镀膜技术十个主要问题及答案
电镀基础知识问答汇总搞电镀一定要知道!
电镀基础知识问答汇总搞电镀一定要知道!因此要使自己能胜任电镀工这个岗位,就必须懂一点电镀的基本常识,通过理论上的培训,实践操作合格,这样才能真正的做合格的电镀工。
以下是电镀基础知识汇总的的100个问答,希望能帮到身边的电镀师傅们。
1.电解液为什么能够导电?答:电解液导电与金属导体的导电方式是不一样的。
在金属导体中,电流是靠自由电子的运动输送的,在电解液中则是由带电的离子来输送电流。
在电解液中由于正负离子的电荷相等,所以不显电性,我们叫做电中性。
当我们对电解液施加电压时,由于强大的电场的吸引力,离子分别跑向与自己极性相反的电极。
阳离子跑向阴极,阴离子跑向阳极。
它们的运动使电流得以通过,这就是电解液导电的道理。
2.在电镀过程中,挂具发热烫手,是由于镀液温度太高造成的吗?答:挂具的发热虽然与溶液的温度有关系,但主要的原因是:(1)通过挂具的电流太大。
(2)挂具上的接触不良,电阻增高而使挂具发热。
3.控制电镀层厚度的主要因素是什么?答:控制电镀层厚度的主要因素为电流密度、电流效率与电镀时间。
4.黄铜镀层与青铜镀层是同一样的台金镀层吗?答:不是,黄铜镀层是铜和锌的合金镀层,青铜镀层是铜和锡的合金镀层。
5.法拉第定律是表示什么关系的,试述法拉第的第一定律和第二定律?答:法拉第定律是描述电极上通过的电量与电极反应物重量之间的关系的,又称为电解定律。
法拉第第一定律:金属在电解时所析出的重量与电解液中所通过的电流和时间成正比。
W=KItW——析出物质的重量(g)K——比例常数(电化当量)I——电流强度(安培)t——通电时间(小时)法拉第第二定律:同量电流通过不同电解液时,则所析出金属之重量与各电解液之化学当量成正比。
K=CEC——比例常数。
E——化学当量6.为什么镀件从化学除油到弱酸蚀,中间要经清水洗净?答:因为通常的化学除油溶液都是碱性的,如果把除油溶液直接带进酸腐蚀溶液中,就会起酸、碱的中和反应,降低了酸的浓度和作用。
汽车装配工考试:镀膜操作员考试资料(题库版)
汽车装配工考试:镀膜操作员考试资料(题库版)1、单选在相同光斑大小和蒸发速率的情况下,AL2O3电子枪功率()SiO2电子枪功率A、大于B、小于C、等于D、不知道正确答案:A2、单选下列属于镀膜机粗抽阀门符(江南博哥)号是()。
A、LVB、SLVC、RVD、SRV正确答案:C3、问答题如何用简单的方法检验刚换好的氧气或氩气瓶各联结处是否漏气?正确答案:1、先打开瓶阀,在一个小塑料盒子盛入一些洗衣粉(或洗涤精)和水,搅拌成泡沫,用纱布把这些泡沫攒到各个联结处,看是否有小汽泡冒出,如有说明该联结处有漏气。
2、先打开瓶阀,之后再关掉,看各表指针读数是否变化。
4、判断题在镀膜前先需核对所镀镜片与流程卡是否相符。
正确答案:对5、填空题烘烤时间在原有基础上加长半小时,中心波长会()(填偏长或偏短)。
正确答案:偏长6、单选光驰OTFC镀膜机离子源有()片栅极片。
A、1B、2C、3D、4正确答案:C7、判断题镀膜净化间规定每3小时记录一次温湿度。
正确答案:错8、填空题光是沿()传播;它是一种频率极高的()波;一般可见光范围在()之间。
正确答案:直线;电磁;400~700纳米9、填空题晶振片和镀膜材料应放在干燥器中的目的是:()正确答案:防止在空气中受潮10、问答题写出更换防污板和上下片过程中的注意事项。
正确答案:更换防污板时要注意:当前罩数镀制到后几层时,由操作人员或副操作电话到辅助房要求准备防污板,把准备好的防污板用酒精擦拭干净,清点数量是否有少拿或多拿的现象。
等待镀完。
镀完后开始更换防污板,换板过程中要注意拆卸时由外到里、由下至上,安装时由里到外、由上至下的顺序。
这样可以减少动作的重复和减少灰尘的残留。
换完污板后要检查各污板是否安装到位、是否有螺丝松动、是否有错装或漏装等现象。
防止因此导致的生产事故。
上下片注意事项:当机器镀制完最后一层后,准备该罩需更换的各部件(比如灯丝、光控片、晶振片、视窗玻璃等)。
电话准备下一罩产品,及时获得将镀制产品的信息。
镀膜机常见故障及分析解决预防措施
镀膜机常见故障及分析解决预防措施一.常见故障,问题及解决方法下表对一些镀膜时常见的故障、真空度问题、及掉膜和膜质问题做了一些简单分析,并给予解决方案及预防措施.12346二.一些基础知识及注意事项和应急措施1. 膜厚控制仪控制参数Soak power1----预熔功率1 约为蒸发功率的一半Soak power2----预熔功率2 也称预蒸镀功率略小于最大功率Maxpower ----最大功率Dep Rate ----蒸发速率Final Thk ----膜厚(波长)Soak time----预熔时间Rise time ----功率上升时间Density ----材料密度检测膜厚原理通过改变探头上晶片的频率(由于膜的蒸发改变了其重量,所以其震动频率发生变化)来计算膜厚,而探头所处的位置和工具因数的设置都影响到测试精度,探头的位置和测试膜厚的关系如小:(1).探头高了,测试得到的厚度<实际得到的膜厚(玻片上厚度)(2).探头低了,测试得到的厚度>实际得到的膜厚(玻片上厚度)(3).工具因数调高,相当于探头位置降低,所以膜厚要增加2. 膜和材料间的关系2.1.U5吸收杂光,影响膜质和亮度.镀的过多,膜会发银;镀的过少,膜发黑,不亮泽,有银色;没镀上,则为银白2.2.U3脱膜剂,影响膜质.镀的过多,膜质稀烂,易脱落;镀的过少,膜会打卷,发硬2.3.SiO2决定颜色2.4.U6基层,影响膜的鲜艳度和亮度3. 均匀性3.1.径向均匀性:同一玻片上部与下部的不均匀,与光斑的调节、材料的料面、坩埚转速和转向、玻片的曲率有关3.2.重复均匀性:同一锅膜的每一套间的不均匀,与真空度的高低、操作者看颜色有关3.3.整体均匀性:同一套膜四块玻片上的均匀性,与光斑的稳定性、工转的转速和蒸发速率的匹配、真空度的高低、径向均匀性有关4. 灯丝问题4.1.放气时要记住关灯丝电源,以免氧化灯丝4.2.初次使用或更换新灯丝,应进行灯丝预热定型处理,以防灯丝加热过快变形.预热时,高压关闭,直接加热灯丝,缓慢加灯丝电流,由几安培加至15A时,维持3-5分钟4.3.灯丝安装a.灯丝不宜太高或太低:太高会造成光斑不可调,容易打烂栅极和阳极片;太低会造成光斑能量太散,不易蒸发b.栅极片应略低于阳极片c.各个压块、引线的接触面应清洗干净避免造成接触不良d.打紧螺钉时应松紧适当,太松会接触不良,太紧会造成“滑丝”5. 轰击条件:真空度4.0Pa到8.0Pa之间时间:20到30分钟轰击棒应用240#砂纸砂干净再用酒精擦一遍再装入真空室轰击完后关闭轰击开关,取轰击棒时应带手套或用包住轰击棒以免被烫伤6. 换机械泵油将油放干净,把出气口的盖板取下,然后取下挡油板,用布将机械泵油腔内擦干净(特别注意死角地方),擦干净后倒点新油盖住出气口开机械泵运行20秒将油放出,这样反复做两到三次,洗干净后即可加油.加油应加到观察油窗伤两条红线之间(油加少了会造成机械泵的抽气性能下降,油加多了会造成抽气时油喷出来).油加好后将挡油板,盖板依次装好.7. 应急措施7.1. 突然停电首先将设备总电源开关关闭(防止突然恢复电力所有用电设备工作造成电流冲击过大),然后将所有开关复位,处在关的状态(开关弹起为关的状态),等待电力恢复如果长时间电力无法恢复应将扩散泵电炉盘取下,用湿布放在扩散泵四周使其冷却.设备循环水关小,防止停电时间过长导致循环水无法循环使水流失7.2.停水首先应关闭扩散泵,将扩散泵电炉盘取下,用湿布放在扩散泵四周使扩散泵冷却关闭各阀门及机械泵,不能让其长时间在无冷却水的状态下工作导致设备损坏7.3.停气气压低于0.43Mpa时阀门会自动关闭,此时应将各阀门开关复位处在关的状态(开关弹起为关).如果长时间无法恢复供气,则将扩散泵,机械泵等运作的设备关闭,关扩散泵15分钟后打开扩散泵快冷冷却扩散泵。
