真空镀膜UV工艺流程图
NCVM生流程介
镀膜方式
镀膜原理
制程
污染
毒性强 工业污染大 有大量废水废气
生产速度较慢 产能较小
污染少 使用原材皆经过SGS认证 符合TCO-99, ECO-99
生产速度快产能大(90sec/盘) 可连续性生产
污染少 使用原材皆经过SGS认证 符合TCO-99, ECO-99
品质异常难及时管控 产能大
生产性
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五、NCVM （真空溅镀）常见问题与解决方法
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NCVM （真空溅镀）工序八：镭雕
根据客户需求，镭射切割出不同的字符。 易镭雕 字符清晰，可做到局部透光、精美。 不影响后序加工
注意事项 镭雕功率，电流，频率，镭雕速度
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NCVM （真空溅镀）工序九：印刷
可在表面印刷名种字符 需用特殊的油墨； 再喷特殊的UV面漆保护， 达到字符常久耐磨擦； 可丝印，也可移印 用3M600#胶纸完全粘附5分钟后，成90° 角快速拉起。
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NCVM （真空溅镀）工序二：烘烤
• 把清洗干净的产品放入，以设定好温度（ 50~60° C）的 烤箱内烘干， 注意烘烤时间、温度（定时检测）, 检查是否已干透，表面是否清洗干净、有 无刮伤。 • 注意事项 • 1、温度的管控 • 2、时间的管控
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NCVM （真空镀）工序三：上治具
把清洗干净的产品摆放固定在专用的夹具上； 手不可以碰到产品表面； 可用干净的无尘布擦拭表面； 按规定的数量、统一的方向、一定的间距摆放
注意事项 选用特殊油墨
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NCVM工序（真空溅镀）十：喷涂（UV coating）
用全自动喷涂机在金属层表面涂装UV coating，来保护 金属层以及增加产品硬度和保证信赖性，（一般 14~20UM）；
真空镀工艺流程
真空镀工艺流程
《真空镀工艺流程》
真空镀工艺是一种通过在真空环境中使用物理或化学方法将薄膜沉积在基材表面的工艺。
它广泛应用于电子、光学、机械、电镀和陶瓷等行业，用来提高产品表面的性能和外观。
真空镀工艺流程大致包括几个步骤：清洗、预处理、真空镀膜、后处理。
首先，基材需要进行清洗，以去除表面的油污、灰尘和其他杂质。
其次，进行预处理，通常会采用粗糙化表面，提高涂层与基材的附着力。
接下来，将基材装入真空镀膜设备中，通过加热或者离子轰击等方法使材料蒸发并沉积在基材表面，形成薄膜。
最后，进行后处理，包括退火、抛光等步骤，以提高膜的质量和稳定性。
在真空镀工艺中，常用的镀膜材料包括金属、金属氧化物、金属氮化物、金属碳化物等。
通过调节镀膜材料、温度、真空度等参数，可以控制膜的厚度、颜色、透明度、硬度等性能。
总的来说，真空镀工艺流程是一个复杂的工艺过程，需要严格的操作和控制。
但是，它可以为产品赋予优良的表面性能，满足不同行业的需求，因此受到广泛的应用和重视。
真空镀膜(ncvm)工艺培训教材PPT课件
颜色不纯
由于反应不完全或杂质污染，膜层可能呈 现出不纯或斑驳的颜色。
分析方法
X射线衍射(XRD)
能谱分析(EDS)
分析膜层的晶体结构和相组成。
附着力测试
对膜层进行元素分析，了解各元 素的分布和比例。
通过划痕、拉拔等试验测定膜层 与基材之间的附着力。
显微观察
通过金相显微镜观察膜层的微观 结构，了解其均匀性、孔隙和缺 陷。
05
真空镀膜(NCVM)问题与 解决方案
常见问题
表面粗糙度大
镀膜后的表面粗糙，影响外观和使用性能 。
膜层不均匀
镀膜过程中，由于气体流动、温度分布不 均或反应物供应问题，可能导致膜层在表 面分布不均。
附着力差
镀膜层与基材之间可能存在弱附着力，导 致镀膜容易剥落。
孔隙率过高
膜层中存在过多的孔隙，影响其防护和装 饰效果。
04
真空镀膜(NCVM)技术参 数与优化
工艺参数
真空度
真空镀膜过程中，需要控制真空室的 真空度，以确保膜层的均匀性和附着 力。
温度
镀膜过程中，基材的温度对膜层的附 着力和性能有影响，需根据不同材料 和镀膜要求进行温度控制。
镀膜时间
镀膜时间的长短直接影响膜层的厚度 和均匀性，需根据工艺要求进行精确 控制。
防护眼镜
保护操作人员的眼睛免受镀膜过程中产生的 有害物质和紫外线的伤害。
夹具
用于固定基材，确保其在镀膜过程中位置稳 定。
手套
保护操作人员的手部免受镀膜过程中产生的 有害物质和高温的伤害。
03
真空镀膜(NCVM)工艺流 程
前处理
