真空镀膜(PVD)工艺介绍
PVD真空镀膜简介
PVD真空镀膜简介1. PVD的含义—PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
2. PVD镀膜和PVD镀膜机—PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。
对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。
近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。
我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。
3. PVD镀膜技术的原理—PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
4. PVD镀膜膜层的特点—采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
5. PVD镀膜能够镀出的膜层种类—PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。
6. PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm ～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm ～1μm ，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。
7. PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类—PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。
PVD镀膜工艺简介ppt课件
3.辉光放电的定义 辉光放电是指在稀薄气体中，两个电极之间加上电压 时产生的一种气体放电现象。
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直流溅射：适用于金属材料
射频溅射：是适用于各种 金属和非金属材料的一种 溅射沉积方法
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4.真空溅射镀膜的优缺 点
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三、真空离子镀膜
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1.真空离子镀膜的定 义
在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离化，在 气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反 应物蒸镀在基片上。
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PVD镀膜工艺简介
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一、PVD的定义及分 类
二、真空蒸发镀膜
三、真空溅射镀膜
四、真空离子镀膜
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一、PVD的定义及分 类
1.PVD的定义
物理气相沉积是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空 或低气压气体放电条件下，即在低温等离子体中进行的。涂层的物 质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材 性能完全不同的新的固体物质涂层。
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1.真空的定义
泛指低于一个大气压的气体状态。与普通大气压状态相比，分子密度较为稀 从而气体分子和气体分子、气体分子和器壁之间的碰撞几率要低一些。
2.真空蒸发镀膜的定 义
真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子
直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。
括热蒸发和EB蒸发（电子束蒸发）
离子镀把辉光放电、等离子体技术与真空蒸发镀膜技术结 合在一起
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2.真空离子镀膜的原 理
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3.真空离子镀膜的特 点
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真空蒸镀、溅射镀膜和离子镀的比 较
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Thank you!
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pvd真空渐变镀膜
PVD真空渐变镀膜1. 简介PVD（Physical Vapor Deposition）真空渐变镀膜是一种常用的表面处理技术，通过在真空环境中将固体材料蒸发或溅射到基材表面，形成一层薄膜。
这种技术广泛应用于各个领域，如光学、电子、医疗器械等。
本文将详细介绍PVD真空渐变镀膜的工艺、应用以及未来发展趋势。
2. 工艺流程PVD真空渐变镀膜的工艺流程包括以下几个主要步骤：2.1 清洗与预处理在进行镀膜之前，需要对基材进行清洗和预处理。
清洗可以去除表面的污染物和氧化层，提高镀膜的附着力。
预处理包括去除气体和水分，保证后续步骤在真空环境中进行。
2.2 蒸发或溅射源选择根据需要制备的薄膜材料，选择相应的蒸发或溅射源。
常见的源材料有金属、合金、氧化物等。
蒸发源通过加热使材料蒸发，溅射源则通过离子轰击使材料溅射到基材表面。