漆面保护膜美容镀膜的问题及解答
卡古宇ikangaroo镀膜的问题及解答1、自然环境使车漆暗淡无光的因素有哪些?①紫外线②各种污垢的黏附③铁粉的氧化④酸雨⑤凹凸洗车伤⑥树脂鸟粪油性物质⑦水珠透镜(飞漆空调水等)2、“紫外线”是如何伤害车漆的?紫外线会破坏色漆的分子结构,使颜料析出游离树脂之外,造成色漆层的褪色。
3、为什么污垢能使车漆暗淡?车漆表面残留的水滴、洗车用的水、未擦拭干净的钙铁成分,粘土的黏附会让车漆表面凹凸不平,暗淡失色。
4、铁粉是如何氧化车漆的?正常天气下,车体表面的温度可达70-90℃,铁粉的温度可达120℃,当铁粉温度超过车漆表面温度时就会熔进车漆。
以后遇水铁粉生锈从而氧化车漆。
5、车漆上的铁粉从哪里来的?空气中的游离、刹车片、工业产生的铁粉、建筑产生的铁粉等。
6、酸雨是如何腐蚀车漆的?空气中含的硫化物,氧化物,遇到水蒸气从而形成微弱酸性的雨滴,当这些雨滴落在车漆上后,如果不及时洗车,在弱酸中的水份慢慢蒸发后,酸性浓度越来越强,从而腐蚀车漆。
7、凹凸洗车伤是如何形成的?①洗车过程中不干净的海绵毛巾的擦拭②长期使用酸碱过高的清洗液③飞起的鞭炮、飞石,将车漆砸出小凹8、油烟、树脂、鸟粪是如何伤害车漆的?油烟、树脂等物质和车漆的主要成分相似,在空气中会变质,含有酸性,易黏附,易与车漆相溶,在高温下易形成游离态吸附灰尘杂质,鸟粪中含有酸性物质,因此伤害车漆。
9:、水珠如何伤害车漆?水珠如凹凸镜一般,将阳光聚光从而灼伤车漆。
10、镀膜的发展历程?车蜡→封釉→普通镀膜(纳米镀膜)→结晶镀膜(镀晶)11、车蜡的主要组成部分?蜡、溶剂、研磨剂12、车蜡的分类?按形态分液蜡、固蜡、软蜡。
功能是去污、上光。
按成份分石油提炼、植物提炼。
13、釉的主要成分、普通镀膜的主要成分、结晶镀膜的主要成分?①氟素树脂、硅树脂(硅胶类)溶剂②液蜡树脂溶剂混合③硅化物14、结晶镀膜九大特色?1)增加车漆的硬度2)超长的持久性3)防紫外线4)不龟裂、不脱落5)高度柔韧6)质感光泽、增加亮度7)耐高温、抗腐蚀8)良好的疏水性9)无毒不含溶剂低碳环保。
看完你就是专家!电镀专业知识问答集结
看完你就是专家!电镀专业知识问答集结慧聪表面处理网讯:1.电解液为什么能够导电?答:电解液导电与金属导体的导电方式是不一样的。
在金属导体中,电流是靠自由电子的运动输送的,在电解中则是由带电的离子来输送电流。
当我们对电解液施加电压时,由于强大的电场的吸引力,离子分别跑向与自己极性相反的电极。
阳离子跑向阴极,阴离子跑向阳极。
它们的运动使电流得以通过,这就是电解液导电的原理。
2、什么是电解?答:当电流通过电解液时,在电极上发生的氧化还原反应使电解质在电流作用下被分解的过程就叫做电解。
通电时电解质的阳离子移向阴极,并在阴极得到电子而被还原成新物质;阴离子移向阳极,并在阳极上失去电子而被氧化成新物质3、金属为什么要进行电镀?答:金属在各种不同环境下使用时,由于外界介质在金属表面上的化学和电化学作用而产生了金属腐蚀。
金属腐蚀的结果,不仅是金属本身的损失,而且由于金属制品结构的损坏而失去使用价值造成人力物力的浪费,其价值比金属本身要大很多倍。
因此,在大量生产金属和金属制品的同时,就必须与金属的腐蚀进行斗争。
电镀工艺是增加金属防护性能及改善金属表面质量的最有效的方法之一。
金属制品电镀就是为了保护金属不受腐蚀、改善金属制品的性能和增加制品表面的美观。
4、什么是电镀?答:借电解作用,在金属制件表面上沉积一薄层其它金属的方法,就叫做电镀。
电镀包括镀前处理(除油、除锈)、镀上金属层和镀后处理(钝化、除氢)等过程。
用于防止金属制品腐蚀,修复磨损部分,增加耐用性、反光性、导电性和美观等。
电镀时将金属制件作为阴极,所镀金属板或棒作为阳极,分别挂于铜制的极棒上面浸入含有镀层成分的镀液中,通入直流电。
在个别情况下,也有用不溶性阳极,例如镀铬时用铅或铅梯合金阳极。
5、试述电镀溶液配制过程。
答:(1)将计量好的所需电镀药品先分别放入开料槽(小槽)内,再加入适量的清水溶解充分后,才能将溶液倒入镀槽内。
(2)溶液所含的杂质,可以先用各种化学方法清除,并以活性炭处理。
真空镀膜过程中常见问题分析
3.?添加适量防缩孔助剂于面漆
4.?清洁喷枪、管道
原
因
铝丝过薄地被蒸发
增加铝丝的用量
发光时间过短
控制金属蒸发的时间
在真空度低的状态下作业
严格控制蒸发的真空度
蒸发速率过慢
提高蒸发速率
真空镀膜面漆常见问题分析
面漆常见问题分析
1、附着不良:镀膜层与面漆之间出现涂层脱落现象
原
因
面漆脱落
溶剂挥发不完全
提高流平温度和流平时间,减少漆膜厚度
镀膜层被污染
镀膜后放置时间不要太长,保持干净
2.??????涂料受污染
1.?净化空气
2.?用500目滤网过滤涂料
硬度不好
1.?能量太低,固化不完全
2.?油漆不配套
3.?油漆本身硬度稍差
1.?调整固化能量
2.?使用配套涂料产品
3.?调整涂料配方
起缩孔,火山口
1.?底漆被污染
2.?压缩空气污染
3.?面漆被污染
4.?喷枪、喷涂管路污染
1.?更换被污染底漆
1.加防白剂
咬底
1.??????施工黏度太低
2.??????稀料溶解力太强
1.??????提高施工黏度
2.??????换溶解力低的稀料
光泽偏高
1.??????喷涂黏度高
2.??????漆膜厚
3.??????稀料挥发慢
4.??????出漆量大
5.??????涂料光泽高
1.??????降低喷涂黏度
2.??????控制膜厚
涂层太薄
增加涂层厚度
涂料中颗粒
用400目以上滤布过滤涂料
涂料消泡不尽
调整喷漆气压增加涂料的消泡性能
真空镀膜的常见问题和解决办法
真空镀膜的常见问题和解决办法第一篇:真空镀膜的常见问题和解决办法真空镀膜机的一些常见问题与解决办法随着镀膜技术的快速增长,各种类型的真空镀膜机也开始逐渐出现。
