LEF生成工具abstract培训材料

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上海EDMF编撰的培训资料

Technical Requirements for the Registration Dossier of EDMF/COS/CTD and Filing strategies in EU countriesEDMF/COS/CTD注册文件的技术要求及在欧盟国家的文件编撰策略Technical Requirements技术要求•EDMF compilation in CTD format CTD格式的EDMF的编撰:•a) Module 3.2. S. Drug Substance模块3.2. S. 药物物质•b) Module 2.3 Quality Overall Summary模块2.3 质量概述•CEP Procedure versus the DMF Procedure CEP程序对DMF程序•Filing strategies in EU countries在欧盟国家的文件编撰策略•Certification of suitability to the monographs of the European Pharmacopoeia针对欧洲药典专论的适应性证书•Procedure ,Submission of the Dossier, Content of the Dossier/Expert Report, Assessment, Timetable, Follow-up程序，文件递交，文件内容/专家报告，评估，时间表，后续工作How to get the guideline from the Internet ? 如何从互联网得到指南?•www.emea.eu.int•Human medicine or vet medicine人用药或兽药•Guidance documents指南文件•ICH•QWP•Approved guidelines批准的指南•Guidelines under discussion讨论中的指南Filing strategies文件编撰策略•CEP•ASMF/EDMF procedure ASMF/EDMF程序•???CEP Procedure versus the DMF Procedure CEP 程序对DMF 程序•Guideline on Summary of requirements for active substances in the quality part of the dossier针对文件质量部分中活性物质要求的概述的指南•Classification of active substances活性物质的分类:1.New active substances used for the first time in a medicinal product在药品中第一次使用的新的活性成分2.Existing active substances not described in the European Pharmacopoeia在欧洲药典中没有描述的现有的活性物质3.Existing active substances described in the European Pharmacopoeia在欧洲药典中有描述的现有的活性物质Application for a marketing authorisation of a Medicinal Product药品市场许可申请requires information on the Active Substance (AS) 活性物质(AS)的要求信息:1.Certificate of suitability to the Monograph of the European Monograph针对欧洲药典专论的适应性证书2.Active Substance Master File (ASMF ) procedure活性物质主文件(ASMF ) 程序3.Full details of manufacture完整的制造细节Feasible ways to submit可行的递交方式Depending on the classification of the AS取决于活性物质的分类1.For new active substances and substances not described in the Ph.Eur. :ASMF/EDMF对于在欧洲药典中没有描述的物质和新的活性物质: ASMF/EDMF2.For existing substances, descrribed in the Ph.Eur. : CEP or ASMF/EDMF对于在欧洲药典中描述的现有的活性物质: CEP 或ASMF/EDMFThe AS manufacturer provides either AS 制造商提供下列两者中的一个:•No 1) CEP or第1，CEP或•No 2 the ASMF/EDMF (Applicants part be included in the MA) 第2，ASMF/EDMF (MA包括此申请部分)Submission of the CEP/ CEP的递交Generally avoiding any subsequent reassessment通常应避免下列任何的重新评估AS manufacturer submits作为制造商递交:•copy of the most curent CEP最新的CEP的复印件•Written asurance that no significant changes in the manufacturing method have taken place书面保证：在采用的制造方法中没有发生重大变更Applicant submits申请人递交:•Results of batch analysis demonstrating compliance with the Ph.Eur. Monograph批分析结果要证明符合欧洲药典专论的要求ASMF/EDMF procedure ASMF/EDMF程序Guideline on Active Substance Master File procedure活性物质主文件程序的指南:CPMP/QWP/227/02Terms European Drug Master File (EDMF) and Active Substance Master File (ASMF) are interchangable欧洲药物主文件(EDMF)和活性物质主文件(ASMF)的条款可以通用Overview EDMF content EDMF内容概览Template letter of access and covering letter准阅信和封面信的模板ASMF/EDMF procedure ASMF/EDMF程序Overall content of the ASMF/EDMF as indicated in NTA/CTD format Module 3按照NTA/CTD格式模块3的指示做ASMF/EDMF的全部内容AP contains information non-condidental AP包含非保密的信息RP contains remaining information such as RP包含剩余的如下信息:•Detailed information on the manufacturing steps (reaction conditions, temperature etc.) 制造步骤的详细信息(反应条件，温度，等等)•Evaluation of critical steps关键步骤的评估•Quality control during manufacture制造中的质量控制•Validation验证ASMF/EDMF Submission ASMF/EDMF递交EDMF can only be submitted in support of an MAAEDMF只能在MAA的支持下递交EDMF Holder should submit to the MA holder(EDMF的持有者递交到MA的持有者): ✓Copy of the latest version of the AP (AP的最近版本的复印件)✓Copy of the QOS( QOS的复印件)✓Letter of access AP contains information non-condidental EDMF Holder should submit to the authoritiesEDMF持有者应当把AP包含的非保密内容的准阅信递交到官方部门✓Complete EDMF with covering letter有封面信的完整EDMF✓Letter of access准阅信✓Preparation and Filing of EDMF/ASMF for COS/CEP applicationies申请COS/CEP的EDMF/ASMF文件制作Technical Requirements技术要求•EDMF compilation in CTD format CTD格式的EDMF的编写:•a) Module 3.2. S. Drug Substance模块3.2. S. 药物物质•b) Module 2.3 Quality Overall Summary模块2.3 质量综述•CEP Procedure versus the DMF Procedure CEP程序对DMF程序•Filing strategies in EU countries欧盟国家的文件编排策略•Certification of suitability to the monographs of the European Pharmacopoeia欧洲药典专论的适应性证明•Procedure ,Submission of the Dossier, Content of the Dossier/Expert Report,Assessment, Timetable, Follow-up程序，文件的递交，文件目录/专家报告，评估，时间表，跟踪执行Certification procedure COS证明程序•Application at the EDQM (European Directorate for the Quality of Medicines) 在EDQM 申请（药品质量欧洲理事会）•How to apply ? 怎样申请？•Application form申请表•Procedere程序•Timetable时间表CEP Certification of suitability to the monographs of the Ph. Eur. CEP欧洲药典专论的适应性证明Scope范围:•CEP is intended for substances for which a monograph ( general or specific) has been adopted CEP是针对那些已经被某个专论（大体的或详细的）所采用的物质•Organic or inorganic ( active or excipients) 有机的或无机的（活性成分或赋形剂）•Substances produced by fermentation发酵产生的物质•Products with the risk of TSE有TSE风险的产品The CEP certifies that by applying the relevant monograph (if necessary with annex ) it is possible to ensure that all possible impurities from this particular route of manufacture can be fully controlled. 通过应用相关的专论（附件，如果必要）CEP 证明，从特别的制造路线生产的所有可能的杂质都是能够被完全控制的。

