件第4章场效应管及其基本放大电路

《模拟电子技术》课件第4章场效应管及其基本放大电路

iD(mA)
vGS=7V vGS=5V
vGS=3V
vDS/V
N沟道增强型MOSFET
3) V-I 特性曲线及大信号特性方程 (1)输出特性
N沟道增强型MOSFET
iD f (vDS ) vGSconst.
① 截止区 当vGS<VT时,导电沟道尚未形 成,iD=0,为截止工作状态。 ② 可变电阻区
p+
p+p+ p+
沟道电阻增大。 3)当│vGS│↑到一定值时 ,
VGVGGG VGG
NN N
沟道夹断。
ss
s
当沟道夹断时,对应的栅源电压
vGS称为夹断电压VP 。
N沟道的JFET,VP <01。5
N沟道JFET工作原理
② vDS对iD的影响 (vGS =0)
1)当vDS=0时,iD=0。
2) vDS iD
短由线于表栅示极在未与加源适极当、栅漏压极前漏均极无与电源接极触之,间无故导称电绝沟缘道栅。极。
§4.1 场效应管
一、金属氧化物-半导体(MOS)场效应管 1.N沟道增强型MOSFET
1)结构(N沟道)L :沟道长度 W :沟道宽度 tox :绝缘层厚度 通常 W > L
3
2)工作原理
s 二氧化硅
§4.1 场效应管
场效应管(Field Effect Transistor简称FET)是一
种电压控制器件,工作时,只有一种载流子参与导电,
因此它是单极型器件。
MOSFET 增强型
绝缘栅型场效应管 耗尽型
FET分类:
JFET
N沟道
结型场效应管 P沟道
N沟道 P沟道
N沟道 P沟道

第4章 场效应管及其基本放大电路

第4章 场效应管及其基本放大电路

恒流区
IDSS/V
G
D S
+
-
VGG
+
V uGS
VDD
-
O
UGS = 0V -1 -2 -3 -4 -5 -6 夹断区 -7 U P 8V
击穿区
uDS /V
特性曲线测试电路
漏极特性
漏极特性也有三个区:可变电阻区、恒流区和夹断区。
各类场效应管的符号和特性曲线 种类 结型 耗 尽 N 沟道 型 结型 耗 尽 P 沟道 型 绝缘 增 栅型 强 N 沟道 型 符号
S
S
VGG
(c) UGS <UGS(off)
(b) UGS(off) < UGS < 0
(2) 漏源电压uDS 对漏极电流iD的控制作用
uGD = uGS -uDS (a)
P+
D
iD
(b)
D
iD
G
N
P+
VDD
+ P+ GP N
P+
VDD
S iS uGS = 0,uGD > UGS(Off) ,iD 较大。
uDS /V
O
UT 2UT
uGS /V
二、N 沟道耗尽型 MOSFET
制造过程中预先在二氧化硅的绝缘层中掺入正离子, 这些正离子电场在 P 型衬底中“感应”负电荷,形成“反 型层”。即使 UGS = 0 也会形成 N 型导电沟道。 UGS = 0,UDS > 0,产生 较大的漏极电流; UGS < 0,绝缘层中正离 子感应的负电荷减少,导电 沟道变窄,iD 减小; UGS = UP , 感应电荷被 “耗尽”,iD 0。
导电沟道是 N 型的, 称 N 沟道结型场效应管。