表面清洗
使用有机溶剂和超声波清洗技术去除 工件表面的污垢、油脂和杂质，以确 保镀膜层的附着力。
真空镀膜工艺流程
真空镀膜工艺流程
《真空镀膜工艺流程》
真空镀膜是一种将金属或非金属材料沉积到基材表面的薄膜技术。
它广泛应用于光学、电子、航空航天、汽车和其他行业，以改善材料的表面性能并赋予其新的功能。
真空镀膜工艺流程通常包括以下几个步骤：
1. 基材清洗：首先要对基材进行清洁处理，去除表面的油污、灰尘和其他杂质，以确保镀膜的附着力和质量。
2. 负极电镀：接着进行负极电镀处理，将基材放置于电解槽中，通过电流将金属离子沉积到基材表面形成一层导电层，以提高镀膜的导电性。
3. 温度处理：对基材进行热处理，以使其表面温度提高，为后续的真空镀膜做好准备。
4. 真空镀膜：将处理好的基材放置于真空镀膜设备中，然后通过真空泵将内部空气抽出，形成真空环境。
接着加热目标材料（金属或非金属）使其蒸发或溅射，利用其离子沉积到基材表面形成薄膜。
同时调节沉积速率、角度和温度以控制膜层的成分和结构。
5. 停机取膜：膜层沉积完毕后，停止镀膜设备并进行取膜处理，将基材从真空室中取出，完成镀膜过程。
以上便是真空镀膜的工艺流程，通过这一系列步骤，我们可以在基材表面形成具有一定厚度、透明度和特定功能的薄膜层，从而提高材料的使用性能和附加值。
半导体真空镀膜工艺流程
半导体真空镀膜工艺流程
想当年，我刚接触这行的时候，那叫一个懵圈！啥都不懂，到处碰壁。
不过呢，慢慢也就摸出了门道。
先说这准备工作吧，就像打仗前要准备好武器一样。
咱得把设备检查好，那些个零部件，一个都不能马虎！我跟你说，有一次我就忘了检查一个小零件，结果出了大乱子，唉！
然后就是抽真空，这一步可关键啦！要是真空度不够，那后面的镀膜效果就差得远喽。
我记得好像有一次，我们抽真空的时间短了点，那膜镀得，简直没法看！
说到镀膜材料，这选择也有讲究。
不同的材料，效果可大不一样。
就像你选衣服，得选适合自己的不是？
我这说着说着好像有点乱套了，哈哈。
咱接着说，镀膜的时候得控制好温度和压力，这俩家伙要是没弄好，那可就糟糕啦！哇，我想起有一回温度没控制好，那产品出来都变形了，老板的脸拉得老长，我当时那个心啊，哇凉哇凉的！
这中间还有好多细节呢，比如说镀膜的速度，快了不行，慢了也不行。
嗯...就像做饭放盐，多了咸，少了淡。
还有啊，这操作过程中会有一些奇怪的声音，“滋滋滋”的，刚开始我还挺害怕，以为要出啥大事儿了。
对了，我给你讲个行业里的趣事儿。
有个新手，居然把镀膜材料给搞错了，结果弄出一堆废品，被老板好一顿骂，哈哈！
我现在对这流程的看法跟刚开始可大不一样喽，以前觉得难，现在嘛，觉得只要掌握了窍门，也没那么可怕。
不知道我讲的这些对你有没有用，要是有啥问题，尽管来问我！。
真空镀膜技术PPT课件
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薄膜厚度的测量
石英晶体振荡器法 广泛应用于薄膜淀积过程中厚度的实时测量，主要应
用于淀积速度，厚度的监测，还可以反过来（与电子技术 结合）控制物质蒸发或溅射的速率，从而实现对于淀积过 程的自动控制。
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四、薄膜材料
a) 增透膜
b) 反光膜
c) 分光膜
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d) 滤光膜
轰击膜料表面使动能变为热能，对其加温，使其熔化或升华。
电子枪对薄膜性能的影响 1、对膜层的影响： （1）蒸气分子的动能较大，膜层较热蒸发的更致密牢固； （2）二次电子的影响：使膜层结构粗糙，散射增加； 2、对光谱性能的影响
电子枪对光谱的影响主要是焦斑的形状、位臵、大小在成膜的影响。 特别是高精度的膜系，和大规模生产的成品率要求电子枪的焦斑要稳定。
e) 偏振膜
f) 保护膜
g) 电热膜
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镀膜工艺
主要工艺因素 （1）基板处理：包括抛光、清洁、离子轰击 （2）制备参数：包括基板温度、蒸发速率、真空度 （3）蒸汽入射角； （4）老化处理。
薄膜主要性质： （1）光学性质：包括折射率、各项异性、吸收、散射、光学 稳定性等 （2）机械性质：包括硬度、附着力、应力 （3）抗激光损伤。
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平均自由程
气体分子之间相邻两次碰撞的距离，其统计平均值为平均自 由程。 l=1/(√2πς2n)=kT /(√2πς2P）
PVD所需真空度的基本确定原则是“气体分子的平均自由程大 于蒸发源到被镀件之间的距离”。
d=25cm,P<=2.7×E-3Pa d=50cm,P<=1.3×E-3Pa d=90cm,P<=7.4×E-4Pa 可见对于大的真空室，真空度的要求更高。