Abstract图形界面的使用说课讲解

Adjust Blockage Fracture Site Overlap Grids
Adjust Step
Create Boundary Pins
当开关关闭时，整条Net都定义
为Pin，并且每一次改变走向都
增加编号。例如：en1、en2等
A
当开关打开，在boundary的边
缘位置创建Pin，默认情况以
参数设置
Pins Step Extract Step Abstract Step Verify Step
Pins Step
Map Text Boundary Blocks
（label layer） // （（layer label）（layer drawing））
通配符方式的 Power和Ground定义
菜单说明
数据准备及建库流程
Tech.lef GDS Schematic Library PDK library
1、新建library
Abstract& （启动）与Virtuoso在相同目录启动。以便共用
cds.lib文件。
建库新建一个Library，以避免抽取过程对
Layout的影响。
3、导入GDS
此时，可以先关闭Abstract，用Virtuoso 完成接下来的操作。
将gds导入新库，并添加tf文件。在这里要注意，gds必须是DRC、LVS等检查都已通过的最终版本。
4、添加Schematic View
将Schematic.view拷贝到新的Library。以便提取过程中读取Net信息。
Abstract图形界面的使用
IP用到的Abstract功能
生成LEF文件提取Antenna信息

abstract教程

教程：使用abstract工具从DFFII中生成LEF教程：使用abstract工具从DFFII中生成LEF (1)DFFII到LEF提取的概述 (1)打开单元库同时检查工艺文件数据 (2)启动abstract生成工具 (2)打开工作单元库 (2)管脚提取过程 (3)提取视图过程 (4)抽象视图过程 (6)验证过程 (8)导出物理视图数据LEF (8)该教程介绍从DFFII中生成供布局布线工具使用的LEF的方法。