电子技术基础第三章场效应管及其放大电路

电子技术基础第三章场效应管及其放大电路
• JFET是利用PN结反向电压对耗尽层厚度的控制, 来改变导电沟道的宽窄,从而控制漏极电流的大小。
• 预夹断前iD与vDS呈近似线性关系;预夹断后, iD趋于 饱和。
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思考:为什么JFET的输入电阻比BJT高得多?
场效应管的应用小结
• 一是当作压控可变电阻,即非线性电阻来使用, VGS的绝对值 越大,导电沟道就越窄,对应的导电沟道电阻越大,即电压 V电G阻S控使制用电时阻,的导大电小沟,道管还子没工有作出在现可预变夹电断阻;区,当作压控可变
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场效应管的分类
场效应管 FET
结型
JFET
IGFET ( MOSFET ) 绝缘栅型
N沟道 P沟道 增强型
耗尽型
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N沟道 P沟道
N沟道 P沟道
第二节 结型场效应管(JFET)的 结构和工作原理
一、结型场效应管的结构
二、结型场效应管的工作原理
三、结型场效应管的特性曲线 及参数
UDS(sat) ≤│Up│。
JFET的三个状态
• 恒流区(放大区、饱和区) • 可变电阻区 • 截止区
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小结
• 沟道中只有一种类型的多数载流子参与导电,所以 场效应管也称为单极型三极管。
• JFET栅极与沟道间的PN结是反向偏置的,因此 iG0,输入电阻很高。
• JFET是电压控制电流器件,iD受vGS控制。
第一节 场效应管概述 第二节 结型场效应管的结构和工作原理 第三节 绝缘栅场效应管的结构和工作原理 第四节 场效应管放大电路
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• 3-1 • 3-4 • 3-6 • 3-12
作业
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第三章场效应管及其放大电路

第三章场效应管及其放大电路

第三章 场效应管及其放大电路1. JEFT 有两种类型,分别是N 沟道结型场效应管和P 沟道结型场效应管2. 在JFET 中:(1) 沟道夹断:假设0=DS v ,如图所示。

由于 0=DS v ,漏极和源极间短路,使整个沟道内没有压降,即整个沟道内的电位与源极的相同。

令反偏的栅-源电压GS v 由零向负值增大,使PN 结处于反偏状态,此时,耗尽层将变宽;由于在结型场效应管制作中,P 区的浓度远大于N 区的浓度,所以,耗尽层主要在N 沟道内变宽,随着耗尽层宽度加大,沟道变窄,沟道内的电阻增大。

继续反响加大GS v ,耗尽层将在沟道内合拢,此时,沟道电阻將变的无穷大,这种现象成为沟道夹断(2)在DS v 较小时,DS v 的加大虽然会增大沟道内的电阻,但这种影响不是很明显,沟道仍处于比较宽的状态,即沟道的电阻在DS v 比较小的时候基本不变,此时加大DS v ,会使D i 迅速增加,D i 与DS v 近似为线性关系。

加大DS v ,沟道内的耗尽层会逐渐变宽,沟道电阻增加,D i 随DS v 的上升,速度会变缓。

当||P DSV v =时,楔形沟道会在A 点处合拢,这种现象称为预夹断。

3. 解:(1)(a )为N 沟道场效应管 (b )为P 沟道场效应管(2)(a )V V P4-= (b )V V P 4= (3)(a )A I DSS 5= (b )A I DSS 5-=(4)电压DS v 与电流D i 具有相同的极性且与GS v 极性相反,因而,电压DS v 的极性可根据D i 或GS v 的极性判断4.解:当JFET 工作在饱和区时,有关系式:2)1(PGS DSS D V V I i -= 5. 解:在P 沟道JFET 中,要求栅-源电压GS v 极性为正,漏源电压DS v 的极性为负,夹断电源P V 的极性为正6. 解:MOS 型场效应管的详细分类7. 解:耗尽型是指,当0=GS v 时,即形成沟道,加上正确的GS v 时,能使对数载流子流出沟道,因而“耗尽”了载流子,使管子转向截止。

模拟电路场效应管及其基本放大电路

模拟电路场效应管及其基本放大电路

UGS(off)
信息技术学院
3. 特性
(1)转移特性
在恒流区
uGS 2 iD I DSS (1 ) U GS(off)
漏极饱 和电流
(U GS (off ) uGS 0)
夹断 电压
信息技术学院
(2)输出特性
iD f (uDS ) U GS 常量
IDSS g-s电压 控制d-s的 等效电阻
信息技术学院
P 沟道场效应管 D
P 沟道场效应管是在 P 型 硅棒的两侧做成高掺杂的 N 型区(N+),导电沟道为 P 型, 多数载流子为空穴。 d
P G
N+ 型 沟 道 N+
g
S
s 符号
信息技术学院
2. 工作原理
(1)栅-源电压对导电沟道宽度的控制作用
uDS=0
UGS(off)
沟道最宽 (a)uGS = 0
2)耗尽型MOS管
夹断 电压
信息技术学院
各类场效应管的符号和特性曲线
种类 结型 N 沟 道 符号 D 转移特性 ID /mA IDSS 漏极特性 UGS= 0V
ID
-
G
S D
UGS(off) O
UGS
O + + + ID O
o
UDS
ID
结型
P 沟 道
O UGS(off) UGS
G
IDSS
S D B
iD f (uGS ) U DS 常量
当场效应管工作在恒流区时,由于输出特性曲线可近似为横轴的一组平行 线,所以可用一条转移特性曲线代替恒流区的所有曲线。输出特性曲线的 恒流区中做横轴的垂线,读出垂线与各曲线交点的坐标值,建立uGS,iD坐 标系,连接各点所得的曲线就是转移特性曲线。

