真空镀膜技术
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鈦及其化合物的鍍膜性質
• 在鍍膜時,有些材料具有活性,很容易跟其他的氣體起作 用,鈦就是一個很好的例子。 • 活性很好的話,在鍍上基板時會跟基板起化學作用,那它 鍍上去的附著性就非常的好。 • 像洗的很乾淨的玻璃,上方一定會有一些具自由基的氧(沒 有與SiO鍵結的氧),假設是鍍鈦上去好了,那就會形成TiO 的鍵結,也就是一層化合物上鍵結了另一層的化合物那整 個結構是非常牢固的。 • 所以在鍍活性材料時,它的接著力好很多。
現在以鋁為例子,來說明用鎢絲鍍膜的過程。
在鍍鋁時,使用的是裡的多U型鎢絲,一 開始我們把一小段一小段的鋁絲以馬蹄 形掛在鎢絲上,如圖四(a)。
當加熱溶化後,金屬的內聚力很大,會 自己聚在一起;接著鋁在高溫下會與鎢 形成合金,此時鋁與鎢的吸附力很強, 鋁會在鎢絲上延展開來,形成像圖四(b) 的鋁滴。 截面積較大的地方電阻較小,加熱較慢 溫度較低,因此鋁球處熱度不是最高的, 熱度最高處在裸絲之處;又因為附著力 的關係,鎢絲上方的鋁液比下方少,所 以上方就不斷的把鋁蒸發出去。而高溫 的鋁會與鎢形成合金,所以在液化的鋁 往上面移動時,也把部份的鎢帶了上去, 就會形成如圖四(c)上方較粗下方較細的 狀況。
3) 4)
鉭、鉬比鎢容易加工,但也有加熱後再結晶、變脆的情形。 通常買來的鎢(鉭、鉬)表面會有一層氧化物,氧化物比較容易 蒸發會造成汙染。如鍍的東西較不重要就不加理會,如鍍的純度要求很
高可先在真空中加熱(如前述的方法,如加熱完打開真空腔來看,原本看起來 暗暗的鎢舟,會變的有金屬光澤),或浸在NaOH溶液中將氧化物洗去,用電 解法侵蝕。
Filament and Foil Source
4.Low Tension Power Supply
• 通常電熱絲的直徑約為0.5、0.75或1mm,有時甚至約為1.5mm, 此時電阻相當小,因為,R很小,所以I必須很大,如表四-4.1。
• 真空腔常常會有很多水氣,因此許多金屬在蒸發時表面會 有一層氧化膜,這些氧化膜是不會蒸發的,則金屬被包在 氧化層中間,不容易蒸發。 • 有些活性較強的金屬會在蒸發源上流動或潤濕,如此則表 面之氧化膜破裂,而得以蒸發。 • 鍍膜時需要一個蒸發源,蒸發源如圖五(a)稱為鎢舟,鎢舟 兩邊加上電壓產生電流,產生電流後即產生熱量,持續加 熱到剛才所說的溫度就會蒸發上去,圖五上還有各種形狀 的鎢舟或鉬舟。
• 最麻煩的狀況就是氧化物在高溫的時候不會分解,如氧化 鉻。 • 舉例說明:金屬通常都是由表面發揮,除非加熱速度很快, 被鍍物溫度分佈不均、或是金屬表面有一層不透、不揮發 的氧化膜時,此時金屬會在氧化膜內部形成泡泡而濺出質 點,當我們拿出基板上面會出現在如水滴乾掉的水漬痕跡 (原本應該是鍍出一個完整的帄面)。 • 另外,如果熔化物會吸收氣體,造成迅速膨脹,也會有質 點或粉末跳出。 • 以上所說的例子,都是用來說明為什麼需要這麼多種不同 的蒸發源(見圖五)。
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1.耐熱金屬(Refractory Metals)
1) 2) 高溫耐熔金屬依次為鎢、鉭、鉬、鈳、鉑(白金)等,最常用的 為鎢、鉭、鉬。 鎢可以是再結晶態或非結晶態二種。通常買到的鎢舟會稍微軟軟的,
那是因為它很接近非結晶態(晶粒比較小),延展性較佳;若加熱到1000℃ 後,則鎢會再結晶、變脆。
• 1) 2) 3)
表四-2.1 各種金屬之蒸鍍條件