该教程将使用一个典型的abstract生成流程。

这没有包括全部的abstract功能的使用介绍。

简单的lef提取库数据该教程使用的数据存放的目录路径为：DFFII到LEF提取的概述从DFFII到生成LEF的过程可以总结如下几个步骤：1.打开单元库同时检查工艺文件数据在这一步中，我们将启动abstract工具并且打开指定工作的单元库。

在这一步需要检查工艺文件的正确性和完整性。

abstract工具能够通过cds.lib文件直接打开DFFII中现有的单元库而直接完成该步骤。

2.生成abstract物理视图只要工艺文件正确及包含有需要提取的单元数据的库，我们就可以进行从版图到abstract物理视图的提取工作了。

3.abstract物理视图LEF数据的生成从DFFII中生成LEF流程的最终步骤为使用abstract工具生成单元的物理视图数据。

打开单元库同时检查工艺文件数据启动abstract生成工具1.改变教程文件所在的当前目录路径记住：改变的教程目录路径下的层次化文件路径要与原路径目录层次化一致。

2.启动abstractabstract工具启动后的图形界面如下：打开工作单元库在这一步将打开名为amspll的单元库，该单元库包含有教程所需要的数据。

1.选择file->libraru-open to display，图形界面如下。

2.选择amspll库并且点击ok按钮打开相应的单元库。

在这一步工具对工艺文件进行必要的正确性验证，如果出现问题将显示出来。

工具培训

且紧密的方法。其提供一个完整生命模型，这个模型可通过分解结构中的一定次序的方法内容来细化。能力模式：一个特定过程，由一个可重用的Activity 阵列组成，能力模式象规程或者最佳实践一样，表示了某个领域的过程知识用来指导实践者的工作，能够用来组装提交过程或者更大的ontent的成份
EPF模型3- Process
• 过程描述了一个特定工作的做法。这个工作可能有一个相关性的小范围，在某些情况下，过程可作为能力模式来描述，或者可以作为一个完整的项目生命周期，在某些情况下可以作为一个提交过程。为了完成工作，一个过程可以重复使用方法元素，甚至组合方法元素为一个结构和序列；
• 过程有两种主要类型：提交过程：一个特定过程，其描述了一个实施一个特定项目类型的完整
2. EPF的流程框架模型
EPF模型1-过程体系框架
Method content describes what is to be produced, These method content descriptions are independent of a development lifecycle;
EPF模型8- delivery process
• A delivery process is a special process describing a complete and integrated approach for performing a specific project type. It provides a complete lifecycle model that has been detailed by sequencing method content in breakdown structures.

2024年ispLEVER培训教程-(多应用版)

ispLEVER培训教程-(多应用版)ispLEVER培训教程一、概述ispLEVER是MentorGraphics公司推出的一款功能强大的电子设计自动化（EDA）软件，广泛应用于集成电路（IC）的设计与验证。

本教程旨在帮助用户快速掌握ispLEVER的基本操作，了解其各项功能，为IC设计工作提供有力支持。

二、教程结构1.ispLEVER简介：介绍ispLEVER的基本概念、功能和特点。

2.ispLEVER安装与启动：指导用户完成ispLEVER的安装、启动及环境配置。

3.ispLEVER基本操作：讲解ispLEVER的基本操作，包括项目管理、文件操作、视图切换等。

4.ispLEVER设计流程：介绍ispLEVER的设计流程，包括原理图设计、布局布线、版图绘制等。

5.ispLEVER高级功能：讲解ispLEVER的高级功能，如时序分析、功耗分析、DFM等。

6.ispLEVER实用技巧：分享ispLEVER的使用技巧，提高设计效率。

7.ispLEVER常见问题解答：解答用户在使用ispLEVER过程中可能遇到的问题。

三、ispLEVER简介ispLEVER是一款基于Windows操作系统的EDA软件，支持多种IC设计流程，包括数字、模拟、混合信号等。

其主要特点如下：1.高度集成：ispLEVER集成了原理图设计、布局布线、版图绘制、仿真验证等功能，用户可以在一个平台上完成整个设计流程。

2.强大的仿真引擎：ispLEVER内置了多种仿真引擎，如DC、AC、TRAN、NOISE等，可满足不同类型电路的仿真需求。

3.丰富的库资源：ispLEVER提供了丰富的器件库和工艺库，支持多种工艺节点，方便用户进行设计。

4.易学易用：ispLEVER界面友好，操作简便，支持快捷键和鼠标操作，降低用户学习成本。

5.高效的设计流程：ispLEVER支持层次化设计，可提高设计复用率；支持团队协作，提高设计效率。

四、ispLEVER安装与启动1.安装前准备：确保计算机满足ispLEVER的系统要求，如操作系统、内存、硬盘空间等。

FloEF教材D培训讲义(全套)