fet及其放大电路

fet及其放大电路

沟道增强型MOS场效应管 场效应管(EMOS) 一、N沟道增强型 沟道增强型 场效应管 1. 结构与符号
S Al G D SiO2 D N+ N+ G P型Si衬底 U (a) (b) (c) 衬底 U S G D 衬底 U S
(a) N-EMOS场效应管的结构 (b) N-EMOS的符号 (c) P-EMOS的符号
d)截止区和亚阀区 截止区: VGS ≤ VGS(th), 无导电沟道,ID≈0 实际: VGS ≤ VGS(th),时ID不会突变为0。 亚阀区(弱反型层区): 当VGS(th)-100mV ≤VGS ≤ VGS(th) )+100mV时,ID与VGS成指数关系,用于低功耗场合。
(2)转移特性曲线
I D = f (U DS ) UGS =常数
图 沟 道 结
.5V
N
UGS
0V
型 场 效 应 管 的 输
UGSoff
出 特 性
20
uDS V
根据工作情况, 输出特性可划分为4个区域, 即: 可 变电阻区、 恒流区、击穿区和截止区。
2. 转移特性曲线
I D = f (U GS ) U DS =常数
图 4-2 当UDS=0时UGS对导电沟道的影响示意
2. ID与UDS、UGS之间的关系
图 UDS对导电沟道和ID的影响 (a) VDS<VGS-VGS(off) (b) VDS=VGS-VGS(off)
三、伏安特性曲线 1.输出特性曲线 输出特性曲线
iD mA UDS UG 4 3 1V 2 1 0 5 10 (b) 15 1.5V 2V UGS(off)
I D = K (V GS − V GS = K (V GS − V GS

第四章:场效应管及放大电路讲解

第四章:场效应管及放大电路讲解

iD
vGS 0 VT
(1-34)
模拟电子
输出特性曲线 iD
vGS>0
0
v DS
(1-35)
耗尽型N沟道MOS管的特性曲线
模拟电子
耗尽型的MOS管VGS=0时就有导电沟道, 加反向电压才能夹断。
iD
转移特性曲线
vGS VT 0
(1-36)
模拟电子
输出特性曲线 iD
vGS>0
vGS=0
vGS<0
P NN
P沟道结型场效应管 D
G
S源极
S
(1-6)
模拟电子
(2)工作原理(以P沟道为例) VDS=0时
PN结反偏,
VGS越大则耗
D
尽区越宽,导 电沟道越窄。G
P
VDS
NN
VGS S
(1-7)
VGS越大耗尽区越 宽,沟道越窄, 电阻越大。
G
但 尽区当宽VG度S较有V小限DS时=,0,时模存耗拟电子 在导电沟道。DS间 D 相当于线性电阻。
Vgs
-
gmVgs
s
+
Rg2
R RL Vo -
(1-56)
中频电压增益
模拟电子
Vo gmVgs (R // RL )
Vgs Vi Vo
Vo gm (Vi Vo )( R // RL )
A Vm

Vo Vi

gm (R // RL ) 1 gm (R // RL )