最新真空镀膜工艺流程
真空镀膜工艺流程一、真空镀膜的工艺流程大致可用以下的方框图表示：二、具体说明如下：1、表面处理：通常,镀膜之前,应对基材（镀件）进行除油、除尘等预处理,以保证镀件的整洁、干燥,避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。
对于特殊材料,如PE（聚乙烯）料等,还应对其进行改性,以达到镀膜的预期效果。
2、底涂：底涂施工时,可以采用喷涂,也可采用浸涂,具体应视镀件大小、形状、结构及用户设备等具体情况及客户的质量要求而定。
采用喷涂方法,可采用SZ-97T镀膜油；采用浸涂方法,可采用SZ-97、SZ-97+1等油,具体应视镀件材料而定。
3、底涂烘干：SZ-97镀膜油系列均为自干型漆，烘干的目的是为了提高生产效率。
通常烘干的温度为60-70oC,时间约2小时。
烘干完成的要求是漆膜完全干燥。
4、镀膜：镀膜时,应保证镀膜机的真空度达到要求后,再加热钨丝,并严格控制加热时间。
同时,应掌握好镀膜用金属（如铝线)的量,太少可能导致金属膜遮盖不住底材,太多则除了浪费外,还会影响钨丝寿命和镀膜质量。
5、面涂：通常面涂的目的有以下两个方面：A、提高镀件的耐水性、耐腐蚀性、耐磨耗性；B、为水染着色提供可能。
SZ-97油系列产品均可用于面涂，若镀件不需着色,视客户要求,可选用911、911-1哑光油、889透明油、910哑光油等面油涂装。
6、面涂烘干：通常面涂层较底涂层薄,故烘干温度较低,约50-60oC,时间约1~2小时,用户可根据实际情况灵活把握，最终应保证面涂层彻底干燥。
如果镀件不需着色,则工序进行到此已经结束。
7、水染着色：如果镀件需要进行水染着色,则可将面漆已经烘干的镀件放进染缸里,染上所需颜色,之后冲洗晾干即可。
染色时要注意控制水的温度,通常在60~80oC左右,同时应控制好水染的时间。
水染着色的缺点是容易褪色,但成本较低。
8、油染着色：若镀件需进行油染着色,则镀膜后视客户要求,直接用SZ-哑光色油、SZ-透明色油浸涂或喷涂,干燥后即可。
真空镀膜操作流程
真空镀膜操作流程一、准备工作在进行真空镀膜操作之前，首先需要进行一系列的准备工作。
包括准备好需要被镀膜的基材，清洁基材表面，确保表面没有杂质和污垢。
同时，还需要准备好镀膜材料，根据不同的需求选择合适的镀膜材料。
二、装载基材将准备好的基材装载到真空镀膜设备中。
装载时要注意避免基材的表面受到损伤或污染。
装载后，需要将设备密封好，确保设备内部形成一个相对封闭的空间。
三、抽真空在装载好基材后，需要对设备进行抽真空操作。
抽真空的目的是将设备内部的气体抽除，创造一个真空环境。
抽真空的过程中，需要逐渐降低设备内的压力，直到达到所需的真空度。
抽真空时要注意控制抽气速度和抽气量，以免对基材造成不良影响。
四、加热处理在达到所需真空度后，需要对装载的基材进行加热处理。
加热的目的是提高基材的温度，使其在镀膜过程中更容易与镀膜材料反应。
加热的温度和时间要根据具体的镀膜材料和要求进行调整。
五、镀膜在基材加热到适当温度后，可以开始进行镀膜操作。
镀膜主要是将镀膜材料蒸发并沉积在基材表面。
镀膜材料通常放置在镀膜源中，通过加热或其他方式使其蒸发。
蒸发的镀膜材料会在真空中扩散，并最终沉积在基材表面上。
镀膜的厚度可以根据需要进行调整，通过控制镀膜材料的蒸发时间和速度来实现。
六、冷却与卸载在完成镀膜后，需要对基材进行冷却处理。
冷却的目的是使镀膜材料固化，并增强附着力。
冷却的时间和方式可以根据具体的镀膜材料和要求进行调整。
冷却完成后，可以将镀膜好的基材从设备中取出，并进行后续的处理和检测。
七、清洁与维护在完成真空镀膜操作后，需要对设备进行清洁和维护工作。
清洁设备的目的是去除设备内的残留杂质和污垢，保持设备的工作效率和稳定性。
维护设备的目的是修复和更换设备中的损坏部件，确保设备的正常运行。
总结：真空镀膜操作流程包括准备工作、装载基材、抽真空、加热处理、镀膜、冷却与卸载、清洁与维护等步骤。
每一步骤都需要仔细操作，确保镀膜的质量和效果。
通过正确的操作流程，可以实现对基材表面的镀膜，提高其光学、电学、机械等性能，满足不同领域的需求。
真空电镀工艺
真空电镀工艺根据真空电镀气相金属产生和沉积的方式，塑料真空电镀的方法主要分为热蒸发镀膜法（Thermal Evaporation Deposition ）和磁控溅射镀膜法（Sputtering ）两种工艺。
图1为这两种基本工艺的示意图。
（a）蒸发镀 （b ）溅射镀真空蒸发镀膜法就是在1.3×10-2~1.3×10-3Pa(10-4~10-5Torr)的真空中以电阻加热镀膜材料，使它在极短的时间内蒸发，蒸发了的镀膜材料分子沉积在基材表冇上形成镀膜层。
真空镀膜室是使镀膜材料蒸发的蒸发源，还有支承基材的工作架或卷绕装置都是真空蒸发镀膜设备的主要部分。
镀膜室的真空度，镀膜材料的蒸发熟练地，蒸发距离和蒸发源的间距，以及基材表面状态和温度都是影响镀膜质量的因素。