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EFD培训讲义
• Lecture 1 - EFD介绍 • Lecture 2 - 向导 • Lecture 3 - 边界条件&初始条件 • Lecture 4 - 目标设定&其它条件 • Lecture 5 - 项目建立 • Lecture 6 - 计算域&求解 • Lecture 7 - 获取结果 • Lecture 8 – 计算网格
• 导热 • 材料 • 初始温度
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Surface-to-surface Radiation
• 求解包括固体间换热的情况。 • 固体温度很高且/或气体稀疏。 • 与对流换热相比，固体表面之间的辐射换热更
为显著。
10
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Satellite exposure to sun radiation
Trajectory
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• 使用滑条, 你可以选择八个等级之中的任何一个 – The first level ：能最快给出结果，但是精度不高. – The eighth level：能给出最准确的结果，但是需要比较长的时间计算收敛.
• 几何分辨率（Geometry Resolution）选项：也可以影响初始网格。可以在 Initial Mesh对话框中修改, 或者在 Local Initial Mesh 对话框中修改局部几何分辨率。
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NIKA GmbH 8
.
Step6: 初始与环境条件
.
对于 External分析
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.
• 在参数定义（Parameter Definition）可以手工设置初始（环境）条件，或者是采用其他项目的结果作为当前项目的初始（环境）条件: – 选择 User Defined：手动设置 – 选择 Transferred ：采用其他计算的结果

Abstract提取LEF详细流程[forencounter]

LEF
prMastersliceLayers( ;( layers : listed in order of lowest (closest to substrate) to highest ) ;( -------------------------------------------------------------------- ) ( AA GT )
By Leiu Leiuy iuy
Abstract
END M1
LEF
LAYER V1 TYPE CUT ; SPACING 0M2 TYPE ROUTING ; WIDTH 0.60 ; SPACING 0.50 ; OFFSET 0.70 ; PITCH 1.40 ; DIRECTION VERTICAL ; RESISTANCE RPERSQ 0.06100000 ; THICKNESS 0.00000060 ; END M2
CIW
LEF
lefout.list
virtuoso
3
20
By Leiu Leiuy iuy
Abstract
ok
#****** # Preview export LEF # # # # TECH LIB NAME: STDCell_SMIC035_LEF # TECH FILE NAME: techfile.cds #****** Preview sub-version 5.10.41_USR2.19.52
"default" "default"
prRoutingPitch( ;( layer ;( ----( M1 ( M2 ( M3 ) ;prRoutingPitch 1 20 pitch ) ----- ) 1.4 ) 1.4 ) 1.4 )

Abstract提取LEF说明

Abstract 提取LEF详细说明以我实际项目PLL_TOP_RAD_V2为例：需要提取LEF所需要的GDS (PLL_TOP_RAD_V2.gds) , gds相对应的的map ）, 以及tf (HL55LP_HS_RVT_V1p2d.tech.lef) 1.第一步，启动软件，终端窗口输入abstrct 启动软件，点击菜单File->New，新建一个名为PLL_TOP_RAD_V2的库，点击“OK”完成。

2.导入提取所需要的工艺LEF 和gds文件。

LEF导入：点击File->LEF ，在Import LEF窗口中输入所需要的tech.lef文件名及正确的路径。

确认View : abstract ，勾选上Overwrite ，点击“OK”完成导入LEF文件。

如果这步有警告或者错误请务必排查出问题所在，不然后面的步骤很难顺利完成。

GDS以及MAP导入：在GDSII 中输入framview gds 文件的路径及文件名。

Layer Map Table 一栏中输入工艺对应的map 文件，点击“OK”完成。

4.选中导入进来的Core中的CELL 点菜单Cells -> Move.. , Move Selected Cells 到Block, 点击OK 完成。

把PLL_TOP_RAD_V2 单元从Core移到了Block。

5.接下来的步骤进入到FLOW的流程，一步一步的完成。

首先是Flow -> Pin ,Map 一栏，详细情况如下图：在Map 栏中，Map text labels to pins 中(M3 M3) 说明，第一个M3指版图中我用的M3层打的pin，第二个M3就是金属三那一层，意思是我M3的pin 我用的M3 去打的label 。