2.3 真空系统建立将基材和蒸发源或溅射源放置在真空室中，建立所需的真空环境。
通常使用机械泵和分子泵组成的真空系统，将压力降至10-6至10-8 mbar的范围。
2.4 蒸发或溅射过程开始加热或离子轰击蒸发源，使材料蒸发或溅射到基材表面。
通过控制温度、功率、气压等参数，可以调节镀层的厚度和性质。
2.5 混合气体控制在一些特殊的镀膜工艺中，需要添加混合气体来改变镀层的成分和性质。
混合气体可以通过质量流量控制器精确地加入到真空室中。
2.6 膜层监测与控制在镀膜过程中，需要对膜层进行实时监测和控制。
常用的方法包括光学薄膜监测仪、椭偏仪等。
通过反馈控制系统，可以实现对膜层厚度和光学性能的精确控制。
2.7 冷却与退火镀膜完成后，需要进行冷却和退火处理，以提高薄膜的致密性和结晶度。
冷却过程中要避免快速温度变化，以防止薄膜出现应力和裂纹。
3. 应用领域PVD真空渐变镀膜技术在各个领域都有广泛的应用，下面列举几个常见的应用领域：3.1 光学镀膜PVD真空渐变镀膜在光学领域中应用广泛。
通过控制材料的组分和厚度，可以实现对光的透射、反射和吸收特性的调控。
pvd电镀工艺
pvd电镀工艺PVD电镀工艺是指物理化学气相沉积工艺（英文全称PhysicalVaporDeposition），它是在真空状态下，以物体表面为反应器，以低能量的离子、电子、原子流实现对金属、非金属物质表面的沉积，从而形成膜层。
该工艺是能够在低温、短时间内实现沉积，可以获得具有极高质量的涂层，关键技术在于真空环境和物质离子源选择。
PVD电镀用途PVD电镀技术主要用于涂层金属和非金属，如涂层钛合金、钴合金，也可以用于涂层非金属如碳等等，目的是增加涂层的耐磨性和耐腐蚀性，而且它可以获得低厚度的涂层。
PVD电镀优势PVD电镀是一种技术，具有节能、环保、持久耐用的特点。
它的沉积速度高，有较强的抗腐蚀性，对大多数金属和非金属具有极好的生物相容性，耐磨性能好，沉积后不会变形，耐高温解法材料，可用于高精度表面涂层及薄膜制备。
PVD电镀原理PVD电镀原理是在真空环境中，以电位较低能量的离子、原子等电子流，向待涂层物料表面沉积，实现涂层。
PVD电镀中，待涂层物料表面涂层前，使用无机物质或以合成无机物质为基础的合成气体，利用热沉积作用，在待涂层物料表面沉积涂层。
PVD电镀技术发展随着工业发展，PVD技术不断改进，PVD电镀技术已经发展到结构微观尺度，具有分离控制、降低破坏和改善耐久性的技术特点。
传统的PVD电镀技术虽然可实现涂层，但是仍然存在一定的缺陷，如涂层的质量不稳定，涂层的形貌不稳定，涂层的厚度不均匀，涂层的分子结构不稳定等等。
总结PVD电镀工艺是一种物理化学气相沉积工艺，可以实现涂层金属和非金属，它具有节能、环保、持久耐用的特点，传统的PVD电镀技术也由于不断的发展，具有分离控制、降低破坏和改善耐久性的技术特点。
但是仍然存在一定的缺陷，如涂层的质量不稳定，涂层的形貌不稳定，涂层的厚度不均匀，涂层的分子结构不稳定等等。
PVD镀膜工艺设计
PVD镀膜工艺设计PVD(Physical Vapor Deposition)镀膜工艺设计是一种利用物理方法将金属、合金等材料通常在真空条件下沉积在基材表面的技术。
这种技术主要应用于制备薄膜材料，以改善基材的性能和外观。
首先，选择目标材料是PVD镀膜工艺设计的首要任务。
目标材料的选择应根据使用要求和性能需求。
例如，如果需要制备具有较高硬度的镀膜材料，则可以选择金属氮化物或金属碳化物作为目标材料。
选择合适的目标材料有助于提高镀膜的质量和性能。
接下来，需要设定真空环境。
PVD镀膜是在真空条件下进行的，因此需要选择适当的真空设备，并设定合适的真空度。
真空度的选择应根据目标材料和镀膜方法来确定。
较高的真空度可以提高材料的纯度，从而改善镀膜的质量。
选择镀膜方法是PVD镀膜工艺设计的关键一步。
常见的PVD镀膜方法包括物理汽相沉积、溅射、电弧镀等。
不同的镀膜方法具有不同的优势和适用范围。
例如，物理汽相沉积适用于制备具有较高耐磨性的镀膜材料，而溅射适用于制备薄膜材料。
选择工艺参数是确保镀膜质量和性能的重要一步。
工艺参数包括沉积温度、沉积速率、气压、电流等。
这些参数的选择应根据目标材料和镀膜方法的要求来确定。
例如，沉积温度过高可能导致材料晶粒长大，从而降低镀膜的硬度。
进行材料沉积时，需要注意控制沉积速率和沉积时间，以确保镀膜的质量和均匀性。
沉积速率过高可能导致材料的沉积不均匀，从而影响镀膜的性能和外观。
最后，需要对镀膜进行膜层分析，以评估镀膜质量和性能。
膜层分析可以包括表面形貌、结构分析和物理性能测量等。
这些分析结果可用于优化工艺参数和改进镀膜质量。
综上所述，PVD镀膜工艺设计是一项复杂的任务，需要综合考虑材料选择、真空环境、镀膜方法、工艺参数和膜层分析等多个因素。
通过合理设计和优化，可以获得质量优良的镀膜材料，满足不同应用的需求。
PVD镀膜工艺简介
PVD镀膜工艺简介PVD镀膜（Physical Vapor Deposition）是一种利用物理气相沉积的技术，在高真空环境下，通过蒸发、溅射等方式将金属、合金、化合物等材料以薄膜的形式沉积到基材表面的一种工艺。
PVD镀膜工艺被广泛应用于各个领域，如光学、电子、机械、汽车、建筑等。
蒸发是PVD镀膜中最早应用的一种工艺。
通过加热源将材料加热至蒸发温度，使其转变为气态，然后在真空室内的基板上形成薄膜。
蒸发工艺可以通过电阻加热、电子束加热等方式来进行。
这种工艺的特点是操作简单，成本较低，但适用于蒸发温度较低的材料。
溅射是PVD镀膜中应用较广泛的一种工艺。
通过高能粒子的轰击使靶材表面的原子或离子脱落，然后被沉积在基板表面上形成薄膜。
溅射工艺一般可分为直流溅射、射频溅射、磁控溅射等不同方式。
这种工艺具有较高的沉积速率和较好的膜层均匀性，适用于多种材料的沉积。
离子镀是一种利用离子轰击作用在基材表面上形成薄膜的工艺。
通过向沉积膜层的材料供应高能离子，使其在基板表面发生化学反应并沉积形成薄膜。
离子镀工艺能够提高薄膜的致密性和附着力，适用于复杂形状的基板和高精密要求的镀膜。
在PVD镀膜过程中，需要注意以下几个关键环节。
首先，要确保真空室内的气压稳定，并保持高真空状态，以避免杂质对薄膜质量的影响。
其次，镀膜前需对基材进行表面处理，如清洗、抛光等，以提高薄膜的附着力。
再次，镀膜材料的纯度和均匀性对薄膜性能起着重要影响，因此需要对材料进行精细的处理和选择。