磁控溅射法又称高速低温溅射法。
目前磁控溅射法已在电学膜，光学膜和塑料金属化等领域得到广泛的应用。
磁控溅射法是在1.3×10-1Pa(10-3Torr)左右的真空中充入惰性气体，并在塑料基材（阳极）和金属靶材（阴极）之间加上高压真流电，由于辉光放电产生的电子激发惰性气体，产生等离子体。
等离子体将金属靶材的原子轰出，沉积在塑料基材上。
磁控溅射法与蒸发法相比，具有镀膜层与基材层的结合力强，镀膜层致密，均匀等优点。
真空蒸发镀膜法需要使金属或金属化合物蒸发气化，而加热温度又不能太高，否则气相蒸镀金属会烧坏被塑料基材，因此，真空蒸镀法一般仅适用于铝等熔点较低的金属源，是目前应用较为广泛的真空镀膜工艺。
相反，喷溅镀膜法利用高压电场激发产生等离子体镀膜物质，适用于几乎所有高熔点金属，合金及金属化合物镀膜源物质，如铬，钼，钨，钛，银，金等。
而且它是一种强制性的沉积过程，采用该法获得的镀膜层与基材附着力远高于真空蒸发镀法，镀膜层具有致密，均匀等优点，加工成本也相对较高。
目前在塑料包装薄膜真空镀铝加工上普遍采用蒸发镀膜工艺。
真空蒸发镀膜法和磁控喷溅镀膜法的工艺，性能特点比较列于下表。
真空电镀及工艺流程
真空电镀及工艺流程真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。
常用的金属是铝等低熔点金属.加热金属的方法：有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。
在对塑料制品实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，必须对蒸镀时间进行调整.此外，熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。
置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。
在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等),从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。
通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低（10-5Pa ).镀层厚度0.04-0。
1um，太薄，反射率低；太厚，附着力差,易脱落。
厚度0.04时反射率为90％，真空离子镀,又称真空镀膜.真空电镀的做法现在是一种比较流行的做法，做出来的产品金属感强，亮度高．而相对其他的镀膜法来说，成本较低，对环境的污染小，现在为各行业广泛采用．真空电镀适用范围较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品。
同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水电镀昂贵。
现对其工艺流程作简要介绍：产品表面清洁-—>去静电-—〉喷底漆—-〉烘烤底漆—-〉真空镀膜——>喷面漆—->烘烤面漆——〉包装.一般真空电镀的做法是在素材上先喷一层底漆，再做电镀．由于素材是塑料件，在注塑时会残留空气泡，有机气体,而在放置时会吸入空气中的水分．另外，由于塑料表面不够平整，直接电镀的工件表面不光滑,光泽低，金属感差，并且会出现气泡,水泡等不良状况．喷上一层底漆以后，会形成一个光滑平整的表面，并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生，使得电镀的效果得以展现．真空电镀可分为一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊.工艺有蒸镀、溅镀、枪色等。
真空镀膜(PVD)工艺介绍
编撰：张学章真空镀膜(PVD)工艺介绍真空镀膜(PVD)工艺知识介绍2010年01月20日拟订:张玉立讲解:刘红彪目录1. 真空镀膜技术及设备发展;2. 真空镀膜的工艺基本流程;3.真空镀膜的工艺特性;4.真空镀膜工艺对素材的适镀性及要求;5.真空镀膜工艺关键技术与先进性;6.真空镀膜新工艺展示;7.东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍；前言真空镀膜行业兴起背景；随着欧盟RoHS指令的实施及各国针对环保问题纷纷立法。
传统高污染之电镀行业已不符合环保要求，必将被新兴环保工艺取代。
而真空镀膜没有废水、废气等污染，在环保上拥有绝对优势，必将兴起并普及。
1：真空镀膜技术及设备发展1. 制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生成法等。
气相生成法又可分为物理气相沉积法（简称PVD法）化学气相沉积法和放电聚合法等。
我们今天主要介绍的是物理气相沉积法。