Rg2 47k
Rg1 2M
Rd 30k
d
g
Rg3
s
10M

R
2k

场效应管及放大电路

场效应管及放大电路
场效应管及基本放大电路
场效应管是利用电场效应来控制电流 大小,与双极型晶体管不同,它是多子导 电,输入阻抗高,温度稳定性好、噪声低。 场效应管有两种: 绝缘栅型场效应管MOS 结型场效应管JFET
分类:
JFET 结型 MOSFET (IGFET) 绝缘栅型
N沟道
P沟道
(耗尽型) N沟道
FET 场效应管
ID=f(VDS)VGS=const
输出特性曲线
vGS 在恒流区,iD I D 0 ( - 1) 2 VT
I D 0是vGS 2VT时的iD值
输出特性曲线
(1) 截止区(夹断区) VGS< VT以下区域就是截止区 VGS VT ID=0
iD
(2) 放大区(恒流区) 产生夹断后,VDS增大,ID不变的 区域,VGS -VDS VP VDSID不变 处于恒流区的场效应管相当于一 个压控电流源 (3)饱和区(可变电阻区) 未产生夹断时,VDS增大,ID随着增大的区域 VGS -VDS VP VDSID 处于饱和区的场效应管相当于一个压控可变电阻
夹断 电压
在恒流区时 uGS 2 iD I DSS (1 ) Up
uGD=UGS(off)时称为 预夹断
3. 主要参数
① 夹断电压VP (或VGS(off)): 漏极电流约为零时的VGS值 。 ② 饱和漏极电流IDSS: VGS=0时对应的漏极电流。 ③ 低频跨导gm: 低频跨导反映了vGS对iD的控制作用。gm 可以在转移特性曲线上求得,单位是mS(毫西门子)。
2. 静态工作点
Q点: VGS 、 ID 、 VDS 已知VP ,由
vGS = - iDR
VDS = VDD - ID (Rd + R )

场效应管及其基本放大电路

场效应管及其基本放大电路

场效应管及其基本放大电路3.2.3.1 场效应管( FET )1.场效应管的特色场效应管出生于 20 世纪 60 年月,它主要拥有以下特色:①它几乎仅靠半导体中的多半载流子导电,故又称为单级型晶体管。

②场效应管是利用输入回路的电场效应来控制输出回路的电流,并以此命名。

③输入回路的内阻高达 107 -1012Ω;此外还拥有噪声低、热稳固性好、抗辐射能力强、耗电小,体积小、重量轻、寿命长等特色,因此宽泛地应用于各样电子电路中。

场效应管分为结型和绝缘栅型两种不一样的构造,下边分别加以介绍。

2.结型场效应管⑴结型场效应管的符号和N 沟道结型场效应管的构造结型场效应管(JFET)有 N 沟道和 P 沟道两种种类,图3-62(a) 所示为它们的符号。

N沟道结型场效应管的构造如图 3-62(b) 所示。

它在同一块 N型半导体上制作两个高混杂的P 区,并将它们连结在一同,引出电极,称为栅极 G; N 型半导体的两头分别引出两个电极,一个称为漏极 D,一个称为源极 S。

P 区与 N 区交界面形成耗尽层,漏极与源极间的非耗尽层地区称为导电沟道。

(a) 符号(b)N 沟道管的构造表示图图 3-62 结型场效应管的符号和构造表示图⑵结型场效应管的工作原理为使 N沟道结型场效应管正常工作,应在其栅 - 源之间加负向电压(即U GS0),以保证耗尽层蒙受反向电压;在漏- 源之间加正向电压u DS , 以形成漏极电流i D。