最后，要通过适当的加热、冷却以及离子轰击等方式，使沉积的薄膜具有良好的致密性和均匀性。
PVD镀膜工艺具有许多优点。
首先，它可以在室温下进行，避免了高温对基材产生的热应力和变形。
其次，沉积的薄膜具有较高的质量和均匀性，具有良好的机械性能和化学稳定性。
再次，PVD镀膜可用于多种材料的沉积，如金属、合金、化合物等，具有较大的灵活性和可扩展性。
此外，PVD镀膜还具有低污染性、无溶剂使用、高效节能等环保优势。
pvd电镀工艺
pvd电镀工艺PVD电镀工艺摘要：PVD（Physical Vapor Deposition）电镀工艺是一种新型的电镀技术，它通过将材料以固态的形式加热，使其转化为气相，然后在材料表面形成薄膜。
PVD电镀工艺具有很多优势，如高度均匀的薄膜质量、较高的附着力、较低的工件变形以及对环境的友好等。
本文将重点介绍PVD电镀工艺的原理、应用以及未来的发展方向。
第一部分：PVD电镀工艺的原理PVD电镀工艺的原理是利用高能粒子（离子、原子或分子）对材料表面进行沉积而形成薄膜。
PVD电镀工艺通常包括以下几个步骤：1. 蒸发：将金属材料以固态形式加热，使其转化为气相。
这个过程通常发生在真空环境中，以防止杂质的存在。
2. 沉积：将蒸发的金属材料沉积到待镀件表面。
沉积过程中，高能粒子会与金属材料表面发生反应，形成均匀的薄膜。
3. 附着：通过控制沉积条件，使薄膜附着在待镀件表面。
PVD电镀工艺通常具有很好的附着力，可以在各种形状和材料的表面形成均匀的薄膜。
4. 后处理：经过沉积和附着后，薄膜需要进行一些后处理步骤，如退火、抛光等，以提高膜层的性能。
第二部分：PVD电镀工艺的应用PVD电镀工艺由于其优秀的性能，在许多领域得到广泛应用。
以下是一些常见的PVD电镀工艺应用：1. 防腐蚀镀膜：PVD电镀工艺可以镀制出高硬度、高耐磨、高附着力的膜层，能够有效延长物件的使用寿命，提高物件的耐腐蚀能力。
2. 装饰镀膜：PVD电镀工艺可以通过调整沉积条件，制备出具有不同颜色、光泽度和纹理的膜层，用于制作高档家居产品、手表、珠宝等。
3. 刀具涂层：PVD电镀工艺可以制备出高硬度、高刚度的涂层，用于制作刀具，提高刀具的切削性能和耐磨性。
4. 光学薄膜：PVD电镀工艺可以制备出具有特殊光学性能的薄膜，如折射率控制膜、反射膜、透明导电膜等，广泛应用于光学器件和显示器件中。
第三部分：PVD电镀工艺的发展方向随着科技的不断发展和社会对环境友好和可持续发展的需求，PVD 电镀工艺也在不断进步和改进。
pvd真空渐变镀膜
pvd真空渐变镀膜摘要：1.PVD真空渐变镀膜简介2.PVD真空渐变镀膜的工艺原理3.PVD真空渐变镀膜的应用领域4.PVD真空渐变镀膜的优势与特点5.我国在PVD真空渐变镀膜技术的发展现状6.未来PVD真空渐变镀膜的发展趋势与展望正文：一、PVD真空渐变镀膜简介PVD（物理气相沉积）真空渐变镀膜是一种先进的表面处理技术，通过在真空环境下，将靶材表面物质转化为气相并沉积在基材表面，形成具有一定厚度和成分梯度的薄膜。
这种薄膜具有优异的性能，广泛应用于各个领域。
二、PVD真空渐变镀膜的工艺原理PVD真空渐变镀膜工艺的基本原理是在真空腔体内，通过高速氩离子轰击靶材，使靶材表面物质蒸发并进入真空腔体。
这些气相粒子在基材表面凝结，形成薄膜。
由于氩离子的能量传递，使得薄膜的成分和厚度沿径向呈梯度分布。
三、PVD真空渐变镀膜的应用领域PVD真空渐变镀膜技术在许多领域具有广泛的应用，如电子、光学、建筑、汽车、航空航天等。
在电子产品中，PVD薄膜可作为防腐、抗氧化、抗磨损、电磁屏蔽等功能层；在建筑领域，PVD薄膜可用于玻璃、金属材料的表面修饰，提高其美观性和实用性；在汽车工业中，PVD薄膜可作为抗磨损、抗腐蚀、抗紫外线等涂层，提高零部件的使用寿命。
四、PVD真空渐变镀膜的优势与特点PVD真空渐变镀膜具有以下优势和特点：1.薄膜性能优异，具有良好的耐腐蚀、抗氧化、抗磨损等性能。
2.薄膜厚度可精确控制，成分呈梯度分布，具有优异的涂层均匀性。
3.工艺过程环保，无污染排放。
4.适用于各种基材，应用范围广泛。
五、我国在PVD真空渐变镀膜技术的发展现状近年来，我国PVD真空渐变镀膜技术取得了显著的发展，不仅在科研领域取得了突破，而且在产业化方面也取得了丰硕的成果。
我国已成功研发出具有自主知识产权的PVD设备，并广泛应用于工业生产领域。
此外，我国在PVD 薄膜材料、工艺研发和产业化方面与国际先进水平保持同步。
六、未来PVD真空渐变镀膜的发展趋势与展望随着科技的不断进步和市场需求的增长，PVD真空渐变镀膜技术将迎来更广泛的应用和发展。
PVD镀膜工艺简介
生物医疗
用于制造具有生物相容性和耐 腐蚀性能的医疗器械和人工关
节等。
02
PVD镀膜工艺流程
前处理
清洗
去除工件表面的污垢、油脂和杂 质，确保工件清洁，以便进行后 续镀膜。
干燥
将清洗后的工件进行干燥处理， 以去除残留的水分，避免对镀膜 效果产生影响。
真空镀膜
蒸发源选择
根据需要镀制的膜层材料，选择相应 的蒸发源，如电子束蒸发、激光脉冲 蒸发等。
PVD镀膜工艺简介
目 录
• PVD镀膜技术概述 • PVD镀膜工艺流程 • PVD镀膜材料 • PVD镀膜工艺的特点与优势 • PVD镀膜工艺的应用实例
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PVD镀膜技术概述
PVD镀膜技术的定义
物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，简称PVD）是一 种表面处理技术，利用物理方法将固体材料转化为气态原子或 分子，并将其沉积在基材表面形成薄膜。
类金刚石镀膜
具有极高的硬度和优良的 耐磨性，常用于机械零件、 光学元件、医疗器械等领 域的表面处理。
碳化物镀膜
具有高硬度、高耐磨性等 特点，常用于切削工具、 模具等领域的表面处理。
复合镀膜材料
氧化铝/氮化钛镀膜
氧化锆/类金刚石镀膜
具有高硬度、优良的耐磨性和耐腐蚀 性等特点，广泛用于切削工具、刀具 等领域的表面处理。
适用范围广
PVD镀膜工艺适用于各种金属材料， 如不锈钢、钛、铝、钴等，也可应用 于陶瓷、玻璃等非金属材料。
优良的结合力
PVD镀膜层与基材之间具有优良的结 合力，不易剥落，提高了产品的可靠 性和安全性。
长寿命
PVD镀膜层具有较长的使用寿命，可 大幅减少维修和更换的频率，降低生 产成本。