由于这种方法基本都是处于真空环境下进行的，因此称它们为真空镀膜技术。
惰性气体等离子状态Ar+2：真空镀膜的工艺基本流程素材检检组装治具擦拭产品底涂上下料喷底涂、IR镀膜上下料镀膜（PVD)喷面漆、IR（颜色）下治具检验包装IR 烘烤不导电真空上料PVD 技术操作简易流程图片技术操作简易流程图片：塑胶件采用专用的UV 涂料，用自动涂装线喷涂，对素材进行封闭、增加基材平整性。
高纯度锡金属作为蒸发材料进行物理气相沉积镀膜，镀层金属膜层厚度为纳米级（30-50NM ）金属原子微观上不连接，从而保证不导电性能，同时具备较强的金属质感。
塑胶件采用专用的UV 涂料，用自动涂装线喷涂，对素材进行封闭、增加基材平整性。
UV 涂层膜厚，表面硬度（IR 烤箱温度、UV 紫外光固化能量、波峰值）精确控制，严格测试。
通过制程各项工程参数（如真空度、电流、电压、时间、膜材用量）的精确控制及严格的品质监测流程、设备（镀层阻抗测量、网络分析仪RF 射频测试）确保制程品质稳定。
真空镀膜流程
真空镀膜流程主要包括以下步骤：
镀前准备：对基材（镀件）进行除油、除尘等预处理，以保证镀件的整洁、干燥，避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。
此外，还要对蒸发源、真空室镀件夹具进行清洗，并安装蒸发源、装镀件。
抽真空：当真空室内的真空度达到镀膜要求，即1.5×103Pa以下时，可以开始镀膜。
镀膜：开启蒸发源电源，点亮电子枪，使电子枪预热约5分钟左右。
膜料一般需要有一个预熔过程，当电子枪的温度达到镀膜要求时，电子枪发出的电子束聚焦到膜料表面，这时电子束扫过膜料表面，以去除膜料中含有的气体。
预熔过程完成后，蒸发源上方挡板开启，膜料被蒸发产生的蒸汽不断沉积到基片上。
镀膜过程中需要时刻观察监控系统中膜料的沉积速率，当沉积速率发生较大范围的波动时，需关闭蒸发源电源，检查电子枪。
镀膜结束：当薄膜的厚度达到预定厚度时，关闭蒸发源电源，停止镀膜。
真空室温度自然冷却20分钟后，关闭分子泵，当分子泵转速为零时，关闭机械泵。
取样品：打开真空室充气阀，使真空室中充满空气，当真空室气压与外界气压相等时，打开真空室门，取出放置在基片架上的基片。
以上步骤完成后，真空镀膜流程就结束了。
在实际操作中，需要根据具体的镀膜材料和设备进行调整和优化，以获得最佳的镀膜效果。
真空镀膜的工艺流程
真空镀膜的工艺流程真空镀膜是一种常用的表面处理技术，通过在真空环境中将薄膜材料蒸发或溅射到基材表面，形成一层薄膜来改变基材的性能和外观。
真空镀膜广泛应用于光学、电子、建筑、汽车等领域，是一种重要的表面处理工艺。
下面将介绍真空镀膜的工艺流程。
1. 基材清洗首先，需要对基材进行清洗，以去除表面的油污、灰尘和其他杂质。
清洗方法通常包括超声波清洗、酸碱清洗和溶剂清洗等，确保基材表面干净无杂质。
2. 负载基材清洗后的基材需要被负载到真空镀膜设备的镀膜室内。
在负载过程中，要确保基材表面不再受到任何污染或损坏。
3. 真空抽气当基材负载到镀膜室内后，需要对镀膜室进行真空抽气。
通过真空泵将镀膜室内的空气抽出，直到达到所需的真空度。
通常真空度要求在10^-3Pa以下。
4. 底层镀膜在达到所需真空度后，首先进行底层镀膜。
底层薄膜通常是一种与基材有良好结合性的金属薄膜，用于增强基材与上层薄膜的结合力。
5. 主层镀膜完成底层镀膜后，进行主层镀膜。
主层薄膜的材料和厚度根据具体的应用需求而定，可以是金属、氧化物、氮化物等材料。
6. 辅助处理在主层镀膜完成后，有时需要对薄膜进行一些辅助处理，如退火、离子轰击等，以提高薄膜的致密性和光学性能。
7. 脱真空当所有的镀膜工艺完成后，需要将镀膜室内的真空释放，将基材取出。
通常在一定的气氛下，如氮气或氧气气氛中进行。
8. 检测与包装最后，对镀膜后的基材进行检测，包括膜厚、透过率、反射率等性能指标的检测。
合格后进行包装，以防止薄膜受到二次污染或损坏。
以上就是真空镀膜的工艺流程。
通过这些步骤，可以在基材表面形成一层薄膜，改变其性能和外观，满足不同领域的需求。
真空镀膜技术在现代工业中具有重要的应用价值，随着材料科学和工艺技术的不断发展，相信真空镀膜技术会有更广阔的发展前景。
真空镀膜技术工艺流程
真空镀膜技术工艺流程
《真空镀膜技术工艺流程》
真空镀膜技术是一种通过在真空环境中将材料蒸发或溅射到基材表面形成一层薄膜的技术。
它广泛应用于光学、电子、建筑、汽车等领域。
下面将介绍真空镀膜技术的工艺流程。
1. 基材准备
首先需要准备好要镀膜的基材，基材的表面应该干净、光滑且无杂质。
同时还需要对基材进行清洗和预处理，以确保薄膜与基材的结合力和表面光洁度。
2. 真空室准备
将经过准备的基材放入真空室中，并确保真空室的密封性和真空度。
真空室的准备是保证薄膜质量的重要环节。
3. 材料蒸发或溅射
选择合适的镀膜材料，将其加热至一定温度后蒸发或溅射到基材的表面上。
蒸发或溅射的过程需要严格控制温度和时间，以保证薄膜的均匀性和厚度。