下边经过栅-源电压 u GS和漏-源电压 u DS对导电沟道的影响,来说明管子的工作原理。

①当 u DS=0V(即D、S短路)时, u GS对导电沟道的控制作用ⅰ当 u GS=0V时,耗尽层很窄,导电沟道很宽,如图3-63(a)所示。

ⅱ当 u GS增大时,耗尽层加宽,沟道变窄(图(b) 所示),沟道电阻增大。

ⅲ当u GS增大到某一数值时,耗尽层闭合,沟道消逝(图(c) 所示) , 沟道电阻趋于无穷大,称此时u GS的值为夹断电压U GS( off )。

第1113讲场效应管及其放大电路

第1113讲场效应管及其放大电路

3. 分压式偏置电路
即典型的Q点稳定电路
UGQ
UAQ
Rg1 Rg1Rg2
VDD
USQ IDQRs
ID IDO(UUGGSS(Qt h) 1)2
U DS V Q D D ID(Q R dR s)
为什么加Rg3?其数值应大些小些?
哪种场效应管能够采用这种电路形式设置Q点?
[例1.4.1] 已知某管子的输出特性曲线如图所示。试分 析该管为什么类型的场效应管(结型、绝缘栅型、N 沟道、P沟道、增强型、耗尽型)。
增强型MOS管uDS对iD的影响
刚出现夹断
iD随uDS的增 大而增大,可
uGD=UGS(th), 预夹断
变电阻区
uGS的增大几乎全部用 来克服夹断区的电阻
iD几乎仅仅 受控于uGS,恒 流区
用场效应管组成放大电路时应使之工作在恒流区。N 沟道增强型MOS管工作在恒流区的条件是什么?
耗尽型MOS管
1. 结型场效应管
结构示意图
漏极
符号
栅极
导电 沟道
源极
栅-源电压对导电沟道宽度的控制作用
沟道最宽
UGS(off)
沟道变窄
沟道消失 称为夹断
uGS可以控制导电沟道的宽度。为什么g-s必 须加负电压?
动画1
漏-源电压对漏极电流的影响
uGD>UGS(off)
uGD=UGS(off)
预夹断
uGD<UGS(off)
第11-13讲 场效应管及其放大电路
一、场效应管
二、场效应管放大电路静态工作点 的设置方法 三、场效应管放大电路的动态分析 四、复合管
一、场效应管(以N沟道为例)
场效应管有三个极:源极(s)、栅极(g)、漏极(d), 对应于晶体管的e、b、c;有三个工作区域:截止区、恒流区、 可变电阻区,对应于晶体管的截止区、放大区、饱和区。

模电第10讲 场效应管及其放大电路

模电第10讲 场效应管及其放大电路

三、场效应管放大电路的动态分析
1. 场效应管的交流等效模型
与晶体管的h参数等效模型类比:
近似分析时可认 为其为无穷大!
iD gm uGS
U DS
根据iD的表达式或转移特性可求得gm。
i D 2 I DSS 1 uGS gm uGS U U GS(off) U GS(off)

U
DS
2 I
2 DSS
1 uGS U GS(off) U GS(off)