PVD真空镀膜简介
PVD真空镀膜简介PVD真空镀膜（Physical Vapor Deposition）是一种通过高真空条件下，将固态材料蒸发、溅射或离子束照射等方式沉积到基材表面形成功能薄膜的工艺技术。
PVD镀膜技术具有优异的性能和广泛的应用领域，被广泛应用于光学薄膜、装饰薄膜、耐磨薄膜、防腐蚀薄膜和导电薄膜等领域。
PVD真空镀膜技术主要分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子束沉积等几种方式。
蒸发镀膜是将固态材料加热到一定温度，使其蒸发成气体，然后沉积在基材表面形成薄膜。
溅射镀膜是将固态目标材料置于高真空室中，利用离子束轰击目标表面，使其材料释放出来，并沉积在基材上。
离子束沉积则是利用离子束轰击固态材料，产生的离子和中性粒子在基材上形成薄膜。
PVD镀膜技术具有许多重要优势。
首先，PVD薄膜具有极高的附着力，因为在真空环境下，薄膜材料可以直接与基材表面发生物理化学反应，形成致密的结构。
其次，PVD技术可以在低温下进行，减少了对基材的热损伤，特别适用于易受热的塑料和有机材料。
此外，PVD薄膜具有良好的化学稳定性、机械硬度和耐磨性，能够有效提高基材的耐腐蚀性、硬度和耐磨性。
另外，PVD镀膜技术还可以控制膜层的成分和结构，可以产生金属薄膜、合金薄膜、氮化物薄膜、硼化物薄膜等多种高性能薄膜。
PVD真空镀膜技术在许多领域中得到广泛应用。
在光学领域，它可以用于制备高反射膜、透明导电膜、滤光膜等。
在电子领域，PVD技术可以制备导电薄膜用于集成电路、光伏电池和显示器件等。
在汽车和航空航天领域，PVD薄膜可以用于制备具有高耐磨性和耐腐蚀性的装饰膜。
在工具领域，PVD技术可以制备高硬度、高耐磨的刀具涂层和模具涂层等。
在材料领域，PVD薄膜可以制备各种功能性薄膜，如防刮伤膜、防指纹膜、防眩光膜等。
然而，PVD镀膜技术也存在一些问题。
首先，设备和工艺的成本相对较高，需要投入较大的资金和技术支持。
其次，PVD薄膜的厚度较薄，通常在几纳米到几十微米之间，因此只能应用于薄层镀膜。
真空镀膜(PVD 技术)
真空镀膜（PVD 技术）1. 真空涂层技术的发展真空涂层技术起步时间不长，国际上在上世纪六十年代才出现将CVD（化学气相沉积）技术应用于硬质合金刀具上。
由于该技术需在高温下进行（工艺温度高于1000ºC），涂层种类单一，局限性很大，起初并未得到推广。
到了上世纪七十年代末，开始出现PVD（物理气相沉积）技术，之后在短短的二、三十年间PVD 涂层技术得到迅猛发展，究其原因：（1）其在真空密封的腔体内成膜，几乎无任何环境污染问题，有利于环保；（2）其能得到光亮、华贵的表面，在颜色上，成熟的有七彩色、银色、透明色、金黄色、黑色、以及由金黄色到黑色之间的任何一种颜色，能够满足装饰性的各种需要；（3）可以轻松得到其他方法难以获得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂层、复合涂层，应用在工装、模具上面，可以使寿命成倍提高，较好地实现了低成本、高收益的效果；（4）此外，PVD 涂层技术具有低温、高能两个特点，几乎可以在任何基材上成膜，因此，应用范围十分广阔，其发展神速也就不足为奇。
真空涂层技术发展到了今天还出现了PCVD（物理化学气相沉积）、MT-CVD （中温化学气相沉积）等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。
目前较为成熟的PVD 方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。
多弧镀设备结构简单，容易操作。
多弧镀的不足之处是，在用传统的DC 电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3 um 时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。
而且，薄膜表面开始变朦。
多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。
可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能地发挥它们各自的优越性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。
在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法增厚涂层，最后再利用多弧镀达到最终稳定的表面涂层颜色的新方法。
2. 技术原理PVD (Physical Vapor Deposition) 即物理气相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。
PVD—真空电镀介绍
PVD—真空电镀介绍真空电镀（Physical Vapor Deposition, PVD）是一种通过将金属或非金属材料沉积到基材表面来形成薄膜的表面处理技术。
它采用真空环境，在低压下进行薄膜沉积，以提高材料的物理和化学性能。
真空电镀主要应用于电子、光学、化工、机械等行业，用于生产高质量的薄膜涂层、金属化套管、光学镜面和装饰性材料。
真空电镀通常包括以下几个步骤：清洗、预处理、真空辅助、沉积和后处理。
首先是清洗，这一步骤的目的是去除基材表面的油脂、氧化物和其他杂质。
清洗方法可以根据不同的材料和表面状态来选择，常见的方法有超声波清洗和化学清洗。
接下来是预处理，目的是改善基材表面的附着力和薄膜的质量。
预处理常用的方法有机械抛光、离子打磨和退火等。
这些步骤可以去除表面缺陷和提高基材的平整度。
在真空辅助阶段，将待沉积的材料放入真空室内，排除其中的气体，以确保在沉积过程中薄膜与基材之间的纯净接触。
维持低压和高真空的环境有助于减少杂质的影响，同时提高沉积速率和薄膜质量。
沉积阶段是真空电镀的核心过程，通过在真空环境下加热沉积源，使其升华或蒸发，并将物质沉积在基材表面上，形成薄膜。
常用的沉积方法包括物理蒸发、电子束蒸发和磁控溅射等。
每种方法都有其适用的材料类型和薄膜特性，选择合适的沉积方法关键。
最后是后处理阶段，对沉积的薄膜进行表面处理，以提高其质量和性能。
后处理的方法包括退火、氧化、镀膜和抛光等。
这些方法能够改变薄膜的晶体结构、硬度、透明度和耐腐蚀性等特性。