但是论起薄膜的均匀性,恐怕所有的真空设备镀制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响,现在我们就溅控溅射镀膜机来看看造成不均匀的因素有哪些。
对此,真空镀膜机厂家指出,它的运作原理其实很简单。
就是通过真空状态下正交磁场使电子轰击氩气形成的氩离子再轰击靶材,靶材离子沉积于工件表面成膜。
如此车灯镀膜机厂家就该考虑与膜层厚度的均匀性有关的有真空状态、磁场、氩气这三个方面。
真空状态就需要抽气系统来控制的,每个抽气口都要同时开动并力度一致,这样就可以控制好抽气的均匀性,如果抽气不均匀,在真空室内的压强就不能均匀了,压强对离子的运动是存在一定的影响的。
另外抽气的时间也要控制,太短会造成真空度不够,但太长又浪费资源,不过有真空机的存在,要控制好还是不成问题的(1)真空镀膜对环境的要求。
加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。
基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理,达到工件去油、去污和脱水的目的。
基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。
真空镀膜厂家这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。
对经过清洗处理的清洁表面,不能在大气环境中存放,要用封闭容器或保洁柜贮存,以减小灰尘的沾污。
用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底,可使碳氢化合物蒸气的吸附减至最小。
因为这些容器优先吸附碳氢化合物。
对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面,一般应贮存在真空干燥箱中。
清除镀膜室内的灰尘,设置清洁度高的工作间,保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。
空气湿度大的地区,除镀前要对基片、真空室内各部件认真清洗外,还要进行烘烤除气。
要防止油带入真空室内,注意油扩散泵返油,对加热功率高的扩散泵必须采取挡油措施。
镀膜技术十个主要问题及答案-深圳大学薄膜物理与应用研究所
镀膜技术十个主要问题及答案问题:一、镀膜技术可区分为那几类?可区分为:(1)真空蒸镀(2)电镀(3)化学反应(4)热处理(5)物理或机械处理二、常用的真空泵浦有那几种?适用的抽气范围为何?真空泵浦可分:(1)机械帮浦(2)扩散泵浦(3)涡轮泵浦(4)吸附泵浦(5)吸着泵浦真空泵浦抽气范围:泵浦抽气范围机械泵浦10-1 ~ 10-4 毫巴扩散泵浦10-3 ~ 10-6 毫巴涡轮泵浦10-3 ~ 10-9 毫巴吸附泵浦10-3 ~ 10-4 毫巴吸着泵浦10-4 ~ 10-10 毫巴三、电浆技术在表面技术上的应用有那些?1)溅浆沉积:溅镀是利用高速的离子撞击固体靶材,使表面分子溅离并射到基材镀成一层薄膜,溅射离子的起始动能约在100eV。
常用的电浆气体为氩气,质量适当而且没有化学反应。
(2)电浆辅助化沉积:气相化学沉积的化学反应是在高温基材上进行,如此才能使气体前置物获得足够的能量反应。
(3)电浆聚合:聚合物或塑料薄膜最简单的披覆技术就是将其溶剂中,然后涂布于基板上。
电浆聚合涂布法系将分子单体激发成电浆,经化学反应后形成一致密的聚合体并披覆在基板上,由于基材受到电浆的撞击,其附着性也很强。
(4)电浆蚀刻:湿式碱性蚀刻,这是最简单而且便宜的方法,它的缺点是碱性蚀刻具晶面方向性,而且会产生下蚀的问题。
(5)电浆喷覆:在高温下运转的金属组件须要有陶瓷物披覆,以防止高温腐蚀的发生。
四、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点?加热方式分为:(1)电阻加热(2)感应加热(3)电子束加热(4)雷射加热(5)电弧加热各具有的特点:(1)电阻加热:这是一种最简单的加热方法,设备便宜、操作容易是其优点。
(2)感应加热:加热效率佳,升温快速,并可加热大容量。
(3)电子束加热:这种加热方法是把数千eV之高能量电子,经磁场聚焦,直接撞击蒸发物加热,温度可以高达30000C。
而它的电子的来源有二:高温金属产生的热电子,另一种电子的来源为中空阴极放电。
电镀问答
TEL:+86-755-27235075 / 27235637 / 27235592 F AX: +86-755-27235298 Page: 1 of 221.非金属材料刷镀与金属材料刷镀相比较有哪些不同点?非金属材料的刷镀与金属材料刷镀相比较有以下几点不同:(1)前处理非金属材料的刷镀在前处理中没有除锈、电解除油、电刻蚀、闪镀底层工序.它是一种通过在非金属材料表面建立起金属催化活性中心,首先镀覆(以化学沉积方法为主)上一层导电薄膜,再进行刷镀其它金属层的电镀工艺.因此,它的前处理主要表现在以制备导电薄层为目的.(2)底层工艺非金属材料刷镀的镀底层主要是以化学还原方法得到的,它不考虑被镀制件材质的特性而常用铜或镍作为底层.而金属刷底层工艺必须考虑被镀件材质的特性,来合理地选择镀液种类及操作工艺.(3)结合强度金属材料的刷镀镀层与基体之间有着很高的结合强度,而非金属材料基体上刷镀镀层的结合强度一般都较低,而且不同的非金属材料与镀层的结合强度有较大的差别.(4)镀层厚度由于非金属材料与金属镀层之间的结合强度以及热膨胀系数的不同等因素影响,使得非金属材料表面的金属刷镀层的安全厚远小于金属刷镀层的安全厚度.2.阴极电流密度对非金属刷镀质量有什么影响?在对非金属材料进行刷镀过程中,如果增大阴极电流密度,就会提高沉积速度,即提高生产效率. 一般情况下, 提高阴极电流密度,还能增大镀液的阴极极化作用,使镀屋结晶细密,同时也提高阴极电流效率.但是,当阴极电流密度过大时,会造成阴极(工件)表面上金属离子的贫乏而析出大量的氢.使该处Ph值上升,形成碱式盐夹附在镀层内,生成空洞、麻点、疏松和发黑的镀层,甚至使镀层烧焦.如果阴极电流密度过小,将会使制件深凹处沉积不上镀层或沉积上不合格镀层.每种镀液都有相应的阴极电流密度使用范围,应在允许范围内,使阴极电流密度尽可能大些. 所以刷镀中,应勤蘸镀液或使镀液不断地流动.使镀笔套中始终保持有充足的金属离子,从而快速得到质量好的镀层.3.温度对非金属材料刷镀有什么影响?我们知道,温度的变化是影响化学反应过程和结果的重要因素之一. 在用化学镀法进行的非金属材料表面金属化的镀前自理和镀过程中,温度的变化与控制也是不容忽视的.它直接影响着金属镀层与非金属制间的结合强度及镀层的延展性、应力分布、粗糙度、耐腐蚀性等理化特性. 因此,正确认识温度在非金属材料刷氐过程中的影响,对于多、快、好、省地完成刷镀任务,有着重要的意义.