2
U DS
2 U GS(off)
2 U GS(off)
2 UGS(th)
I DSS iD
当小信号作用时,可以用来 I DQ近似id,所以
gm
I DSS I DQ
同理,对于增强型MOS管
gm
I DO I DQ
2. 基本共源放大电路的动态分析
• 例2.7.1 已知图中所示电路 VGG 6V VDD 12V Rd 3kΩ
VGS(th) 4V I DO 10mA
试估算电路的Q点
Au
Ro
解:(1)求Q:
VGS VGG 6V 2 U GSQ I DQ I DO 1 2.5mA U GS(th) UDSQ VDD I DQ Rd 4.5V
优点:输入电阻高、噪声系数低、温度稳定性好、 抗辐射能力强、便于集成化。缺点:放大能力差。
输入 输出 公共极
Au
gm Rd 大 倒相
Ri
Ro
共源 g
d
s
很大 大几千欧 几倍~几十倍
gm Rs 1 gm Rs 小同相
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R R // R L L
②输入电阻
( I R R ) V i R g g 1// g 2 i R R R // R i g g 1 g 2 I I i i
I i
R
i
③输出电阻
V 'o I 'o g V 'o/[ R //( 1 /g )] m gs V m R V 'o R R R //( 1 /g ) o m I 'o 1 R g m
4、 输入电阻RGS
结型场效应三极管,反偏时RGS约大于107Ω; 绝缘栅型场效应三极管, RGS约是109~1015Ω。
5、低频跨导gm 它反映了栅压对漏极电流的控制作用,gm可以在 转 移特性曲线上求取,单位是mS(毫西门子)。 6、最大漏极功耗PDM PDM= VDS ID决定,与双极型三极管的PCM相当。
回顾
(CCCS)! 晶体管是 电流控制电流器件 ?器件
数学描述? IC IE , 1 IC IB , 1
场效应管放大电路
场效应管———利用电场效应工作的晶体管。
输入电压产生电场, 电场控制输出电流器件(VCCS)。
一、场效应管分类: 1、按导电沟道类型分
场效应管是单一载流子参与导电的器件。 (1)电子作为载流子的器件叫N沟道场效应管; (2)空穴作为载流子的P沟道场效应管。
共源直流通道
于是可以解出VGSQ、IDQ
和VDSQ。
2)交流分析
微变等效电路如图所示
①电压放大倍数
g V V o m gs ( Rd // RL ) ( R // R ) g V V m gs d L o A g m R 'L v V V i gs R 'L Rd // RL
耗尽型 N沟道、P沟道
5.1 绝缘栅场效应三极管的工作原理
1、N沟道增强型MOSFET结构
(动画5-1)
D(Drain)为漏极,相当c; G(Gate)为栅极,相当b; S(Source)为源极,相当e。
MOSFET结构符号示意图
2、工作原理 (1)当VGS=0V时,D、S之间加上电压也不会形 成电流。 (2)0<VGS<VGS(th)时,栅极 和衬底间的电容作用,出现了一 薄层负离子的耗尽层。但少子数 量有限,不足以将漏极和源极沟 通,漏极电流ID=0。
2 2 I I [ 1 V / V ] 5 . 2 mA [ 1 V /( 4 . 2 V )] DQ DSS GSQ P GSQ
联立解出: V 2 . 2 V , I 1 . 1 mA GSQ DQ
而: V V I ( R R ) 18 1 . 1 ( 8 2 ) 7 ( V ) DSQ DD DQ d S
7、伏安特性曲线
各类场效应三极管的特性曲线
N 沟 道 绝 增 缘 强 型
栅 场 效 应 管
P 沟 道 增 强 型
绝 缘 栅 场 效 应 管
N 沟 道 耗 尽 型 P 沟 道 耗 尽 型
5.2 结型场效应三极管
1、结型场效应管结构
N型沟道JFET是在N型半导体两侧各造一个 PN结。P区即为栅极,N型硅的一端是漏极,另 一端是源极。
当VGS>VGS(th),且固定为某一值,观察漏 源电压VDS对漏极电流ID的影响。
VDS=VDG+VGS =-VGD+VGS VGD=VGS-VDS
(动画5-3)
(1)当VDS较小时, VGD > VGS(th) 沟道分布如图,此时 VDS 基本均匀降落在沟道中,沟道 呈斜线分布。 漏源电压VDS对沟道的影响
4、结型场效应三极管的特性曲线
VP
(a) 漏极输出特性曲线 (b) 转移特性曲线 N沟道结型场效应三极管的特性曲线 动画(5-6) 动画(5-7)
经验公式:
V 2 GS i I ( 1 ) ( V V 0 ) D DSS P GS V P
V GS 2 I ( 1 ) DSS i V D P g ( V V 0 ) m P GS v V GS P
(动画5-4)
2、结型场效应管的工作原理
结型场效应管,只能工作在反偏的条件下,
对于N沟道结型场效应管只能工作在负栅压区,P 沟道的只能工作在正栅压区,否则将会出现栅流。 出现栅流意味着失控。