真空电镀具有许多优点，其中之一就是可以在低温下进行沉积，从而避免了基材热失真或退火的问题。
此外，真空电镀还可以制备出非常薄的薄膜，并具有良好的附着力和一致性。
其制备的薄膜还具有良好的耐腐蚀性、硬度和耐磨损性，使其在多个应用领域中得到广泛应用。
真空电镀广泛应用于电子行业，可用于制备金属或非金属薄膜，用于制造电子器件的导电层、光学薄膜、隔热层和保护层等。
此外，真空电镀还被应用在光学镜片、高性能刀具、模具和装饰材料等领域。
真空镀膜PVD工艺介绍
真空镀膜PVD工艺介绍真空镀膜 PVD (Physical Vapor Deposition) 工艺是一种常用的表面改性技术，它通过在真空条件下将材料蒸发或溅射到目标物体表面，形成一层薄膜的过程。
PVD 工艺常用于改善材料表面的硬度、耐磨性、抗腐蚀性和外观等性能。
本文将介绍真空镀膜 PVD 工艺的原理、过程以及应用。
真空镀膜PVD工艺的原理是利用真空系统，通过热蒸发或离子溅射等手段，将材料原子蒸发或溅射到目标物体的表面，形成一层薄膜。
该过程中，原子蒸发或溅射的材料会以气态或离子态的形式传输到目标物体上，然后在表面重新结晶，形成一层均匀、致密的薄膜。
1.准备基材：首先，需要对基材进行表面处理，常见的方法包括超声波清洗、乙醇刷洗、高温烘干等。
这些处理可以去除表面的杂质和氧化物，提供一个干净、平整的基材表面。
2.创建真空：将待处理的基材放置在真空腔室中，然后通过真空泵抽出腔室中的气体，从而形成一个高真空或超高真空环境。
创建适当的真空环境对于保证薄膜的质量至关重要。
3.材料蒸发或溅射：根据需要镀膜的材料，可以选择热蒸发或离子溅射等方法。
在热蒸发中，将材料悬挂在加热器上，通过电子束、电阻加热或激光等方式将材料加热到足够高的温度，使其蒸发。
而在离子溅射中，利用离子束轰击材料表面，使其原子被剥离并溅射到基材表面。
这两种方法的选择取决于材料的性质和薄膜要求。
4.薄膜沉积：蒸发或溅射的材料原子在基材表面重新结晶，并形成一层薄膜。
这一步骤需要控制材料蒸发或溅射速率、基材温度以及其他参数，以确保薄膜的均匀性和致密性。
真空镀膜PVD工艺具有许多应用。
例如，在硬质涂层方面，通过在刀具、模具等工具表面镀覆钛氮、氮化铝等陶瓷材料，可以显著提高其硬度和耐磨性，从而延长其使用寿命。
在装饰性涂层方面，通过在金属、塑料等材料表面镀覆不同颜色和光泽的金属膜，可以增加其外观吸引力。
此外，真空镀膜PVD工艺还可用于生物医学器械、太阳能电池、电子器件等领域，改善材料的性能和功能。
PVD—真空电镀介绍
PVD—真空电镀介绍真空电镀是一种常用的表面处理技术，用于在固体物体表面镀上金属薄膜，以提高其外观和性能。
真空电镀技术主要包括化学气相沉积和物理气相沉积两个过程。
本文将对真空电镀技术进行介绍。
真空电镀技术主要通过在真空环境中将金属蒸汽沉积在物体表面来进行镀膜。
在真空容器中，物体和金属源被置于两个相对位置，金属源通常是一块纯净的金属材料，通过加热使其蒸发成金属蒸汽。
蒸汽通过真空环境传输到物体表面，然后沉积在物体表面形成金属薄膜。
化学气相沉积是一种通过化学反应产生金属薄膜的真空电镀技术。
在蒸发金属的同时引入一种气体，如氨气、硅烷、钛四氯等，通过气体与蒸汽的化学反应产生相应的金属化合物，然后沉积在物体表面。
这种方法可以在薄膜中引入其他元素，增加薄膜的硬度、耐腐蚀性和附着力。
化学气相沉积适用于需要特殊功能的表面，如硬质涂层、防腐涂层等。
物理气相沉积是一种在真空环境中直接蒸发金属形成薄膜的真空电镀技术。
蒸发金属的方式有电子束蒸发、电弧蒸发和溅射，其中最常用的是电子束蒸发。
蒸发金属的工艺参数会影响薄膜的性质，如蒸发速率、蒸发温度、物体的旋转速度等。
物理气相沉积制备的金属薄膜通常具有较好的导电性、光学性能和表面平整度。
真空电镀技术在许多领域有广泛的应用。
在电子行业中，真空电镀用于制备导电屏蔽层、金属连线、电极等关键部件。
在光学行业中，真空电镀用于制备镀膜玻璃、反射镜、光学滤波器等光学元件。
在装饰行业中，真空电镀用于制备金属饰品、手表表壳、手机壳等。
在汽车工业中，真空电镀技术用于制备汽车零部件的表面保护层。
在航空航天领域，真空电镀技术用于制备航空发动机叶片、导向叶片等高温部件的保护层。
真空电镀技术具有一些优势。
首先，镀膜厚度可控，可以制备出不同厚度的薄膜，以满足不同应用需求。
其次，镀膜质量高，薄膜密度高，具有较好的耐腐蚀性和耐磨损性。
此外，真空电镀可同时处理多个物体，生产效率较高。
此外，真空电镀技术可以根据具体需要控制薄膜的成分和结构，以满足不同的功能要求。
pvd真空镀膜技术
pvd真空镀膜技术PVD真空镀膜技术是一种先进的表面处理技术，可以在各种材料表面形成均匀、致密的薄膜。
它在许多领域都有广泛的应用，如光学、电子、汽车、航空航天等行业。
这项技术不仅能提高材料的表面硬度和耐磨性，还能改善材料的光学性能和化学稳定性。
PVD真空镀膜技术基于真空环境下的物理过程，通过在材料表面蒸发、溅射或离子轰击等方式，将金属或非金属材料沉积在基材上，形成一层均匀、致密的薄膜。
这种薄膜可以具有不同的功能和特性，如反射、透明、防腐、导电、隔热等，可根据不同的需求进行调控。
PVD真空镀膜技术具有许多优点。
首先，它能够在较低的温度下进行，不会对基材产生热应力，保持了材料的原始性能。
其次，由于在真空环境下进行，可以有效避免氧化、污染等问题，使得薄膜的质量更高。
此外，PVD技术还能够实现对薄膜成分和结构的精确控制，从而满足不同行业对薄膜的特定要求。
在光学领域，PVD真空镀膜技术广泛应用于镜片、滤光片等光学元件的制造。
通过在玻璃或塑料表面镀膜，可以提高透过率、降低反射率，实现更清晰、明亮的视觉效果。
同时，PVD技术还可以增加镜片的硬度和耐刮性，提高其使用寿命。
在电子领域，PVD真空镀膜技术被广泛应用于集成电路、显示器、太阳能电池等器件的制造。
通过在电子器件表面镀膜，可以提高其导电性能、耐蚀性和稳定性，增加其工作寿命。
此外，PVD技术还可以制备纳米级别的薄膜材料，用于制造新型电子器件，如纳米传感器、量子点器件等。
在汽车和航空航天领域，PVD真空镀膜技术被广泛用于改善材料的耐腐蚀性和耐磨性。
通过在汽车零部件表面镀膜，可以提高其抗氧化能力和耐候性，延长使用寿命。
同时，PVD技术还可以制备具有低摩擦系数和高硬度的薄膜，用于减少摩擦损失和提高燃油效率。