（可明白？）其它工艺有可能是(M3txt M3)的表述，具体取决于你map 和lvs rule里面所有定义层的pin 在做LVS能够识别到的label 所打的层。

Abstract Factory模式详解及应用场景

Abstract Factory模式详解及应用场景Abstract Factory模式是一种软件设计模式，它是工厂方法模式的升级版。

它的作用是提供一种统一的接口，用来创建一系列相关或相互依赖的对象，而无需指定它们的具体类。

抽象工厂可以看做一种工厂的工厂，它管理着一系列的工厂，每个工厂负责创建一组对象。

下面将详细介绍Abstract Factory的工作原理及应用场景。

一、工作原理Abstract Factory模式分为抽象工厂、具体工厂、抽象产品、具体产品四个部分。

其中，抽象工厂和抽象产品是组成Abstract Factory模式最关键的两部分。

抽象工厂（Abstract Factory）：抽象工厂是一个接口，它声明了一组用于创建一系列产品的方法。

每个方法都对应于某一种产品。

具体工厂（Concrete Factory）：具体工厂是抽象工厂的子类，它实现了所有在抽象工厂中声明的方法，用于创建具体产品。

抽象产品（Abstract Product）：抽象产品是一个接口，它声明了一组用于具体产品的共同属性和方法。

具体产品（Concrete Product）：具体产品是实现抽象产品中定义的接口的对象，它通过具体工厂创建。

下面用一个例子来说明Abstract Factory模式的工作原理。

假设在一个电商平台上，有两个商家A和B，他们都销售服装，分别有衣服和裤子两种产品。

要实现Abstract Factory模式，需要先定义抽象产品和抽象工厂。

抽象产品```java// 衣服抽象产品public interface Clothes {public void show();}// 裤子抽象产品public interface Pants {public void show();}```抽象工厂```java// 抽象工厂public interface Factory {public Clothes createClothes();public Pants createPants();}```接下来，定义商家A和B的具体产品和具体工厂。

提交给后端的abstract_lef 设置规范文档(1)

提交给后端的lef规范文档许垄棋20130930注：使用的软件为IC5141，ASSURA_4.1首先，打开需要提交给后端的layout,在Tools点击Abstract Editor,在新出现的菜单栏上点击Abstract，并选择create Abstract,这时候系统会弹出Abstract的提取窗口,如下图。

开始提取lef的设置，选择菜单栏中的Flow-Pins，弹出如下的窗口，只需要在Map text labels to pins；Power pin names;Ground pin names;Output pin names填入相应的金属层和管脚。

Map text labels to pins 有两种方法，一种是直接跑run,系统跑完后会自动填入你的管脚使用到的金属层；另外一种是手动填入（MX MX）或者是（MX MXTXT），如果不知道你的pin的金属层用到了几种，就把全部的金属层填入进去。

Power pin names 和Ground pin names填入使用的电源PIN的名字即可。

Output pin names 的填入的同上。

填完之后，要选择Boundary选型，进行Boundary的选择，其界面如下：只选用修改Create boundary 的选项，它有三个选项，分别是off , always ,as needed。

off用在你的版图中已经手工画了boundary的情况;always是你版图没有画boundary,由软件给你自动画上；as needed视情况而定。

好了，这些设置完成后，就可以跑run了。

成功设置完成后，Pins的选型是打勾的，OK继续下一步骤。

二、选择Flow选项中的Extract , 不需要设置什么，直接run,在log窗口中出现如下提示，需要注意对一下PIN的总数是否和设计的一样，正确完成的话Extract下面打绿色的勾。

三、选择Flow-Abstract可以在Adjust栏中设置要创建的信号或者电源的pin的类型，如果不选择，则按设计的pin进行提取；之后还需要在Blockage 栏中设置OBS（阻挡层）距离信号或者电源线的距离，设置如下，模拟模块的距离一般设置成0.5；数字模块的距离设置成0.2。