温度在非金属刷镀中对主要工序的影响是:(1)化学粗化化学粗化主要是对非金属材料基体进行浸蚀和氧化作用,从而使基体给电镀提供”铆合”点,并在基体表面得大量的亲水性极性基团.从反应原理上讲,当粗化时间不变时,温度越高,作用越强烈,效果也越好.但是,温度过高,会使制件表TEL:+86-755-27235075 / 27235637 / 27235592 F AX: +86-755-27235298 Page: 2 of 22面粗糙度增大,喧就是过腐蚀,同时也将使粗化液过早失效.对于耐热性较差的材料,如塑料、石蜡等,过高的温度将使其变形、溶化,所以温度的选择应视具体情况而定. 对于造形复杂、壁薄的制品、遇热易变形制品以及本身已具有相当的亲水性基团且有一定的微观粗糙的制品,粗化温度应较低;而对于壁厚、形状简单的制品,耐高温制品、表面较光滑且亲水性较差的制品,粗化温度应较高.另外,对于有些晶体或非晶体固体(如玻璃),在粗化中如果温度过高,浸蚀过重,将使其脆性加大.对于使用过一段时间的粗化液,在粗化过程中可适当提高些温度.(2)敏化后水冲洗非金属制件在经过敏化处理之后,在其表面的显微凹坑处,聚集着凝胶物质Sn2(OH)2Cl,它的数量对后续的活化乃至化学镀成功与否起着重要作用,它的产生主要来自制件经敏化后的水冲洗.当水的酸碱性和冲洗次数不变时,温度高则产生的Sn2(OH)2Cl多,这就使将来生成的催化中心多,有利于快速、全面地沉积上金属镀层,所以,在敏化后的水冲洗工序中,应适当地提高水温.但过高的水温也是不现实的,由于用水量大,过高的水温将带来过高的能量损耗,且有些制件材料遇热容易变形.一般水温在30℃~50℃较好.(3)化学镀非金属制件在进行化学镀铜过程中,温度的变化也会对铜的沉积造成较大的影响. 如果温度高,整个反应速度加快,能在基体上迅速镀覆上一层铜膜,同时镀液快速分解,出现大量的Cu2O,使镀层疏松,外观粗糙,这样的镀层不公不利于后续的刷镀,同时也将降低氐层与基体间的结合强度,但是,如果温度太低,不仅使沉铜速度大大下降,而且镀液在分解过程中产生的Na2SO4易析出,它们将部分吸附在基体表面. 造成漏镀现象. 所以,在常规化学镀铜时,把温度控制在20℃~30℃之间较好,但有时在进行大型非金属制件的刷镀中,也可以把温度升到50℃左右,这样当镀液从上流到下时,已基本分解完毕,从而减少了浪费.温度的控制,也可以结合其它影响因素,如浓度、Ph值、络合剂类型等络合考虑,来确定最佳的工作范围.(4)刷镀中温度影响一般来说,在对非金属制件进行如厚或最终镀层的刷镀过程中,镀液温度控制在25℃~35℃内最好,因为温度过低时,镀液导电能力差,金属离子的分散迁移速度慢,沉积速度降低,同时镀层应力加大, 容易出现脱落;而温度过高时,将造成镀层粗糙,结构疏松且掺有大量金属气化物, 镀液也会蒸发过快, 有些化学成份挥发、分解、使成份发改变等, 降低镀层质量. 不仅如此, 而且还会由于刷镀电流过高, 使镀层烧焦或击穿;对于耐热性差的材料, 如有机玻璃, 会出现热变形. 所以, 合理地选择并控制温度, 对非金属刷镀也是完全必要的.4.搅拌对非金属刷镀有什么影响?搅拌对非金属材料的刷镀效率及镀层质量有着比较重要的影响.在化学粗化过程中, 非金属制件虽经过了除油、净化过程, 但在其表面仍会有或多或少的油膜及污物层, 这就使粗化的速度及均匀性相对降低了.敏化中, 由于有些微观坑内藏有气泡, 且由于附着在其表面的液体张力影响,TEL:+86-755-27235075 / 27235637 / 27235592 F AX: +86-755-27235298 Page: 3 of 22使敏化液中的亚锡金离子团在制件表面的附着变得困难了, 其中有些部位不能吸附离子团.在化学镀铜过程中, 气泡及氧化亚铜颗粒的产生将部分地吸附在制件表面, 如不有效地去除, 将会影响化学镀的速度和镀层的质量.综上所述, 解决此类问题的方法是:一方面有效地控制好各种环境条件,使化学反应正常进行;另一方面, 在操作中采取适当的方式对溶液进行搅拌,将会收到较好的效果.常用搅拌方法有机械搅拌和压缩空气搅拌,另外还可用喷淋方法使溶液连续流动.5.溶液的浓度对非金属刷镀有什么影响?对于非金属刷镀中的粗化、敏化、活化、化学镀各工序来说, 其溶液浓度在一定范围内的增加,将伴随着反应速度加快、作用时间缩短(在其它条件不变的情况下).但是,浓度的增加不公会使产品成本增加,而且会带来其它的不利影响.粗化过程中,高浓度粗化液将带来过腐蚀及冲洗不便的影响.对产品的外观和镀层的结合强度造成不利的因素.敏化过程中,高浓度将使制件表面的两价锡离子堆积,通过活化后,堆积的催化中心,会使底层疏松多孔,降低镀层的性能.活化时,银离子浓度的变化较大,可视实际情况选用,在槽中活化批量制件时,浓度可较高,只要不污染,活化液可长期使用.对于大型制件刷镀时,如果活化液无法回收,则浓度应选得低些;温度高时,浓度低,温度低时,浓度可高些.化学镀铜过程中,铜离子的浓度增加,使沉铜速度大大加快,但随之而来的氧化严铜颗粒的产生量也加大,它将使溶液很快失效,并使镀层性能恶化,另一方面,加大硫酸铜含量,必然使络合剂含量及其它抑制副反应的添加剂含量也增加.这将使溶液成本大大提高.当温度低时,还会出现结晶现象,所以,刷镀中使用的添加济1型镀铜中硫酸铜含量不超过50g/L.6.非金属制件化学镀后,电镀不上是什么原因?如何克服?非金属制件经过化学镀之后,表面有了一层极薄的金属层,已经具备了导电能力,但是有时却出现刷镀不上的现象,原因有:(1)刷镀方法不当原因是电源接点少,挂具与被镀零件表面的接触面积太小,当电流通过时,由于热量过于集中,使镀层高温氧化而无法导电,同样,当起始电流过大时,也会发生上述现象.(2)化学镀后存放时间过长,表面产生钝化,影响导电而镀不上,这可在稀酸中活化自理后再镀.对于化学镀镍层,钝化后较难处理,可以先在稀硫酸中活化一定时间后,然后带电在蛴镍槽中镀几分钟暗镍,即可恢复镍层导电性.(3)化学镀层太薄,也容易发生镀不上的现象,所以化学镀时间应适当延长.7.光亮镍溶液的主要成份及其作用是什么?TEL:+86-755-27235075 / 27235637 / 27235592 F AX: +86-755-27235298 Page: 4 of 22光亮镍是较好的装饰外观层,镀光亮镍可以省去镀后的抛光工序.光亮镍溶液的主要成分有硫酸镍、氯化镍、氯化钠、硼酸、醋酸、糖精、香豆素、甲醛、十二烷基硫酸钠等.它们的主要作用为:硫酸镍是溶液中的主盐,它具有溶解度大、纯度高、价格低廉的优点,氯化镍也具有比较高的溶解度.另外,氯化镍配制的溶液分散能力和导电性能均优于硫酸镍.但是,氯离子含量过高,会使镀层的内应力加大. 镍的含量允许在较大的范围内变化.一般控制在(100~350)g/l之间. 含量低的溶液分散能力好,镀层结晶细致,易于抛光. 但是沉积速度慢,电流效率低,.