4. 薄膜沉积
当材料蒸发或溅射到基材表面后，形成一层薄膜。
薄膜的沉积是一个动态过程，需要在控制条件下进行。
5. 涂层调节
根据不同的需求，可以对薄膜进行涂层调节。
这一步是为了改
变薄膜的光学、机械或化学性能。
6. 真空室排气
薄膜镀制完成后，需要进行真空室排气，将真空室内的气体抽出，以便取出镀好的基材。
通过以上工艺流程，真空镀膜技术可以生产出各种不同功能的薄膜，满足不同领域的需求。
同时，严格控制每个环节，确保了薄膜的质量。
真空电镀工艺流程
真空电镀工艺流程真空电镀是一种先进的表面处理技术，常用于给金属、塑料和玻璃等材料进行镀膜的工艺。
其主要原理是在真空条件下将金属蒸汽沉积在工件表面，形成一层均匀、致密的金属膜，以达到装饰或增强功能的目的。
下面将介绍一种常见的真空电镀工艺流程。
首先，准备工件。
根据需要进行镀膜的材料和形状，选择相应的工件并进行表面处理。
常见的表面处理方法包括去油、除锈、抛光等，以保证工件表面光洁、无杂质。
接下来，进行固化。
将经过表面处理的工件放入真空烘箱中，在一定温度下进行固化，使工件表面的物理和化学性能达到最佳状态。
固化过程中需要控制好时间和温度，以避免工件变形等问题的发生。
然后，进行预处理。
将经过固化的工件放入真空清洗机中，使用酸性或碱性清洗剂进行清洗，以去除表面的氧化物和其他污染物。
清洗过程中需要控制好清洗剂的种类和浓度，以保证彻底清洁工件表面。
接下来，进行真空镀膜。
将清洗干净的工件放置在真空腔室中，通过加入所需的镀层材料，如金属或合金，提高腔室的真空度，然后加热源进行加热，使镀层材料蒸发。
蒸发的镀层材料会沉积在工件表面上，形成均匀致密的金属膜。
镀膜过程中需要控制好温度、真空度和蒸发速度等参数，以保证镀层质量。
最后，进行后处理。
将完成镀膜的工件取出，进行检验和包装。
检验过程主要是检查镀层的外观和性能，如颜色、硬度、附着力等。
如果需要，还可以对镀层进行抛光或其他处理，以提高镀层的质量和外观效果。
最后，将工件进行包装，以防止镀层在运输和使用过程中受到损坏。
总结起来，真空电镀工艺流程包括准备工件、固化、预处理、真空镀膜和后处理等步骤。
每一步都需要严格控制工艺参数，以保证镀层的质量和性能。
同时，还需要根据不同的应用需求和工件特性，进行工艺调整和优化，以满足不同需求的镀膜要求。
真空电镀工艺是一种技术含量较高的表面处理技术，可广泛应用于汽车、电子、航空航天等领域，为产品赋予更好的装饰和功能性。
吉林真空镀膜微纳加工工艺
吉林真空镀膜微纳加工工艺一、前言吉林真空镀膜微纳加工工艺是一种先进的技术，它可以制造出高质量和高精度的微纳器件。
本文将详细介绍这种工艺的具体步骤和要点。
二、工艺流程1.基板清洗处理首先，将待加工的基板进行清洗处理，以去除表面的杂质和污垢。
清洗过程中需要注意使用合适的溶液和温度，以保证清洗效果。
2.金属蒸发接下来，将待加工的基板放入真空室中，并加热至一定温度。
然后，在真空室中蒸发金属材料，使其在基板表面形成一层薄膜。
3.光刻图案制作在金属蒸发完成后，需要使用光刻技术在薄膜上制作出所需的图案。
光刻过程中需要使用光阻液，并根据设计要求进行曝光、显影等操作。
4.化学腐蚀加工接下来，对经过光刻处理后的基板进行化学腐蚀加工。
这个步骤可以去除不需要的金属材料，从而形成所需的微纳结构。
5.金属沉积在化学腐蚀加工完成后，需要对基板进行再次金属沉积。
这个步骤可以填充化学腐蚀过程中形成的空洞，从而得到更加完整和稳定的微纳结构。
6.后处理最后，对加工完成的基板进行后处理。
这个步骤包括去除光刻涂层、清洗、干燥等操作。
经过后处理后，得到的微纳器件就可以使用了。
三、要点说明1.真空度控制在吉林真空镀膜微纳加工过程中，需要注意控制真空度。
如果真空度不够高，会影响金属材料的蒸发和沉积效果。
因此，在加工过程中需要使用合适的真空泵和控制设备，并根据实际情况进行调整。
2.金属材料选择在吉林真空镀膜微纳加工过程中，需要选择合适的金属材料。
不同的材料有着不同的物理特性和化学性质，在加工过程中会产生不同的影响。
因此，在选择金属材料时需要根据实际情况进行考虑。
3.光刻技术光刻技术是吉林真空镀膜微纳加工中非常重要的一个环节。
在光刻过程中，需要使用合适的光阻液和曝光设备，并根据实际情况进行调整。
同时，在显影等操作中也需要注意控制时间和温度，以保证加工效果。
4.化学腐蚀加工化学腐蚀加工是吉林真空镀膜微纳加工中另外一个重要的环节。
在化学腐蚀过程中，需要选择合适的溶液和温度，并根据实际情况进行调整。
真空电镀的生产工艺设计