2024版autoform全工序模拟培训教程

对收集的数据进行统计分析，计算合格率、不良率等指标，并识别出主要问题和改进方向。
报告编写
报告解读
根据分析结果编写评估报告，包括产品质量的总体评价、存在问题的详细描述以及改进建议。
向相关人员解释评估报告的内容和意义，确保他们理解产品的质量状况和改进方向。
2024/1/30
24
问题诊断与改进建议
数据检查与修复
检查导入的CAD数据是否存在错误或缺陷，并进行必要的修复和调整。
12
模型修复与简化
几何修复
修复导入模型中的几何错误，如重叠面、破面等，确保模型的完整性和准确性。
特征简化
模型优化
优化模型结构，如合并相邻面、删除重复实体等，提高模型质量和计算效率。
对复杂模型进行特征简化，去除不必要的细节和特征，提高模拟效率。
27
未来发展趋势预测
智能化发展
随着人工智能技术的不断发展，autoform软件将越来越智能化，能够自动优化工艺参数、预测产品缺陷等。
云端化应用
未来，autoform软件可能会向云端化发展，用户可以通过云端平台进行在线模拟、数据共享和协作等。
定制化服务
随着制造业的个性化需求不断增加，autoform软件将提供更加定制化的服务，满足不同用户的特定需求。
2024/1/30
13
2024/1/30
04
CATALOGUE
工序设置与模拟
14
工序类型及选择
01
02
03
04
冲压工序
包括单冲、连冲、复合冲等，用于金属板材的冲裁、弯曲、
拉伸等加工。
2024/1/30
焊接工序
包括点焊、弧焊、激光焊等，用于金属板材的连接。

《EPF工具培训》课件

EPF工具的应用场景和优势
优势：提高工作效率，降低沟通成本，增强团队协作能力
应用场景：适用于企业内部培训、知识分享等
应用场景：适用于项目管理、团队协作、任务分配等
优势：提高员工技能水平，促进知识传播，增强企业竞
争力
EPF工具的界面和操作流程
界面布局：简洁明了，易于操作
功能模块：包括数据导入、数据处理、数据分析、报告生成等
感谢观看
汇报人：
数据分析与处理
数据导入：将数据导入EPF工具，支持多种格式数据清洗：对数据进行清洗，包括缺失值处理、异常值处理等
数据分析：使用EPF工具进行数据分析，包括描述性统计、相关性分析、回归分析等
数据可视化：将分析结果以图表形式展示，包括柱状图、饼图、折线图等
报告生成和导出
在“报告”选项卡中，选择“生成报告”按钮
点击“确定”按钮，开始生成报告
在弹出的“导出报告”对话框中，选择导出路径和
文件名
打开EPF工具，选择 “报告”选项卡
在弹出的“生成报告” 对话框中，选择报告类
型和输出格式
生成报告后，选择“导出报告”按钮
点击“确定”按钮，开始导出报告
常见问题与解决方案
问题：无法打开EPF工具解决方案：检查网络连接，确保网络畅通，并重启电脑
打开EPF工具，选择需要操作的项目
遇到问题时，及时查阅帮助文档或寻求技术支持
根据项目需求，选择合适的工具和功能
操作完成后，对结果进行总结和评估，记录操作过程中的经验和教训
操作过程中，注意观察工具的使用效果和反馈
定期进行工具更新和维护，确保工具的正常运行和使用效果
操作过程中遇到的问题和解决方法

petrel软件学习

一、加载数据1.加井头文件Import file—— well heads(数据输入格式：well head)数据编写格式：Excel.具体如下：井名X Y KB 补心高MD 井类别……………………………………2.加井斜数据在生成的wells文件中输入井斜数据（格式为：well path/deveation）编写数据格式为Excel，具体如下：MD 井斜（倾角）方位角………………可以在wells文件中进行calculator——字母=常数（如：A=1）——目的是增加一个道，以便以后加载曲线。

3.加数字化断层新建文件夹——New folder——右键改名——数字化断层（格式：General lines/points）编写数据格式为：文本格式。

具体如下：X Y Z………………4.加数字化构造层新建文件夹——New folder ——右键改名——数字化构造层面（格式：General lines/points）编写数据格式为：文本格式。