含量高的溶液能获得色泽均匀的暗镍层,且允许使用的电流密度高,沉积速度快. 含量过高,分散能力变差,同时,镀液的非生产性消耗增大.硫酸钠和氯化钠导电盐在镀镍溶液中,加入硫酸钠、氯化钠等盐类,可以改善溶液的电导.硼酸和醋酸是缓冲剂,要维持镀镍溶液在一定的Ph值范围内工作,必须采用缓冲剂,它不仅能稳定镀液的Ph值,而且能改善镀层的力学性能.十二烷基硫酸钠是润湿剂,镍镀层的孔隙率是比较高的,针孔的产生是由于氢气泡在电极表面的滞留..在镀镍溶液中,加入少量的十二烷基硫酸钠,就可以防止针孔的产生.十二烷基硫酸钠是一种阴离子型的表面活性物质,能吸附在电极表面,降低电极与溶液间的界面张力,使溶液能很好地润湿电极表面.气泡在电极上的润湿接触角减小,在尺寸很小时就离开电极表面,这样就防止或减轻了镀层针孔的产生.氯化钾和氯化钠是阳极活化剂,由于金属镍易钝化.为了防止镍阳极发生钝化,保证阳极的正常溶解,因此,在溶液中加入活化剂.其它成份则为光亮添加剂,甲醛和香豆素配合使用,使镀层晶粒细小,具有较好的整平作用,同时还能消除或减小次级光亮剂产生的内应力.8. 非金属材料刷镀前为何进行镀前处理?有哪些工序?与金属刷镀相似, 非金属材料在刷镀金属镀层之前, 也必须进行镀前处理(或称为预处理)。
真空镀膜的常见问题和解决办法
真空镀膜机的一些常见问题与解决办法随着镀膜技术的快速增长,各种类型的真空镀膜机也开始逐渐出现。
但是论起薄膜的均匀性,恐怕所有的真空设备镀制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响,现在我们就溅控溅射镀膜机来看看造成不均匀的因素有哪些。
对此,真空镀膜机厂家指出,它的运作原理其实很简单。
就是通过真空状态下正交磁场使电子轰击氩气形成的氩离子再轰击靶材,靶材离子沉积于工件表面成膜。
如此车灯镀膜机厂家就该考虑与膜层厚度的均匀性有关的有真空状态、磁场、氩气这三个方面。
真空状态就需要抽气系统来控制的,每个抽气口都要同时开动并力度一致,这样就可以控制好抽气的均匀性,如果抽气不均匀,在真空室内的压强就不能均匀了,压强对离子的运动是存在一定的影响的。
另外抽气的时间也要控制,太短会造成真空度不够,但太长又浪费资源,不过有真空机的存在,要控制好还是不成问题的(1)真空镀膜对环境的要求。
加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。
基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理,达到工件去油、去污和脱水的目的。
基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。
真空镀膜厂家这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。
对经过清洗处理的清洁表面,不能在大气环境中存放,要用封闭容器或保洁柜贮存,以减小灰尘的沾污。
用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底,可使碳氢化合物蒸气的吸附减至最小。
因为这些容器优先吸附碳氢化合物。
对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面,一般应贮存在真空干燥箱中。
清除镀膜室内的灰尘,设置清洁度高的工作间,保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。
空气湿度大的地区,除镀前要对基片、真空室内各部件认真清洗外,还要进行烘烤除气。
要防止油带入真空室内,注意油扩散泵返油,对加热功率高的扩散泵必须采取挡油措施。
(2)镀层与镀膜的基本原理A、原材料与基本原理:原材料都是树脂、聚合物、铁氟隆、硅酮、丙烯酸、硅酸盐等,辅料、配方与量度有所不同。
真空镀膜过程中常见问题分析精选文档
染料的相溶性不好
检查染料与面漆的相溶性,更换染料
面漆中加入的稀释剂过多
减少稀释剂的用量,或提高涂料本身的固体含量
空气气压过低或过高
调整气压,涂料雾化充分,调整喷枪合适的距离
涂料的喷涂量过多
在遮盖的情况下尽量喷薄
真空镀膜底漆常见问题分析
底漆常见问题分析
?
1、干燥不良:涂料固化不充分出现发白或发彩现象
1.底漆附着不佳
2.面漆咬底
1.调整或更换底漆
2.面漆与底漆不配套,使用同一厂家的配套涂料
颗粒,麻点
1.空气中较多灰尘、杂质
2.涂料受污染
1.净化空气
2.用500目滤网过滤涂料
硬度不好
1.能量太低,固化不完全
பைடு நூலகம்2.油漆不配套
3.油漆本身硬度稍差
1.调整固化能量
2.使用配套涂料产品
3.调整涂料配方
起缩孔,火山口
3.稀料挥发慢
4.出漆量大
5.涂料光泽高
1.降低喷涂黏度
2.控制膜厚
3.调整喷枪
4.补加消光剂
颗粒
1.底材未处理干净
2.涂料中有颗粒
3.空气杂质多
1.处理好底材
2.用相应的过滤网过滤涂料
3.空气过滤
掉漆
1.底材未处理干净
2.施工黏度太高
3.稀料溶解力太弱
4.涂料本身附着差
1.处理好底材
2.调整施工黏度
3.换用溶解力强的稀料
4.调整涂料配方
机壳UV面漆常见问题分析
机壳UV面漆常见问题分析
出现问题
原因分析
解决办法
附着力不良掉面漆
1.溶剂挥发不完全
2.底漆被污染
镀膜工艺测试答案
镀膜工艺测试题
部门________ 工号________ 姓名_________ 得分_________
一:英译汉(20分)
Aerture 光阑AR 增透膜
IR 红外滤光片Coating 镀膜
二:简述题
1.WLO制程中为什么镀Cr,镀Cr可以实现什么功能?(15分)
答:实现光阑的功能。
起到遮光的效果,将通光孔之外的杂散光线拦掉。
2. WLO制程中为什么镀IR,镀IR可以实现什么功能?(15分)
答:滤掉红外光,因为成像芯片对红外光特别敏感,如果不滤掉红外光,那么成像色彩等参数会产生偏移,从而影响成像质量。
3. WLO制程中为什么镀AR,镀AR可以实现什么功能?(15分)
答:增强光线透过率,增强对比度等成像质量,减少反射光对成像质量的影响。
4镀膜过程中哪些参数比较重要?(15分)
答:真空度,温度,沉积速率。
5 外观标准中的S/D代表什么?(10分)
答:S 代表划伤,D 代表点。
6.镀膜前来料检查包含哪些事项? 镀IR后需要测试哪些数据? (10分)
答:镀膜前确认:1)产品与记录是否一致,2)产品外观达到要求;3)镀膜之前的工序已做完。
镀膜后测试:1)光谱曲线,2)产品外观。
镀膜工艺工程师岗位面试题及答案(经典版)
镀膜工艺工程师岗位面试题及答案1.请介绍一下您的镀膜工艺工程师经验以及您之前的项目经历。
回答:我拥有X年的镀膜工艺工程师经验。
在之前的项目中,我负责开发和优化各种镀膜工艺,包括薄膜太阳能电池、光学镀膜和电子元件。