真空电镀的生产工艺一﹑真空电镀的概念真空电镀即真空蒸发镀膜﹐其原理是在高度真空条件下（1.3×10-2~1.3×10-1Pa）使金属铝片受热蒸发并附于（塑料）工件表面﹐形成一层金属膜的方法﹒真空电镀的特点:1>真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um),能够严格复制出啤件表面的形状2>工作电压不是很高（200V）﹐操作方便﹐但设备较昂贵﹒3>蒸镀锅瓶容积小﹐电镀件出数少﹐生产效率较低﹒4>只限于比钨丝熔点低的金属（如铝﹑银﹑铜﹑金等）镀饰﹒5>对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷﹒6>真空镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等﹒重要工序工艺说明1)待镀啤件:真空电镀对啤件要求特别高,如:a)要求啤件表面清洁,无油渍﹑污渍.b)要求啤件表面粗糙度尽可能低.c)啤件内应力要尽可能低﹐内外转角要倒圆角﹒啤塑时要用较低的注射压力﹐较高的模温﹑料温﹐以及尽可能慢的注射速度﹒d)啤件外型应利于获得均匀的镀层﹐如较大平面中间要微突起（突起度约0.1~0.15mm/cm）e)啤件壁厚要适当﹐太薄的件易变形使镀层附着力不好﹐太厚的件易缩水使外观受影响﹒一般来讲﹐薄壁不宜小于0.9mm﹐厚壁不宜超过3.8mm﹒f)注塑缺陷如缩水﹑夹水纹﹑气纹﹑气泡等均会影响电镀外观质量﹐必须严格控制其程度﹐为此要求注塑时采用﹕i> 充分的原料烘干ii> 不使用脱模剂（尤其是硅烷类）iii> 适当的注塑模温﹐较高料温iv> 尽可能少加入或不加入水口料(减低材料中挥发物含量)g)若啤件有台阶或凹位﹐应预先设计必要的斜度过渡﹒h)如有盲孔﹐应设计孔深不超过孔径一半﹐否则对孔底镀层应不作要求.i)如有“V”形槽﹐要求其宽度与深度比应大于3﹒2)脱脂脱脂作用﹕清除啤件表面尘垢﹑油污﹐保证镀膜有足够的附着力﹒脱脂剂﹕现时生产中使用的是有机溶剂脱脂﹐有机溶剂的选择原则是不伤害塑件表面而能迅速挥发为佳﹐所以因塑料品种而异﹐以下情况提供塑料i> TH104 天那水（恒星有限公司）ii> #617 天那水（大昌化工油漆厂）使用时注意﹕ABS﹑PC塑料件只用#617清洗（TH104会烧坏胶件）﹐而NYLON ﹑PP料胶件先用TH104﹑再用#617洗净﹒实际上脱脂方法除用有机溶剂外﹐还有酸性除油﹑碱性除油等﹐下列为酸性脱油过程（供参考）稀硫酸/铬酸清洗液水洗酒精/乙醚混和液40℃﹐10~20min常溫干燥3) 上底油 & 烘干固化从构成上看,真空镀膜层由底层(底油)+镀层(镀膜)+表面(面油)构成.底油的作用: 用以掩盖或弥补产品表面可能存在的微小缺陷如针孔､麻点､刮痕等,为真空电镀提供平整､光滑的基面,同时亦提高膜层附着力(这对于结晶性弱､极性对膜层附着力差的塑料如PE､PP尤为重要).最后还有一个作用是减少或抑制含易挥发物塑料的表面放气量,使蒸镀质量有保证.底油要求: 底油涂料应与塑料粘结性好,与镀膜层不发生化学反应及与塑件有相近的软化温度.底油的使用: 底油其实为树脂漆,多见为改性聚脂漆或改性聚氨脂漆做底料﹒本厂所用底油皆由香港采购供应,其牌号及使用情况如下表:a).上底油操作过程中始终保持啤件清洁,上油均匀到位,不聚油,防刮花.b).车间环境要保持干燥､防尘､防潮.c).配油按工艺要求,油要过滤,保持干净.4).蒸发镀膜a).在发热钨丝上缠上铝片.(如上次电镀中熔铝呈球状包覆于钨丝上己不可用,需拆出换过钨丝);b).将上好笼架的啤件(通过小车)推入真空室内,保持电极紧密接触,嵌入离合器定位牢固应能旋转;c).顺序用机械泵,罗茨泵及扩散泵抽气,当真空度指针达到5×10-4TORR时可开始蒸镀操作;d).蒸镀过程:钨丝升温到650℃,铝熔融在钨丝上,继续升高到近1000℃,熔化铝被蒸发逸出,逸出的铝原子以直线运动凝结在它相碰的表面上,真空室内被镀制品不断在旋转 (跟笼架)使被镀表面镀上均匀膜层;e).平均镀膜生产周期约30分钟左右;f).设备的详细操作使用参见附页数据.5).上架 & 落架(一) 上架操作要点:a).上架前先检查底油上油质量,不合格的需用#617天那水清洗再重新上油;b).夹持要稳固,保证啤件在真空室内旋转时不会掉落甩出;c).啤件的装挂位在电镀后会留痕迹,另外夹持力过大啤件可能变形,故可保留水口/浇道作为装挂位,在电镀后再其除去;d).上架过程中不得触摸啤件要电镀的有效位置,以免留下指印污痕影响电镀效果;e).笼架保持清洁,要定期洗擦.(二) 落架操作要点:a).小心取下,不要刮花;b).摆放整齐,隔层用干净纸垫好;c).胶盆要盖好,防灰尘.6).上面油 & 烘干固化面油作用:在镀膜上加一层涂料保护(透明)膜以消除针孔使镀层加固,提高镀层的耐磨性和接触性,另外一个作用是使染色工序成为可能.操作注意:上面油要特别注意上油均匀到位且不聚油,一般需用海绵类物渗吸去表面多余面油.本厂所用的面油牌号为MB-063X(由香港采购供应),适用于PC,PP,ABS,NYLON等,使用时用#617开稀,比例1:15-1:2. (上架)烘干/固化条件:温度60-65℃,时间30min.7).