具体同上。

5.加分层数据在Insert 窗口下选择 new well tops生成well tops1（可以改名）文件夹——Import file ——加入分层数据（格式：Petrel well tops(ASCII)）编写数据格式为：文本格式。

具体如下：井名分层名或断层名（用引号引起）MD X Y Z………………………………well “surface”MD X Y Z 6.加小层在Insert 窗口下选择 new well tops生成well tops1（可以改名：例如改为小层）文件夹——右键——Import(on selection)——选择小层数据（输入格式为：Petrel Well Tops (ASCII)(*.*)）——OK。

井名MD X Y “小层号“A3 1400.60 20401670.20 4950029.89 "TIIItop"A3 1410.00 20401669.79 4950029.66 "TIII 8#小层 "A3 1417.60 20401669.46 4950029.46 "TIII 9#小层 "二、建构造模型（断层模型）7.编辑Pillar双击进程栏中的Define Model——命名——OK——再显示要编辑的点化断层——在浏览器下的Models下——单击Fault modeling——进入Pillar的编辑状态（包括：调整、美化、连接、切割）。

abstract抽取lef流程

SoC IP 整合整合所需所需所需之之實體模型實體模型（（Physical Library ）利用Abstract Generator 產生LEF ModelAbstract-晶片產業技術複雜度不斷增加斷增加，，IC 設計除了投入更多資源外，透過IP 的交易的交易，，更能加快產品上市時間市時間，，為了要完成IP 整合的步驟整合的步驟，，所以IP 供應者必須要提供相關的Model ，本篇文章將介紹如何本篇文章將介紹如何在製作在製作IP 後產生後段模型LEF 。

佈局交換格式（Library Exchange Format ，LEF ），它是描述資料庫單元的物理幾何屬性，包括Pin 的位置、層（Layer ）與通孔（Via ）定義，它描述了元件的底層幾何細節，提供了足夠的資訊，以便讓APR 工具能夠藉由LEF 所提供的資訊進行Marco 與Cell 的Placement 與Routing 等，除此之外，包含了製程相關佈局資訊，如佈線的層數、最小的線寬、線與線之間的最小距離以及每個被選用Cell 、BLOCK 、PAD 的大小和Pin 的實際位置。

當Design 完成APR 步驟，並且做完驗證相關動作後，包含DRC 、LVS 、Equivalent Check 、Timing Analysis 以及Post Simulation ，確保Design 是正確可以動作的，接下來我們就可以利用Abstract Generator 產生該Design 的LEF ，讓APR 工具將來在整合此IP 時可以得到佈局的幾何資訊，利用Abstract Generator 產生LEF 的步驟如下：首先為的讓Abstract Generator 可以分辨讀入的GDS II 的檔案每一層的資訊所代表的物件（Object ），所以我們必須要準備Map File ，Map File 需要與Stream Out 時的一致，而Map File 裡所記錄的就是每ㄧ個物件所代表的號碼。

LEF格式——精选推荐

LEF格式LEF　⽂件是布局布线根据使⽤的cell ⼏何信息库的⽂件格式，下⾯是⼀个LEF⽂件的部分，右边是对他的解释。

布局布线⼯具将根据LEF ⽂件的信息决定怎样布局，怎么⾛线，怎样⽣成通孔。

VERSION 5.5；版本说明NAMESCASESITIVE ON;LEF 区分格式⼤⼩写。

BUSBITCHARS "< >"; 设置定义bus标志符，端⼝名称为X<1>,X<2>,...X<n> 将看作busUNITSDATABASE MICRONS 100; 设置定义1微⽶分成100个unit,即为单位长度的值。

END UNITSLAYER metal1 设置定义层为⾦属1层，同时下⾯是对定义的⾦属1层的具体细节设置。

TYPE ROUTING; 定义metal1⽤于routing WIDTH 0.10; 定义⾦属1层在作为布线⾦属时，默认线宽为0.1 um SPACING 0.30; 定义⾦属1层的⾛线间距为0.3um PITCH 1.2; 定义⾦属1层到通孔的距离为1.2 DIRECTION HORIZONTAL; ⾦属1层⾛线⽅向为⽔平⾛线。