左圖三中, (a)可當成點蒸發源, 熔化的金屬在「fused evaporate」的位置上, 溫度最高,此處金屬較會 蒸發; (b)必須是能與filament 相濕的材料才行; (c)的多股線可使表面 積增加,容易鍍,減少形 成合金的機會,加熱器之 體積要比蒸發物大,才不 會完全被溶解;另外,可 以先將多股線表面碳化, 以防止合金現象,不過炭 化後材質較脆: (d)是將鎢絲及被鍍金 屬線繞在rod上。
圖五(d)用於蒸發低導熱材料,及低紅外光吸收材料, 如SiO2。
表四-3.1
由表四-3.1可知,SiO2的evaporation temperature約為1700℃,並不高, SiO2為低紅外光吸收材料,幾乎不吸收輻射熱,所以在鍍的時候就會有 感覺覺得溫度加的再高也鍍不上去,所以不論是使用鉬舟或鎢舟都無法 鍍製SiO2 。 • 又由表四-3.1可知,SiO除了evaporation temperature約為2300℃之外,它 是很好鍍的,所以鍍SiO時,我們常常是用鉬舟放SiO,蓋上只打了一 個小洞的蓋子再去鍍,這時候的鍍膜速率就會很慢。接著,保持真空腔 在1× 10 -4 torr,也就是裡面有很多的氧氣,那我們鍍的時候就是SiO上去 氧就補上去,然後再用某一種方法來做蒸鍍速率的控制(例:數位式的 膜厚控制計),只要持續控在某一個速率以下,就可以得到很好的 SiO2 。因為要控制的很準確,再加上要有足夠的時間補氧,所以一定 要鍍的很慢,所以通常使用電子槍。
圖五、各式鎢舟 (在後面會有詳細的說明)
• 將鉻勾放在螺旋狀鎢絲上加熱蒸發,因為吸附力>內聚力, 則鉻會附在鎢絲上。
• 此時會有少量金屬在加熱器(鎢絲)上流動,因為 R =電阻率, =長度,A=截面積), A (R 為電阻, 鎢絲變粗,電阻下降,又 W I 2 R(W 為功率,I 為電流, R 為電阻),電阻下降,功率下降,所以鎢絲溫度會迅速 下降,蒸發率上升(參蒸發率公式)。鎢絲暫時冷卻,阻 止進一步熔化,如此周而反覆的進行。
• 圖五(h)用於水帄蒸鍍。
圖八
• 氮化硼(BN)比較不容易和其他物質起作用, •不像鎢會與鋁、鈦形成合金後,脆化也就不會延展開來,維持 像水銀一樣聚在一起; •更重要的是,它可以做成導體,不過因為它很硬,所以連接時 要以銅線連接(圖八上的黑實線),不可直接壓在電極上。 •另外,也有人用石墨,石墨幾乎一樣,不過它還是會延展開來, 但跟其他金屬比起來慢的多了,所以如果不是要鍍很久很久的 話,還是可以用石墨。
真空鍍膜技術
蒸發源(Vapor Source)
凌國基老師
蒸發率
1913年,Langmuir提出,蒸發率為 5.85 × 10-5
M 7 1 × aPu (g.cm .sec ) T
• • • • •
Pu:10-3 torr蒸氣壓 M:a Mol of the substance being evaporated T:Temperature in ° K a:condensation,大約為1 所以蒸發率與蒸氣壓最有關。
在鍍鈦的時候...
如果真空腔內有氮、氧,因鈦是很活性的,那它也會跟氮、氧起反應:
1. 2. 3. 4. 5. 6.
– – –
鈦:暗銀白色。 TiN:金黃色。(鈦跟氮一樣多) 。 Ti2O3:藍色,TiO2:膜層時為透明,粉末狀為白色,即工業用鈦白粉。 TiOx:可以是黑咖啡色。 TiNx:可以是鹹菜色。 Ti的活性非常強
•
以鉻來看,用圖五(f)應該是最好的方法。
• 在鎢上鍍一層鉻,再用來把鉻鍍在其他東西上, • 市面上也可以買到已經鍍完鉻的鎢絲,那每鍍一根就可以知道膜有多厚, 例如:鍍兩根、鍍三根或是一次鍍很多根,就可以控制整個膜的厚度。 • 另外如果有氧化層,它也可以像之前說的,從兩側流出蒸發上去。 • 而這個方法的成本比較貴,因為他上面的鉻鍍完之後,這一根就沒有用 了,不過這是除了電子槍之外,鍍鉻最好的方式。
可用在吸收pump。 Ion pump。 Ti sublimation pump。
7. 8. 9. 10. 11.