染色 & 烘干染金色---使镀膜外观呈珼镀金色的效果a> 配染色液:一般用300份水配1份色粉. (色粉供货商:华松化学工业有限公司) ;b> 保持染色液70℃恒温,通入气流搅动令染色液均匀无沉淀;c> 染色时间:3 ~ 12s,之后用清水清洗两次;d> 出现色差时,从温度､时间及染色比例来调整;e> 染色件外观要求:色对签办且色泽均一,无起点,不脱模光泽好,无刮花.烘干:温度70℃,时间30 ~ 40min.8).剪水口&电镀成品剪水口:电镀零件从整啤件上剪下,分装入袋或排盆.工序注意事项:a).剪水口过程中应戴手套操作,避免在镀件上留下指痕污渍;b).水口披锋要剪平,清洗干净;c).防止零件擦花,外观要求高的的镀件分开排放好,并要铺上干净的纸隔开,一般细件直接装胶袋即可.9).补充-----翻洗电镀件非啤件本身问题而是由于上油,蒸镀,染色工艺过程问题所导致次品如污槽,刮花,颜色偏差等,足可以用热的烧碱水溶液洗去饰层.工艺过程:a). 将烧碱(NaOH)加入水中(比例约1:20)制成过饱和溶液,电热煮沸;b). 将要翻洗件置于其中约30分钟,自行脱去镀层油层;c). 取出后过清水清洗,再进行脱脂后一系列工序.本厂所用烧碱(苛性钠)为中国天津制造:CAUSTIC SODA (FLAKE) PURITY 96% MIN.电镀成品常见问题及改善方法真空电镀机操作指令一. 准备工作:1. 保持真空室内清洁,干燥,必要时应作清洁处理.2. 确认抽气系统,机组转向,清洁,油量符合说明书规定﹒3. 接通全部冷却水.4. 关闭全部阀门(如预热扩散泵﹐则前级阀不关闭).5. 接通气源.二. 蒸镀工作准备:1. 在龙架上装好蒸发塑料件.2. 将龙架由小车推入真空室,使电极紧密吻合,嵌入离合器定位牢固应能旋.3. 关紧大门及放气阀.三. 抽气-抽气系统机组的工作:1. 提前1小时将扩散泵加热,此时用机械泵工作,下级阀打开.2. 机械泵抽气:达到加热温度,先关下闭阀门(加热不停止)打开上阀,对真空容器粗抽.3. 罗茨泵抽气:当真空度到达730mmHG(即负压730mmHG)后方可启动罗茨泵,注意不得任意提前启动罗茨泵,以免过载造成损坏,罗茨泵工作后应观察热偶计真空规来了解真空度﹒4. 扩散泵抽气﹕当真空所指真空度到达2°t时,先打开下阀,当真空所指真空度到达3°t时,打开主阀关上阀,使扩散泵对真空室抽气.5. 当指针到达7×10-2pa或以上数据可进行蒸镀工作,若继续抽气时,真空度将不断升高.四. 蒸镀当真空室己达到所需真空度后,可进行蒸镀操作.蒸发电流之最大值只允许在不超过30秒的时间内使用.五﹒停机在完成本工作日最后一次蒸镀后,应按下述步骤停机.1.关紧大门,使容器在高真空下关闭SG-3真空计.2.关气动高真空阀,关预抽上阀,关罗茨泵,关机散泵加热﹒3.在扩散泵停止加热1小时后关下阀及关机械泵.4.关冷却水及气压.5.关总电源.。
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文件 编号: 20160616001
真空镀膜UV工艺流程图
版本: A0 制表人: 曹海军 审核人: 熊水明 过程名称 /操作描述 原料进料 IQC检查 原料贮存 运输 拆包装取出素材 检查外观质量 除油 上夹具 底涂上下料 喷底涂 流平/烘烤 拔半成品 半成品插筒 抬上真空镀机 抽真空 真空镀膜(PVD）法 冷却/下筒/除尘 UV面漆上下料 紫外线烘烤 UV固化 入库 成品下线 镀膜前准备 目视 目视 过程 材料进料
入库 出货通知单 点数量装卡板 QA验货 缠卡板 装车 产品出库
料号/品名/数量/箱数/标签核对无误,装相 单和发票装胶袋贴于最后一个卡板上
目视
清点数量并签托运单Βιβλιοθήκη 22成品检验/包装
目视
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QA验货
目视/卡尺/膜厚 按AQL正常抽检及测试(抽检样品为 测试仪/3M600胶 0.5%)◆ 纸/恒温恒湿仪 产品包装箱不允许损坏或压变形,堆码高 3℃ 温度计/湿度计 度低于1.5M(单卡板),仓储温度:25± 仓储湿度:20%～85 % 出货 目视
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产品特性
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目视
镀膜
表面要完好并光亮
目视 目视 目视 目视 目视、温度计 目视 目视 目视
目视/真空镀机 真空度1.33*10-3Pa 目视 目视 目视 电脑自动真空机 戴手套 面漆上下料
目视、温度计 温度90℃ 目视、温度计 室温冷却30min 目视 次品率高于7%时,或发现起泡问题,要立 即上报并得到改善措施及行动,以保证生 产顺利进行,.◆ 产品包装箱不允许损坏或压变形,包装箱 不允许倒放或侧放，料号/品名/数量写正 确，包装方法及标签不允许出错
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