CAPACITANCE CPERSQDIST 0.000140；该设置定义每⼀个⽅块(1x1um)的电容⼤⼩。

RESISTANCE RPERSQ 0.04；设置每⼀个⾦属的⽅块电阻。

END metal1LAYER viaTYPE CUT; 定义via为布局布线下的CUT类型，即Metal1 和 Metal2 的通孔END viaLAYER metal2 该设置定义⾦属2，与上⾯的⾦属1设置类似。

TYPE ROUTING ;WIDTH 0.30 ;SPACING 0.30 ;PITCH 1.20 ;DIRECTION VERTICAL ; 该设置与⾦属1层有区别，⾛线⽅向为垂直。

CAPACITANCE CPERSQDIST 0.000120 ;RESISTANCE RPERSQ 0.020000 ;END metal2VIA M1_POLY1 DEFAULE 该设置定义怎样产⽣通孔，这⾥⽣成默认情况下metal 与poly1 之间的通孔。

世界领先的流程分析软件iGrafx中文使用指南

世界领先的流程分析软件iGrafx中文使用指南快速学习指南内容:iGrafx? 2007 快速学习指南本iGrafx 快速学习指南的内容及相关的iGrafx 软件为Corel Corporation 及其各自许可人的财产,受版权保护。

严禁对全部或部分内容进行复制。

有关iGrafx FlowCharter、 iGrafx Process、iGrax Process for Six Sigma 和 iGrafx Process for Enterprise Modeler 的更多完整版权信息,请参见该软件“帮助”菜单中的“关于 iGrafx”部分。

2007 Corel Corporation。

iGrafx、iGrafx FlowCharter、iGrafx Process、iGrafx Process for Six Sigma、 iGrafx Process for Enterprise Modeler、 iGrafx IDEF0 和 iGrafx Process Central 均为Corel Corporation 和 /或其在加拿大、美国和 /或其他国家或地区的子公司的商标或注册商标。

Microsoft 和 Windows 是 Microsoft Corporation 在美国和 /或其他国家或地区的商标或注册商标。

Adobe、Acrobat 和 Reader 是 Adobe systems Incorporated 在美国和 / 或其他国家或地区的注册商标。

Java 和 JavaScript 是 Sun Microsystems, Inc 的商标。

其他产品、字体以及公司名称和徽标属于其各自公司的商标或注册商标。

AIAG 表 2、 3 和 4 来自 Chao, L.P. 和 Ishii, K., 2004,“Challenges and Methods in theQuantification of Design Errors and Solution Elements,” ASME 国际机械工程大会暨展览会会议记录,2004 年 11 月,阿纳海姆,加利福利亚。

Abstract提取LEF说明培训讲学

A b s t r a c t提取L E F说明Abstract 提取LEF详细说明以我实际项目PLL_TOP_RAD_V2为例：需要提取LEF所需要的GDS(PLL_TOP_RAD_V2.gds) , gds相对应的的map file（yermap） , 以及tf(HL55LP_HS_RVT_V1p2d.tech.lef)1.第一步，启动软件，终端窗口输入 abstrct 启动软件，点击菜单File->New，新建一个名为PLL_TOP_RAD_V2的库，点击“OK”完成。

2.导入提取所需要的工艺LEF 和gds文件。

LEF导入：点击File->LEF ，在 Import LEF窗口中输入所需要的tech.lef文件名及正确的路径。

确认View : abstract ，勾选上Overwrite ，点击“OK”完成导入LEF文件。

如果这步有警告或者错误请务必排查出问题所在，不然后面的步骤很难顺利完成。

GDS以及MAP导入：在GDSII Filenames中输入framview gds 文件的路径及文件名。

Layer Map Table 一栏中输入工艺对应的map 文件，点击“OK”完成。

4.选中导入进来的Core中的CELL 点菜单Cells -> Move.. , Move Selected Cells 到Block, 点击OK 完成。

把PLL_TOP_RAD_V2 单元从 Core移到了Block。

5.接下来的步骤进入到FLOW的流程，一步一步的完成。

首先是Flow -> Pin ,Map 一栏，详细情况如下图：在 Map 栏中，Map text labels to pins 中 (M3 M3) 说明，第一个M3指版图中我用的M3层打的pin，第二个M3就是金属三那一层，意思是我M3的pin 我用的M3 去打的label 。

（可明白？）其它工艺有可能是(M3txt M3)的表述，具体取决于你map 和lvs rule里面所有定义层的pin 在做LVS能够识别到的label 所打的层。