我参与了从材料选择到生产实施的整个工艺开发周期。
举例来说,我曾领导一个团队成功开发了一种高效的抗反射涂层,提高了太阳能电池的能量转化效率。
2.您如何选择合适的镀膜材料以满足项目要求?回答:在选择镀膜材料时,我首先考虑项目的要求,如透明性、耐腐蚀性、光学性能等。
然后,我会研究可用的材料,评估其物性和可加工性,以确保符合项目的需求。
举例来说,如果项目需要高透明度和硬度,我可能会选择二氧化硅作为镀膜材料。
3.您如何设计和优化镀膜工艺以实现最佳的性能和效率?回答:设计和优化镀膜工艺需要系统性的方法。
我首先进行工艺分析,确定关键的工艺参数。
然后,我使用模拟软件来预测不同参数对性能的影响,并进行实验验证。
在一个项目中,我成功优化了镀膜工艺,将薄膜太阳能电池的转换效率提高了5%以上。
4.请分享一次您解决过的复杂的镀膜工艺问题的经验。
回答:在一个项目中,我们遇到了薄膜太阳能电池镀膜中的附着问题。
通过仔细的分析,我确定了附着问题的根本原因是基底表面处理不足。
我采取了额外的预处理步骤,提高了基底的表面能量,解决了附着问题,并显著提高了电池的性能。
5.您如何进行工艺验证和质量控制,以确保镀膜的一致性和质量?回答:我会建立详细的工艺控制计划,包括每个步骤的参数和要求。
我还会定期进行工艺验证,使用各种测试方法,如椭圆偏振仪、光谱分析和显微镜检查,确保镀膜的一致性和质量。
如果发现任何偏差,我会采取纠正措施,以确保产品符合规格。
6.您如何管理镀膜工艺中的废料和环境问题?回答:废料管理和环境问题对于可持续性至关重要。
我会实施废料回收计划,最大程度地减少废料产生,并确保废料的安全处置。
此外,我会遵守环境法规,确保工艺操作对环境没有不良影响。
镀膜工艺工程师岗位面试题及答案(经典版)
镀膜工艺工程师岗位面试题及答案1.请简要介绍一下您的背景和经验,以及您之前在镀膜工艺领域的工作经历。
回答:我具有材料工程学士学位,并在镀膜领域有超过8年的工作经验。
我曾在ABC公司担任镀膜工艺工程师,负责开发和改进镀膜工艺,以提高产品性能。
在之前的工作中,我成功地引入了新的镀膜技术,减少了生产过程中的废品率,并降低了成本。
我的经验使我熟悉不同类型的涂层材料、设备和工艺控制方法。
2.镀膜工程师的主要职责之一是开发和优化镀膜工艺。
请分享一次您成功开发或优化工艺的经历。
回答:在我之前的职位上,我们面临着一个挑战,需要将一种新的高性能涂层引入产品线,以提高产品的耐磨性。
我首先进行了广泛的文献研究,了解了不同涂层材料的特性。
然后,我设计了一系列实验,以确定最佳的工艺参数和材料组合。
通过系统性的试验和分析,我成功地开发出了一种具有卓越性能的涂层工艺,提高了产品的寿命。
3.镀膜工艺通常需要严格的质量控制。
请描述一次您如何确保镀膜过程中的质量控制,以保证产品符合标准。
回答:在我之前的项目中,我们采用了严格的质量控制方法,确保镀膜过程的一致性和质量。
首先,我们建立了详细的工艺规范,包括工艺参数、材料规格和检验标准。
然后,我们在生产线上实施了实时监控系统,监测关键工艺参数,如温度、湿度和镀膜速度。
如果发现任何异常,系统会立即发出警报并停止生产,以防止次品的产生。
此外,我们进行了定期的样本检验,以验证产品是否符合规格。
这一质量控制方法确保了产品的一致性和高质量。
4.镀膜工程师需要与供应商合作,获取适当的材料和设备。
请分享一次您与供应商合作的经历,以确保项目的顺利进行。
回答:我曾在一个项目中需要获取一种特殊的涂层材料,市场上很少有供应商提供。
我首先与几家供应商联系,但都没有找到合适的材料。
于是,我开始主动与材料制造商沟通,并分享了我们项目的要求和挑战。
通过积极的合作和技术交流,我们最终共同开发了一种符合我们需求的定制涂层材料。
镀膜问题总汇
镀膜问题总汇真空镀膜工艺问题汇总1.Al2O3打底已增加粘贴性,怎样镀Al2O3溅射镀怎么镀?请问旋转靶磁场加在哪里?2.一.多弧离子镀做TiAIN膜1.靶材,材质?尺寸?2.偏压,—脉冲,直流对膜有无影响?二.高建钢材质刀具,1.立铣刀的锋利与镀膜前的酸洗工艺存在矛盾。
三.多弧炉中结合了磁控柱靶在TiAIN膜制作过程中,可采用或利用其磁控靶的优点进行,四.用高偏压加氢气的辉光放电,是否用对硬膜的形成不利,会影响其硬度吗?是否用离子轰由(加热)来取代此工艺吗?五.靶材中Ti的纯度,对膜质(硬度,外观,粗糙毒等)有无关系?Ti是否对工具镀膜来说是否足够?六.《真空》杂志中有文章介绍,多弧离子镀中用部分铬靶使TiN 膜层中含有铬成分,有助于提高膜的硬度和外观的光亮度等那么能否采用钛铬合金靶,达到其效果?七.TiAl拔能否使其合金化,是否合金化后,在蒸发靶材时,清除或减少熔滴的产生?使其多弧离子镀,并产出的TiAIN膜质光亮,致密。
3.相对来说磁控溅射技术比较深奥些,听的不是太懂之前中设接触过磁控技术书面知识比较理论看不透彻,因为专业知识有限喜欢听笼统一点通俗易懂的。
4.1.如何防止靶的电弧放电问题2.Si靶Ti靶的氧气是否一定要用压电阀来控制吗?3.做高反射钳时Si靶Ti靶的氩气,氧气的比例是多少?4.靶的电弧放电与亮孔是否有联系?5.在同样的工艺条件下,为什么有些会出现膜脱落,有时会出现SiTi膜脱落。
5.镀铝制镜,基片两头打弧,为什么?怎么解决?镀过铝后如何保护?6.1.由于重复使用的玻璃进行了多次镀膜以后在玻璃表面残存物沉积且由于多次清洗造成玻璃表面划痕增加,最终造成散射光增加反射率降低,如何在不抛光的情况下,改善(提高)反射率?在镀膜工艺上有何可行性的解决方案等!为了增加铅膜和玻璃的粘合度,一般采用什么方法?如果镀一层介质膜,可采用什么材料,不影响反射率?7.目前国内的膜厚控制技术均多采用国外进口请问国内外的差距在什么地方,如何攻克?TiO2在40WA时的反射铝会下降如果我们镀Al需要照顾到红外和紫外线有什么方法使得反射率增高,S2O2好象只能作为保护膜用本身并不能提高反射率。
镀膜技术员面试题及答案
镀膜技术员面试题及答案一、选择题1. 镀膜技术中,以下哪项不是常见的镀膜方法?A. 真空蒸镀B. 化学气相沉积C. 电镀D. 磁控溅射答案:C2. 在真空镀膜过程中,以下哪个参数对膜层质量影响最大?A. 真空度B. 镀膜速率C. 基底温度D. 镀膜材料答案:A二、填空题1. 镀膜技术中,________是用来测量膜层厚度的仪器。
答案:椭偏仪2. 磁控溅射技术中,通常使用________来增强溅射效率。
答案:磁场三、简答题1. 简述真空蒸镀的基本原理。
答案:真空蒸镀是一种物理气相沉积技术,其基本原理是将镀膜材料在高真空环境下加热至蒸发,蒸发的原子或分子在基底上沉积形成薄膜。
2. 说明为什么在镀膜过程中需要控制真空度。
答案:控制真空度是为了降低气体分子与蒸发材料原子的碰撞概率,减少气体分子对沉积过程的干扰,从而提高膜层的质量和均匀性。