PVD真空镀膜技术是一项重要的表面处理技术，具有广泛的应用前景。
它不仅能够改善材料的性能和功能，还能提高产品的质量和竞争力。
随着科技的不断进步，PVD技术将在更多领域发挥重要作用，推动材料科学和工程的发展。
真空镀膜pvd的工艺流程
真空镀膜pvd的工艺流程
一、前言
真空镀膜PVD（Physical Vapor Deposition）是一种常见的表面处理技术，广泛应用于电子、汽车、航空航天等领域。
本文将详细介绍真空镀膜PVD的工艺流程。
二、准备工作
1. 设计产品图纸，并确定所需镀膜材料和厚度。
2. 选择合适的真空镀膜设备，并进行调试和清洁。
3. 检查原材料是否符合要求，如有问题及时更换或处理。
三、表面处理
1. 清洗：将待镀物品放入清洗槽中进行清洗，去除油污和其他杂质。
清洗方式包括机械清洗、化学清洗和超声波清洗等。
2. 预处理：将待镀物品放入预处理槽中进行表面活化，使其更容易与涂层粘附。
常用的预处理方法有喷砂、喷丸和酸洗等。
四、真空镀膜
1. 真空抽气：将待镀物品放入真空室内，利用真空泵对室内气体进行抽出，使室内压力降到一定范围内。
2. 加热：对待镀物品进行加热，使其表面温度升高，增加蒸发速率。
3. 蒸发：将镀膜材料放入源中，通过加热使其蒸发，形成气态颗粒。
4. 沉积：气态颗粒沿着真空室内的惯性轨道运动，在待镀物品表面沉积形成涂层。
5. 冷却：待镀物品冷却至室温后，涂层固化。
五、后处理
1. 检验：对涂层进行外观检查、厚度测量和耐腐蚀性测试等。
2. 包装：将合格的产品进行包装，以防止在运输和使用过程中受到损坏。
六、总结
真空镀膜PVD工艺流程包括准备工作、表面处理、真空镀膜和后处理四个步骤。
每个步骤都需要严格控制操作参数和环境条件，以保证产品质量。
真空镀膜(PVD)工艺知识介绍
真空镀膜（PVD）工艺知识介绍简介真空镀膜（Physical Vapor Deposition，简称PVD）是一种常用于表面修饰和功能改善的工艺。
通过在真空环境中蒸发或溅射物质来形成薄膜，将薄膜沉积在基材上，以改变基材的性质和外观。
本文将介绍PVD工艺的原理、应用和优势。
PVD工艺原理在PVD工艺中，基材和目标材料被放置在真空环境中。
通过热蒸发或物理溅射的方式，目标材料从固态转化为气态。
这些气体分子会沉积在基材上，形成一层薄膜。
PVD工艺常用的方法有热蒸发和物理溅射。
热蒸发是将目标材料加热至其沸点以上，使其转化为气态，然后沉积在基材上。
而物理溅射则是通过向目标材料表面轰击高能粒子，将其击打下来沉积在基材上。
PVD工艺的应用PVD工艺在多个领域得到了广泛应用。
装饰性涂层PVD工艺可以制备具有不同颜色、质感和光泽度的涂层，用于装饰各种产品，如钟表、珠宝、手袋、饰品等。
常见的装饰性涂层有黄金色、玫瑰金色、银色和黑色等。
防腐蚀涂层PVD工艺可以形成陶瓷涂层、金属涂层或复合涂层，这些涂层具有良好的耐腐蚀性能，可保护基材免受化学腐蚀、氧化和磨损的影响。
这些涂层常用于汽车、航空航天、电子产品等领域。
功能性涂层PVD工艺还可以制备具有特殊功能的涂层，如光学涂层、导电涂层和磁性涂层。
光学涂层可用于改善光学性能，导电涂层可用于制作导电膜，磁性涂层可用于制造磁性材料。
PVD工艺的优势相比其他表面处理工艺，PVD工艺具有以下几个优势：高质量涂层PVD工艺可以制备高质量的涂层，具有高硬度、低摩擦系数、耐磨损和耐腐蚀等特性。
这些特性使得PVD涂层在各种应用中表现出色。
环保节能PVD工艺不需要使用有机溶剂和其他有害化学物质，对环境友好。
同时，PVD 涂层具有较高的附着力和耐用性，可延长基材的使用寿命，减少资源消耗。
精密控制PVD工艺可以实现对涂层厚度、成分和结构的精确控制。
通过调整工艺参数，可以得到所需的涂层特性，以满足不同应用的需求。
pvd真空镀膜
PVD真空镀膜简介PVD（Physical Vapor Deposition）真空镀膜是一种常用的表面涂层技术，通过在真空环境中将固体材料转变成蒸汽或离子态，将其沉积在基材表面上进行涂层。
PVD镀膜技术具有高附着力、优异的质量性能、较长的使用寿命等优点，被广泛应用于自动化设备、汽车、电子器件、建筑装饰等领域。
工艺过程PVD真空镀膜的工艺过程包括蒸发、溅射、离子镀等步骤。
1.蒸发：在真空腔室中加热固体材料，使其转变成蒸汽状态。
蒸发材料通常为金属或合金，如铝、铜、钛等。
这些金属材料通常具有较高的沉积速率和较好的光学性能。
2.溅射：通过电弧或磁控溅射等方法将固体材料的离子或原子从靶材表面释放，进而沉积到基材表面上。
溅射技术可以实现材料的复杂合金结构涂层，具有较高的镀膜均匀性和较好的附着力。
3.离子镀：利用离子源将离子束引导到基材表面，在表面形成均匀的离子沉积层。
离子镀技术可用于增强涂层材料的致密性和硬度，提高涂层的耐磨性和抗腐蚀性能。
应用领域PVD真空镀膜技术在多个行业和领域得到广泛应用。
以下是一些常见的应用领域：汽车PVD镀膜广泛应用于汽车行业，主要用于改善汽车外观和提高其耐腐蚀性能。
常见的应用包括车轮、车门把手、排气管等，通过PVD镀膜技术使其表面具有金属光泽、抗刮擦和抗腐蚀等特性。
建筑装饰PVD镀膜技术在建筑装饰领域被广泛应用于不锈钢表面处理，使其呈现出不同颜色和纹理，提高装饰效果和耐腐蚀性能。
常见的应用包括不锈钢门、窗户、护栏等。
电子器件PVD镀膜技术在电子器件领域被广泛应用于制作涂层薄膜和改善器件性能。
常见的应用包括显示屏保护膜、光学镜片、太阳能电池板等。
其他PVD镀膜技术还可应用于其他领域，如机械零件、医疗设备、航空航天等。
通过PVD镀膜技术改善材料的表面性能，提高其耐磨性、耐高温性、抗腐蚀性等。
优势和挑战PVD真空镀膜技术具有以下优势：1.高附着力：PVD涂层与基材表面结合紧密，具有较高的附着力，不易剥落或脱落。
真空镀膜技术
（4）铬 Cr Cr膜在可见区具有很好的中性，膜层非常牢固，常用作中性衰
减膜。
2、介质薄膜
对材料的基本要求：透明度、折射率、机械牢固度和化学稳 定性以及抗高能辐射。
（1）透明度
短波吸收或本征吸收I：主 要是由光子作用使电子由 价带跃迁到导带引起的；
（2）折射率
薄膜的折射率主要依赖： 材料种类：材料的折射率是由它的价电子在电场作用下的性质决定。材
料外层价电子很容易极化，其折射率一定很高；对化合物，电子键结合的化 合物要比离子键的折射率高。折射率大致次序递增：卤化物、氧化物、硫化 物和半导体材料。