鍍出來的折射率無法確定。 Ti0.8Zr0.2 O2為黃金色。 TiO2熔點高,通常用Ti2O3或TiO加氧來蒸鍍。 所以有Ti0.5Zr0.5 Ox(Substance 1)較穩定。 TiO2+Pr6O11+?(Substance 2)較容易鍍但不穩定(用e-bean較穩定)。
圖三
圖四
圖五
鉬舟DIY
• 步驟四:把鉬片往下摺出把手,把手的目的是用來夾住兩邊的電極,如 圖六、圖七。
圖六
圖七
• 最後小心的把螺絲鬆開,就完成了一個鉬舟。如果怕蒸鍍的材料再加熱 的過程中會濺出來的話,也可以用一樣的工具作一個蓋子放在鉬舟上面。 蓋子上要打幾個洞讓蒸氣由洞口跑出來。這樣一方面可以防止材料飛濺 也可以控制蒸鍍的速率。
(a)
(b)
(c)
圖四
Filament and Foil Source
3.Metal Foil Heater
圖五(a)為最常用的鎢舟,但加熱膨脹後會變形。 我們把鎢舟鎖上電極,然後開始加熱, 因為接觸不良造成電阻上升的關係, 加熱最快的地方通常都是電極接觸鎢舟的地方, 但是正常我們希望加熱最快的地方是蒸鍍的地方, 而其他地方加熱要慢一點。
Filament and Foil Source
2.絲形加熱器(Filament Heaters)
絲形(Filament)之加熱器主要分為二種: (1)開放螺旋形-用來蒸發條型金屬,較常見致今都還常看到。wk.baidu.com
圖一、開放螺旋形
(2)錐形籃加熱源-用來蒸發塊形金屬
圖二、錐形籃加熱源
•
用錐形籃也可以蒸鍍一些高溫下不會與鎢絲起作用之金屬, 如:銀、金…等,其內聚力>吸附力,會自己結成一球, 卡在籃子上。此時filament之間的間隔,隨著不同之鍍材 必須夠密,不常用較少見到。 可以用filament heater之條件: 要能附著在filament上。 evaporation temperature 要低於filament之熔點。 與filament所產生之合金,其熔點要高於evaporation temperature。
圖五(b)可防止因加熱後的變形,另外也可以用以下的形式:
左圖的接觸面用一個彈簧, 如此有膨脹空間,增加boat 的壽命。整個電極不可以用 黃銅,因為加熱時,其中的 鋅會蒸發出來。
圖五(c)可用來蒸鍍粉末狀之材料。
• 有時我們在做物理研究的時候,可能發現有什麼化合物是好的鍍材, 可是此時實驗裡的材料可能沒有選擇,只有粉末狀的。 有人可能覺得粉末狀的沒有什麼差,一樣放上去鍍就好了,可是通常 粉末放在大氣中它會自然的吸附水氣; 當我們在加熱時,水氣不會慢慢的釋放,而是像氣泡衝出水面一樣的 衝出來,衝出來的時候,就會把它周圍的粉末像噴槍一樣噴掉。 當我們打開真空腔,鍍半天一看基板上沒有鍍到東西,舟上也沒有材 料了,不過舟的底下有一堆粉未。 因此就有了這種有蓋子的舟產生圖五(c),避免將粉末噴到外面來, 它上面打了小洞,讓蒸氣還是可以蒸出來。
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鉬舟DIY
• 還有很多奇奇怪怪的材料也都是做成粉末狀的,所以物理系較常用到這 種有蓋子的舟。不過這種舟的價格也不便宜,所以也就自己做來用。 • 那怎麼做呢? • 首先我們要先準備三塊方形金屬塊中間打一個螺絲可以穿過的洞, 如圖一 。
圖一 ※ 方形金屬塊的大小因鉬舟的大小不同而有所不同。
圖二
• 在各種薄膜材料的特性資料上,除了Melting point 之外還有vapor pressure,以及在10-2 torr或10-1~10-2 mbar時之溫度。 (如表二-1.1和表二-1.2)
表二-1.1 早期的資料
表二-1.1 早期的資料
表二-1.2
表二-1.2
氧化膜(Oxide surface layers)
三種氧化膜不會阻礙蒸發的情況
1. 氧化物比蒸發物更易揮發。
鍍金屬時我們要鍍的金屬就會被氧化物汙染,舉例說明:氧化鎢比 鎢容易蒸發。這時就要在基板前先以遮板擋住,先加熱把氧化鎢蒸發 掉,再移開遮板鍍鎢。其他還有如GeO、SiO。
2.
氧化物在高溫分解。
3.
金屬能夠擴散通過氧化層。
在900℃時,鉻可以通過氧化層不受影響,但在高溫時則是會受到 影響的。因此通常鍍金屬都是要快速進行,以免受氧化作用。
• 再來我們要把鉬片剪成適當大小的矩形,如圖二 。 長=兩邊把手長+兩倍舟的深度+舟底的長度 寬=舟的寬度+兩倍舟的深度
鉬舟DIY
• 步驟一:把一塊金屬塊放在鉬片的中間把兩邊向上摺,用另兩塊夾住並 且用螺絲鎖緊,如圖三。 • 步驟二:把鉬片的兩邊向上摺,並且貼緊兩邊的金屬塊如圖四。 • 步驟三:把鉬片的兩邊向內摺,如圖五。