四、计算题1. 如果一个镀膜室的初始压力为1.0×10^-2 Pa,经过抽真空后压力降至1.0×10^-4 Pa,求抽真空后的压力降低了多少百分比?答案:初始压力为1.0×10^-2 Pa,抽真空后的压力为1.0×10^-4 Pa,压力降低量为1.0×10^-2 - 1.0×10^-4 Pa。
降低百分比为[(1.0×10^-2 - 1.0×10^-4) / 1.0×10^-2] × 100% = 90%。
五、论述题1. 论述化学气相沉积(CVD)技术在半导体制造中的应用及其重要性。
答案:化学气相沉积技术在半导体制造中被广泛用于沉积多种薄膜材料,如硅、二氧化硅、氮化硅等。
CVD技术通过化学气体在基底表面的化学反应生成固态薄膜,具有高纯度、高均匀性和可控的薄膜厚度等优点。
在集成电路的制造过程中,CVD技术用于形成绝缘层、保护层和导电层,对提高器件性能和可靠性起着至关重要的作用。
镀膜员工试题
镀膜员工试题库填空题:1.关机时,关掉扩散泵加热,需要冷却60分种以上时间才可以关掉总电源2.我们正常镀膜过程中镜片需要镀膜的一面应该向下放置。
3、写出+XP的意思向正方向调X方向位置4.新科隆机SID1100中生产IR CUT滤色片,每层开镀时, TiO2 材料的起始光控曲线方向向上, SiO2 材料的光控曲线方向向下。
5. 新科隆机SID1100中的离子源,有3 片栅极,从上到下依次为TOP , MID , BOT ;栅极间总共有12 片陶瓷片绝缘.6.现在我们使用的镀膜机光学控制方式有反射式和透射式两种,昭和机属于透射式新科隆机属于反射式,光驰机属于反射式。
7.相同蒸发条件下,饼料的SIO2,和颗粒状的SIO2,饼料的SiO2 所需的蒸发功率要高。
8.比较下列膜料正常蒸发功率,由大到小排列:MgF2 H4 SiO2 H4 > SiO2 > MgF29.选择下列光学原理:a、光的反射原理b、光的折射原理c、光的干涉原理d、光的投射原理(1)看到水中筷子是弯曲的,利用光的 b (2)看到镜子里自已像,利用光的 a (3)光学薄膜利用光的 c10.真空可以大致分为四段,分别为初真空、低真空、高真空、超高真空11.在真空的定义范围内,高真空度范围是10-1-10-6 Pa12.电子枪分为180°枪和270°枪,而目前韩一机器的电子枪180 度,光驰机器的电子枪180 度,昭和机器的电子枪270度,新柯隆机器的电子枪180 度,13.镜片放到镀膜机后,关门加热抽真空,等到真空度和温度到达,两者都满足设定要求后,机器才能开始镀膜。
14.目前我们镀膜机有两种厚度控制方法:晶振控制和光控控制、15.昭和机器在没有放光控监控片下镀膜时,光控曲线直线形状16、报警程序中PFC报警,其中PFC含义:POLYCOLD17、当扩散泵指示灯闪烁时说明扩散泵还在加热中,还不能打开高阀。
18、当扩散泵指示灯不闪烁时说明扩散泵已加热完成,可以正常工作。
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镀膜技术十个主要问题及答案问题:一、镀膜技术可区分为那几类?可区分为:(1)真空蒸镀(2)电镀(3)化学反应(4)热处理(5)物理或机械处理二、常用的真空泵浦有那几种?适用的抽气范围为何?真空泵浦可分:(1)机械帮浦(2)扩散泵浦(3)涡轮泵浦(4)吸附泵浦(5)吸着泵浦真空泵浦抽气范围:泵浦抽气范围机械泵浦10-1 ~ 10-4 毫巴扩散泵浦10-3 ~ 10-6 毫巴涡轮泵浦10-3 ~ 10-9 毫巴吸附泵浦10-3 ~ 10-4 毫巴吸着泵浦10-4 ~ 10-10 毫巴三、电浆技术在表面技术上的应用有那些?1)溅浆沉积:溅镀是利用高速的离子撞击固体靶材,使表面分子溅离并射到基材镀成一层薄膜,溅射离子的起始动能约在100eV。
常用的电浆气体为氩气,质量适当而且没有化学反应。
(2)电浆辅助化沉积:气相化学沉积的化学反应是在高温基材上进行,如此才能使气体前置物获得足够的能量反应。
(3)电浆聚合:聚合物或塑料薄膜最简单的披覆技术就是将其溶剂中,然后涂布于基板上。
电浆聚合涂布法系将分子单体激发成电浆,经化学反应后形成一致密的聚合体并披覆在基板上,由于基材受到电浆的撞击,其附着性也很强。
(4)电浆蚀刻:湿式碱性蚀刻,这是最简单而且便宜的方法,它的缺点是碱性蚀刻具晶面方向性,而且会产生下蚀的问题。
(5)电浆喷覆:在高温下运转的金属组件须要有陶瓷物披覆,以防止高温腐蚀的发生。
四、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点?加热方式分为:(1)电阻加热(2)感应加热(3)电子束加热(4)雷射加热(5)电弧加热各具有的特点:(1)电阻加热:这是一种最简单的加热方法,设备便宜、操作容易是其优点。
(2)感应加热:加热效率佳,升温快速,并可加热大容量。
(3)电子束加热:这种加热方法是把数千eV之高能量电子,经磁场聚焦,直接撞击蒸发物加热,温度可以高达30000C。
而它的电子的来源有二:高温金属产生的热电子,另一种电子的来源为中空阴极放电。
(4)雷射加热:激光束可经由光学聚焦在蒸镀源上,产生局部瞬间高温使其逃离。
最早使用的是脉冲红宝雷射,而后发展出紫外线准分子雷射。
紫外线的优点是每一光子的能量远比红外线高,因此准分子雷射的功率密度甚高,用以加热蒸镀的功能和电子束类似。
常被用来披覆成份复杂的化合物,镀膜的品质甚佳。
它和电子束加热或溅射的过程有基本上的差异,准分子雷射脱离的是微细的颗粒,后者则是以分子形式脱离。
(5)电弧加热:阴极电弧沉积的优点为:(1)蒸镀速率快,可达每秒1.0微米(2)基板不须加热(3)可镀高温金属及陶瓷化合物(4)镀膜密高且附着力佳五、真空蒸镀可应用在那些产业?主要产业大多应用于装饰、光学、电性、机械及防蚀方面等,现就比较常见者分述如下:1.镜片的抗反射镀膜(MgO、MgF2、SiO2等),镜片置于半球支顶,一次可镀上百片以上。
2.金属、合金或化合物镀膜,应用于微电子当导线、电阻、光电功能等用途。
_3.镀铝或钽于绝缘物当电容之电极。
4.特殊合金镀膜MCrAlY具有耐热性抗氧化性,耐温达1100OC,可应用须耐高温环境的工件,如高速切削及成形加工、涡轮引擎叶片等。
5.镀金属于玻璃板供建筑物之装饰及防紫外线。
6.离子蒸镀镀铝,系以负高电压加在被镀件上,再把铝加热蒸发,其蒸气经由电子撞击离子化,然后镀到钢板上。
7.镀铝于胶膜,可供装饰或标签,且镀膜具有金属感等。
最大的用途就是包装,可以防潮、防空气等的渗入。
8.机械零件或刀磨具镀硬膜(TiC、TiN、Al2O3)这些超硬薄膜不但硬度高,可有效提高耐磨性,而且所需厚度剪小,能符合工件高精度化的要求。
9.特殊合金薄片之制造。
10.镀多层膜于钢板,改善其性能。
11.镀硅于CdS太阳电池,可增加其效率。
12.奈米粉末之制造,镀于冷基板上,使其不附着。