波长：折射率随波长变化为色散。正常色散为随波长增加而减小。正常色 散位于透明区，反常色散位于吸收区。
电子枪对薄膜性能的影响 1、对膜层的影响： （1）蒸气分子的动能较大，膜层较热蒸发的更致密牢固； （2）二次电子的影响：使膜层结构粗糙，散射增加； 2、对光谱性能的影响
电子枪对光谱的影响主要是焦斑的形状、位臵、大小在成膜的影响。 特别是高精度的膜系，和大规模生产的成品率要求电子枪的焦斑要稳定。
薄膜厚度的测量
u
m
几种常用真空泵的工作压强范围
旋片机械泵 105 102 pa
吸附泵 105 102 pa
扩散泵 100 105 pa
涡轮分子泵 101 108 pa
溅射离子泵 100 1010 pa
低温泵 101 1011 pa
几种常用真空泵的工作原理
1. 旋片机械泵
工作过程是： 吸 气—压缩—排气。
定子浸在油中起润 滑，密封和堵塞缝 隙的作用。
（3）机械牢固度和化学稳定性
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编撰：张学章真空镀膜(PVD)工艺介绍真空镀膜(PVD)工艺知识介绍2010年01月20日拟订:张玉立讲解:刘红彪目录1. 真空镀膜技术及设备发展;2. 真空镀膜的工艺基本流程;3.真空镀膜的工艺特性;4.真空镀膜工艺对素材的适镀性及要求;5.真空镀膜工艺关键技术与先进性;6.真空镀膜新工艺展示;7.东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍；前言真空镀膜行业兴起背景；随着欧盟RoHS指令的实施及各国针对环保问题纷纷立法。
传统高污染之电镀行业已不符合环保要求，必将被新兴环保工艺取代。
而真空镀膜没有废水、废气等污染，在环保上拥有绝对优势，必将兴起并普及。
1：真空镀膜技术及设备发展1. 制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生成法等。
气相生成法又可分为物理气相沉积法（简称PVD法）化学气相沉积法和放电聚合法等。
我们今天主要介绍的是物理气相沉积法。
由于这种方法基本都是处于真空环境下进行的，因此称它们为真空镀膜技术。
惰性气体等离子状态Ar+2：真空镀膜的工艺基本流程素材检检组装治具擦拭产品底涂上下料喷底涂、IR镀膜上下料镀膜（PVD)喷面漆、IR（颜色）下治具检验包装IR 烘烤不导电真空上料PVD 技术操作简易流程图片技术操作简易流程图片：塑胶件采用专用的UV 涂料，用自动涂装线喷涂，对素材进行封闭、增加基材平整性。
高纯度锡金属作为蒸发材料进行物理气相沉积镀膜，镀层金属膜层厚度为纳米级（30-50NM ）金属原子微观上不连接，从而保证不导电性能，同时具备较强的金属质感。
塑胶件采用专用的UV 涂料，用自动涂装线喷涂，对素材进行封闭、增加基材平整性。
UV 涂层膜厚，表面硬度（IR 烤箱温度、UV 紫外光固化能量、波峰值）精确控制，严格测试。
通过制程各项工程参数（如真空度、电流、电压、时间、膜材用量）的精确控制及严格的品质监测流程、设备（镀层阻抗测量、网络分析仪RF 射频测试）确保制程品质稳定。
采用自动涂装线对镀层喷涂面UV 进行有效保护，并与底层UV 有效咬合，通过涂料专业品质及制程工艺参数精确控制确保成品各项品质要求。
同时通过特殊的颜色获得技术（已申报专利）获得具金属质感的丰富多彩的各种颜色效果的制成品。
通过完善先进的测试设备，方法严格管控，实现产品过程及制程品品质，确保产品外观，电子性能（RF 、ESD 性能）耐侯性（RCA 耐磨、铅笔硬度、盐雾、冷垫冲击、耐化妆品）等行业品质标准。
让产品具备极强的市场生命力。
2.2：真空镀膜的工艺基本流程PVD 技术流程技术流程：3：真空镀膜的工艺特性1.纳米级厚度、膜厚均匀。
真空镀膜膜层厚度仅数十至数百纳米(一般≤0.2um)，膜层各部位厚度极为均匀。
例：镀铝层厚度达0.9nm时就可导电，达到30nm时性能就和固态铝材相同，银镀层小于5nm时不能导电。
各塑胶产品本身具有约0.5um的粗糙度，结合第1条因素故塑胶表面均在镀膜前喷涂UV进行封闭流平，以达到理想的镜面效果。
因镀膜层太薄，故对底涂UV材料外观要求近乎苛刻，这就要求涂装室洁净度极高。
同时产品外观面积越大，不良率就可能就越高（目前奥科生产车间洁净度为10000级，喷涂室、烤箱、镀膜车间洁净度3000级）。
镀膜厚度目前主要通过光透过率及反射率来控制，镀层越厚，透光率越差，反射率越高。
3.1：真空镀膜的工艺特性2. 镀膜产品放置具有方向性：在立式、卧式镀炉中，产品均须于镀炉工装平行平面放置。
因为金属材料随蒸气流作直线或弧线运动，而镀膜材料一般均与工装平行放置。
镀膜室空间一定, 产品平面面积越大, 曲面越深, 产能就越低, 相应生产成本就越高。
3.底涂UV后及镀膜后产品表面极其脆弱敏感,需特殊保护。
因镀膜层仅几十纳米, 对底涂UV层表面不良不具备遮蔽能力, 另镀层因太薄，镀膜层金属极其柔弱，极易刮伤、碰伤。
产品底涂UV后, 镀膜后不能进行人工全检,(用小批量试产的办法确定良品率)作业过程中, 通过治具专用手柄、戴指套、口罩及车用无尘罩等办法预防产品表面被污染、破坏。
3.2：真空镀膜的工艺特性4.镀膜材料或蒸气流入射速度极高，一般磁控溅射及蒸发镀金属原子入射速度均在2000米/秒左右。
每炉镀膜时间（金属原子累积入射沉淀时间）一般在15-20分钟左右，磁控溅射视工艺不同有所区别。
每炉产能以普通翻盖手机外壳为例约450-800PCS/炉不等，产品大小不同，每炉产能不同。
5.颜色制作途径多样化，目前有三种颜色制作途径：一、是在中涂UV或面涂UV中添加色精。
因色精会与UV紫外光起作用，故添加量一般5%左右；二、是在镀膜过程中充入气体，使气体与金属材料反应获得颜色（如Ar2+O2+铝金属可获得黑色,O2+Al获得黄色）；三、是前述两者相结合进行生产。
一般来说颜色越深、越浓、越艳；附着力会越差（加色精工艺）。
3.3：真空镀膜的工艺特性6.镀膜用金属材料范围极广，除铁金属外，各种金属及金属合金，理论上都可用作镀材。
常用的有铝、铜、锡、镍、铬等。
另因镀膜是物理过程，对产品材料本身性能几乎没有影响。
7.镀膜产品能达到的品质水准:附着力：无脱落-。
RCA耐磨：200-300次。
硬度：1H-3H ABS+PC素材一般在500g擦1H；PMMA素材则可达3H，甚至4H。