3、栅源、漏源电压对沟道的控制作用 1)栅源电压VGS的单独作用 VDS=0,栅、源之间加负电压,PN结反偏, 形成耗尽层,随着栅源电压的负向增大,耗尽 层加宽,漏、源间的沟道变窄,VGS继续减小, 沟道继续变窄,沟道全部合拢时的VGS称为夹 断电压VP。
VGS对沟道的控制作用(动画5-5)
2)漏源电压VDS单独作用 VGS=0,在漏、源之间加 正电压,产生漏极电流ID,形 成漏、源间的电压梯度。 因PN结反偏,形成耗尽层, 靠近漏极处的耗尽层加宽,沟 道变窄,从下至上呈楔形分布。 VDS增加ID增加,当VGD=VGSVDS=VP时,沟道漏极端合拢, 称为预夹断。 预夹断后,VDS进一步增加, ID也难以增加,管子进入恒流 区。
结 型 场 效 应 管
N 沟 道 耗 尽 型
P 沟 道 耗 尽 型
5.3 场效应三极管的参数
1、开启电压VGS(th)(或VT)
它是增强型MOS管的参数,当VGS<VGS(th)时, 场效应 管不能导通。
2、夹断电压VP (或VGS(off)) 它是耗尽型FET的参数,当VGS=VP 时,漏极电流为 零。 3、 饱和漏极电流IDSS 它是耗尽型场效应三极管当VGS=0时, 所对应的漏 极电流。
5.4 场效应型三极管的低频小信号模型
5.5 场效应管放大电路 1 共源组态基本放大电路
2 共漏组态基本放大电路
3 共栅组态基本放大电路
4 三种组态基本放大电路的比较
1、共源组态基本放大电路
(1)、自生栅偏压式共源组态放大电路 共源基本放大电路,可以与共射组态放大 电路相对应,自生栅偏压意思是: VGS由自身 的Id产生。
, V 'o V gs
3 共栅组态基本放大电路
2
i 2 D g 2 K ( v V ) 2 K i I i m n GS GS ( th ) n D DO D v V GS GS ( th ) v
DS
6、N沟道耗尽型MOSFET 在栅极下方的SiO2层中掺 入了正离子。即便VGS=0,正 离子也感应出反型层,在漏源 之间形成导电沟道。 当VGS>0,ID进一步增加;VGS<0时,随着VGS 的减小漏极电流也减小,直至ID=0。对应ID=0的VGS 称为夹断电压,用符号VP表示。
(3)当VGS>VGS(th) ( 开启 电压)时,栅极电压足够强 ,使栅极下方聚集较多的电 子,形成沟道,如果此时加 有漏源电压,就可以形成漏 极电流ID。 (动画5-2) 在VGS=0V时ID=0,只有当VGS>VGS(th)后才会出现 漏极电流,这种MOS管称为增强型MOS管。
3、输入转移特性
耗尽型MOSFET经验公式:
V 2 GS i I ( 1 ) ( V V 0 ) D DSS P GS V P
V = 0 时, i = I GS D DSS
V GS 2 I ( 1 ) DSS i V D P g ( V V 0 ) m P GS v V GS P
2、按结构类型分
(1)结型场效应管JFET (Junction type Field Effect Transister) 利用PN结的宽度控制管子导电能力。
(2)绝缘栅型场效应管IGFET ( Insulated Gate Field Effect Transister) 也称金属氧化物半导体三极管MOSFET (Metal Oxide Semiconductor FET) 3 按导电方式分 增强型 N沟道、P沟道
VG=0V VGSQ= VG-VS= -IDQRs
IDQ= IDSS[1-(VGSQ /VP)]2
VDSQ= VDD-IDQ(Rd+R) 可以解出VGSQ、IDQ和VDSQ
2)求负载线 由:V I R I 2 K GSQ DQ S DQ
V V I ( R R ) 18 I ( 8 2 ) DSQ DD DQ d S DQ
(2)当VDS增加到VGD=VGS(th)时,相当于VDS增加使 漏极处沟道退缩到临界的情况如图b ,称为预夹断。 (3)当VDS再增加,使VGDVGS(th)时,预夹断区域 加长图C;VDS增加的部分基本降落在随之加长的夹断 沟道上, ID基本趋于不变。
5、漏极输出特性曲线 ID=f(VDS)VGS=const 当VGS>VGS(th),且固定为某一值时, VDS对ID的影响 的一族曲线称为漏极输出特性曲线。
经验公式(放大区):
V 2 GS i K ( v V ) I ( 1 ) ( V V D n GS GS ( th ) DO GS GS ( th )) V GS ( th )
2 2 K 是电导常数,单位是 mA / V ; n
I 是 V 2 V 的 i 值 ,I K V DO GS GS ( th ) D DO n GS (th )
VGS对漏极电流ID的控制关 系可用
ID=f(VGS)VDS=const
曲线描述了栅极电压VGS对 漏极电流ID的控制作用,称为 输入转移特性曲线。 VGS对ID的控制能力,体现在参数:gm(跨导) 上,定义如下 gm=ID/VGS V =consID的控制作用
②输入电阻
Ri
Vi Ii
.
.
Rg1 / / Rg2
③输出电阻
计算Ro的电路模型
负载RL开路,设在输出端加一个电源Vo’ ;再
设输入信号源短路,保留内阻RS ,则
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