六、TiN氮化钛镀膜具有那些特点?有以下的优点:(1)抗磨损(2)具亮丽的外观(3)具安全性,可使用于外科及食品用具。
(4)具润滑作用,可减少磨擦。
(5)具防蚀功能(6)可承受高温七、CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为那五个步骤?(1)不同成份气相前置反应物由主流气体进来,以扩散机制传输基板表面。
理想状况下,前置物在基板上的浓度是零,亦即在基板上立刻反应,实际上并非如此。
(2)前置反应物吸附在基板上,此时仍容许该前置物在基板上进行有限程度的表面横向移动。
(3)前置物在基板上进行化学反应,产生沉积物的化学分子,然后经积聚成核、迁移、成长等步骤,最后联合一连续的膜。
(4)把多余的前置物以及未成核的气体生成物去吸附。
(5)被去吸附的气体,以扩散机制传输到主流气相,并经传送排出。
八、电浆辅助VCD系统具有何特色?一般CVD均是在高温的基板下产生沉积反应,如果以电浆激发气体,即所谓的电浆辅助CVD(Plasma enhanced CVD 简称PECVD),则基板温度可以大幅降低。
然而一般薄层的光电镀膜或次微米线条,相当脆弱,容易受到电浆离子撞击的伤害,故PECVD并不适宜。
九、CVD制程具有那些优缺点?优点:(1)真空度要求不高,甚至不须真空,如热喷覆。
(2)高沉积速率,APCVD可以达到1μm/min。
(3)相对于PVD,化学量论组成或合金的镀膜比较容易达成。
(4)镀膜的成份多样化,包括金属、非金属、氧化物、氮化物、碳化物、半导体、光电材料、聚合物以及钻石薄膜等。
(5)可以在复杂形状的基材镀膜,甚至渗入多孔的陶瓷。
(6)厚度的均匀性良好,LPCVD甚至可同时镀数十芯片。
缺点:(1)热力学及化学反应机制不易了解或不甚了解。
(2)须在高温度下进行,有些基材不能承受,甚至和镀膜起作用。
(3)反应气体可能具腐蚀性、毒性或爆炸性,处理需格外小心。
(4)反应生成物可能残余在镀膜,成为杂质。
(5)基材的遮蔽很难。
十、钻石材料具有那些优点?可应用在那些产业上?优点:硬度高、耐磨性高、低热胀率、散热能力良好、防蚀能力加>>>等等可应用在:声学产品、消费产品、生医产品、光学产品、超级磨料、航天产品、钻石制造、化学产品、电子产品、机械产品。
十一、钻石薄膜通常可使用那些方法来获得?近年来膜状的钻石合成技术突飞猛进。
钻石膜的厚度,可自奈米至毫米。
薄膜常以物理气相沉积的方法生成。
厚膜则多以化学气相沉积的方法获得。
十二、试说明PVD法生长钻石薄膜之特性?PVD沉积钻石时除撞击区的少数原子外,其它的碳原子乃在真空下,而且温度很低,因此常被认为是低压法。
由于钻石在低压为介稳定状态故PVD法乃被归类为介稳定生长钻石的方法。
但在生长钻石的撞击区碳原子所受的压力及温度都很高。
由于高温影响的区域有限,因此钻石乃在非平衡状态下长出。
在这种情况原子不易扩散,生出钻石的原子排列只是短程有序,但长程排列则含极多缺陷,甚至也含大量杂质,故称为类钻碳。
以PVD法生长钻石或DLC 因基材温度很低,生长速率缓慢,通常只沉积极薄的一层。
由于膜较薄,可附在复杂的工件表面上。
镀DLC膜时因工件不受高温影响,所以PVD沉积的DLC用途广泛,可用为模具涂层及硬盘护膜等。
若要生长较厚的钻石膜,原子必须扩散至晶格内的稳定位置,因此基材温度要提高,但也不能高到使生出的钻石转化成石墨。
十三、试说明CVD法生长钻石薄膜之特性?为使CVD的钻石生长顺利,碳源常用已具钻石结构的甲烷。
甲烷可视为以氢压出的单原子钻石。
所以故煮饭时的煤气含大量悬浮的单原子钻石或DLC。
甲烷分解时若氢原子可在附近若即若离的伴随,沉积出的碳可维持钻石的结构,并接合在钻石膜上而不同再转化成石墨。
十四、使用CVD法成长钻石薄膜,氢元素和碳元素的浓度有何重要性?CVD生长钻石膜的瓶颈乃在避免碳氢化物形成石墨,因此氢原子应比碳源多很多。
碳源浓度决定了钻石膜的生长速率,但碳源太高时氢原子会来不及维护钻石结构而使分解出的碳变成石墨。
因此碳源太浓反而会降低转化成钻石的比率。
碳源的浓度和温度决定了钻石随方向生长速率的差异,因此也决定了钻石的晶形。
氢原子的浓度不仅决定了钻石膜是否能成长,也决定了钻石膜的质量。
氢原子产生的比率不太受气体,但和温度有直接关联。
随着热源温度的降低及距离的增大,氢原子的浓度也会急遽下降。
十五、何为化学气相蒸镀(CVD)?主要的优缺点有那些?化学气相蒸镀乃使用一种或多种气体,在一加热的固体基材上发生化学反应,并镀上一层固态薄膜。
优点:(1)真空度要求不高,甚至可以不需要真空,例如热喷覆(2)沉积速率快,大气CVD可以达到1μm/min(3)与PVD比较的话。
化学量论组成或合金的镀膜较容易达成(4)镀膜的成份多样化,如金属、非金属、半导体、光电材料、钻石薄膜等等(5)可以在复杂形状的基材镀膜,甚至渗入多孔的陶瓷(6)厚度的均匀性良好,低压CVD甚至可以同时镀数十芯片缺点:(1)热力学及化学反应机制不易了解或不甚了解(2)需要在高温下进行,有些基材不能承受,甚至和镀膜产生作用(3)反应气体可能具腐蚀性、毒性或爆炸性,处理时需小心(4)反应生成物可能残余在镀膜上,成为杂质(5)基材的遮蔽很难十六、良好的薄膜须具备那些特性?影响的因素有那些?通俗的定义为在正常状况下,其应用功能不会失效。
想要达到这个目的,一般而言这层薄膜必须具有坚牢的附着力、很低的内应力、针孔密度很少、够强的机械性能、均匀的膜厚、以及足够的抗化学侵蚀性。
薄膜的特性主要受到沉积过程、成膜条件、接口层的形成和基材的影响,随后的热处理亦扮演重要角色。
十七、沉积的薄膜有内应力的存在,其来源为何?(1)薄膜和基材之间的晶格失配(2)薄膜和基材之间的热膨胀系数差异(3)晶界之间的互挤十八、薄膜要有良好的附着力,必须具有那些基本特性?(1)接口层原子之间须有强的化学键结,最好是有化合物的形成或化学吸附,理吸附是不够的(2)低的残存应力,这可能导因于镀膜和基材晶格或热膨胀系数的失配,也可能是薄膜本身存有杂质或不良结构(3)没有容易变形的表结构,如断层结构,具有机械粗糙的表面是可以减低问题的恶化(4)没有长期变质的问题,镀膜曝露在大气等的外在环境,如果本身没生氧化等化学反应,则镀膜自然失去其功能十九、膜厚的量测方法有那些?大致上可分为原位量测、离位量测两类原位星测系指镀膜进行中量测,普遍使用在物理气相沉积,如微天平、光学、电阻量测。
离位量测系指镀膜完成后量测,对电镀膜的行使较为普遍,具有了解电镀效率的目的,如质量、剖面计、扫描式电子显微镜。
二十、何为物理蒸镀?试简述其步骤?物理蒸镀就是把物质加热挥发,然后将其蒸气沉积在预定的基材上。
由于蒸发源须加热挥发,又是在真空中进行,故亦称为热蒸镀或真空蒸镀。
其可分为三个步骤(1)凝态的物质被加热挥发成汽相(2)蒸汽在具空中移动一段距离至基材(3)蒸汽在基材上冷却凝结成薄膜。