其它诸如高低温、冷热冲击、盐雾测试、紫外线测试、化妆品测试、抗人造汗测试等均可达到常规要求。
3.4：真空镀膜的工艺特性8、生产过程时间局限性：因金属镀层长时间露置在空气中会氧化发黑，不同材料氧化速度不同，其中锡镀层氧化速度最快，8H就会明显发黑，另底漆UV静置时间如过长，漆膜太厚也会影响镀膜层附着力。
故底漆UV、镀膜及面涂UV几个工序之间作业时间间隔依据实际作业经验一般限定在8-12H范围内。
9、UV涂料及涂料施工特性：镀膜用的底涂UV及面涂UV涂料相比普通塑胶喷涂UV涂料有两个明显不同之特性：1）涂料材料组成之固含量高，底漆UV最高；2）不含且不能添加普通喷涂用的惰性溶剂，须特殊调配专用溶剂。
故产品单位涂料用量及成本明显比普通塑胶喷涂高出很多，另底漆UV、面涂UV及色精对UV能量范围的要求也较普通UV苛刻，一般底漆UV要求800-1000mj/cm2面涂UV要求900-1100 mj/cm2不同颜色之色精根据实际情况调整UV灯能量。
UV生产时过滤要求也比普通塑胶UV严格，一般要求用600目左右过滤网进行过滤。
UV膜厚要求为底涂18-25um，面涂UV18-22um。
4：真空镀膜工艺对素材的适镀性及要求作为真空镀膜的塑胶素材，其最基本的性能应包括附着性能、真空放气量和耐热性外观设计等几方面的指标。
1.附着力：被镀素材应与真空镀膜材料有良好的附着结合强度，一般认为聚脂类材料和镀铝膜层的结合力最强（如PET）.衡量附着性能良好的标准是塑胶件表面自由能（表面活性指数）一般表面自由能＜33-35×10-5 N/CM 的为弱极性塑胶（如PP）常用塑胶材质中附着力高低依次为ABS →ABS+PC→PC →PVC。
真空镀层与素材之间的附着力可以通过实施底涂来加以提高，还可以通过化学材料清洗、浸泡,等离子体预处理等来提高。
2.真空放气量：某些素材中可能含易挥发小分子（包括水分、增塑剂、残留溶剂、未反应单体、增加剂等）在真空状态下将以气体形式溢出，破坏镀膜层的附着力：平整性和外观.素材在常温下放气并不明显，但在真空状态下，随温度上升，放气量增大。
不同材质素材，其放气量差异较大，如一般ABS、ABS+PC含水量多在0.5％--0.2％之间，真空状态下ABS放气主要含水分,CO和氢气，尼龙、尼龙+纤，聚乙烯醇材料等较易吸潮，水分含量更高严重干扰镀膜，目前处理此类问题的办法有二种：一种是预热烘烤处理,将水分含量控制在0.1%以下;另一种方法用底涂UV封闭。
但含量太高则不行，如增塑剂含量10％以上的增塑剂就会溢出。
4.1：真空镀膜工艺对素材的适镀性及要求3、耐热性：真空镀膜无论采用何种工艺，素材都必须面临升温考验，蒸发源的辐射热,镀膜材料的高能粒子、气化原子、分子等离子体等，在素材上的冷凝热和动能都将使素材（浅表层）迅速升温，如果素材的耐热性差，真空镀膜时将出现皱纹，甚至整体收缩，过度受热还可以导致塑料分解，镀膜起泡、剥落。
不同塑料的耐热性千差万别。
一般来说PVC材料的热稳定性较差，热变形温度较低，通常最高只能在60-70℃下使用，一般工程塑料可以在200℃以下使用，电子塑胶件不是特薄，特细件一般做真空镀膜均不会产生变形状况。
4、新项目设计开发时素材边缘处尽量设计带R角和有弧度的面,这样可以使喷涂的膜厚均匀测试性能稳定。
5.1：真空镀膜工艺关键技术与先进性产品检测中射频网络分析仪检测展示5.3：真空镀膜工艺关键技术与先进性1：真空镀膜制程无废水，废渣、废气排放，极其环保健康，完全杜绝了传统工业水电镀的六价铬、镍镉对环境的污染、对劳动者身体健康的威胁。
2：使塑料制品具备高质感，多颜色的金属效果，同时又杜绝了金属制品对通讯产品的电磁屏蔽影响，具备良好的产业发展前景。
3：通过强大的技术研发实力，使整个产品实现过程工艺简单、品质确保、效率高、成本低，具备良好的市场竞争力。
4：真空镀膜设备配置，检测设备配置处于行业领先水平。
6：真空镀膜PVD新工艺展示1:新工艺-PVD颜色渐变效果展示颜色渐变效果附简图颜色渐变效果清新自然,金属质感强。
信赖性测试稳定，盐雾测试、恒温恒湿、化妆品、紫外线、耐水煮等测试均OK.6.1：真空镀膜PVD新工艺展示2:新工艺-PVD珠光效果展示珠光效果附简图喷涂珠光效果产品耐化学性好，具有独特的光泽效果及金属效果，属于不导电特性；半透明体，反射光极强，颜色种类齐全可随意选择。
信赖性测试稳定，盐雾测试、恒温恒湿、化妆品、紫外线、耐水煮等测试均OK.6.2：真空镀膜PVD新工艺展示3:新工艺-PVD拉丝效果展示PVD拉丝效果附简图PVD拉丝效果清晰，金属质感强，可以做哑光、亮光不同颜色的效果。
信赖性测试稳定，盐雾测试、恒温恒湿、化妆品、紫外线、耐水煮等测试均OK。
6.3：真空镀膜PVD新工艺展示4:新工艺-PVD喷墨效果展示PVD喷墨效果附简图PVD喷墨效果清晰，图像质量高，色彩逼真；信赖性测试稳定，盐雾测试、恒温恒湿、化妆品、紫外线、耐水煮等测试均OK7：东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍7.1：东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍7.2：东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍东莞劲胜精密组件股份有限公司上沙车间外景东莞劲胜精密组件股份有限公司上沙车间内景及真空镀膜NCVM工艺示意图东莞劲胜精密组件股份有限公司真空镀膜（PVD)之应用领域JANUS真空镀膜之应用领域:1.手机外壳、按键、ESD按键、EMI屏蔽、塑胶外壳装饰镀膜等；2.不导电制程加工;3.电子通讯塑胶制品表面处理加工；4.数码相机、摄像机液晶窗镜片及按键；5.MP3/MD/CD机视窗镜片;6.液晶窗镜片,镜片处理及CNC加工.东莞劲胜精密组件股份有限公司真空镀膜（PVD)样品展示东莞劲胜精密组件股份有限公司真空镀膜（PVD) 比传统电镀具有的优点①产品表面附着力强;②产品导电系数稳定可控(可做不导电镀膜);③无电解,环保制程,对环境无污染;④被镀物与镀层不产生化学反应,产品可回收;⑤连续性生产产量大;⑥产品不含化学物, 符合RoHS标准要求;环保制程，不导电镀，薄膜技术，奈米科技；真空腔体，连续生产，无尘车间，质量保证；劲胜公司不导电真空离子镀膜环保不含禁止物质所有操作均符合RoHS标准要求The End ,Thanks!完编撰：张学章。