TEM实验课件
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TEM ppt
二次衍射的基本条件是：
g1 + g 2 = g 3
即：
000 111
h1k1l1 + h2 k2l2 = h3k3l3
金刚石结构中，002 是禁止衍射，因二 次衍射使 002 衍射斑点通常出现。
24
六角密堆晶系中由二次衍射产生的附加斑点
01 2 01 1 01 0 01 1 01 2
00 2 00 1 00 0 00 2
排的电子衍射，有可能对应晶 体的单胞参数
*
旋转角的确定 在电镜中使 用双倾台，旋转角由两个方向 倾转角合成得到
β 2 − β1 cosθ = cos ∆α cos ∆β + 2 sin α1 sin α 2 sin ( ) 2
2
其中
∆α = α 2 − α 1
∆β = β 2 − β 1
近似处理为：
11
B
φ
2
O
A
3
4
d值比较法运用实例：a-Fe电子衍射谱标定
1 选择 A 和 B，测量 r1≈9.9mm， r2≈17.2mm，φ ≈74o 2 计算 d 值，Lλ = 20.08mmA， 与α−Fe JCPDF卡数据比较，找出 {hkl}1 和{hkl}2
r1
A
r2
φ
B
r1 d计 d卡 {hkl} 2.028A 2.027A {110}1
cos θ ≈ cos ∆α cos ∆β
20
α、β分别为双倾台记录的试样倾转角
一个新的Bi基超导相的结构确定
在Bi系氧化物超导体的研究中，发现一个新的物 相。经EDS成分分析，该物相为 Bi4(SrLa)8Cu5O7)。下面是在电 镜中绕C*轴倾转晶体获得的一套电子衍射图谱，其倾转角分别标在 每张衍射谱左下端。
透射电镜(TEM)讲义
05
TEM操作与注意事项
操作步骤与技巧
01
02
03
04
准备样品
选择适当的样品，进行适当的 处理和固定，以确保观察效果 最佳。
调整仪器参数
根据观察需求，调整透射电镜 的加速电压、放大倍数等参数 ，以达到最佳观察效果。
操作步骤
按照仪器操作手册的步骤进行 操作，包括安装样品、调整焦 距、观察记录等。
技巧
定量分析方法
颗粒统计
对图像中颗粒的数量、大 小和分布进行统计，计算 颗粒的平均尺寸和粒度分 布。
电子衍射分析
利用电子衍射技术分析晶 体结构和相组成，确定晶 格常数和晶面间距。
能谱分析
通过能谱仪测定图像中各 点的元素组成和相对含量， 进行定性和定量分析。
04
TEM图像解析实例
晶体结构分析
利用高分辨的TEM图像，可以观察到晶体内部的原 子排列和晶体结构，如面心立方、体心立方或六方 密排结构等。
掌握操作技巧，如正确使用操 作杆、合理利用观察窗口等， 以提高观察效果和效率。
仪器维护与保养
定期清洁
定期对透射电镜进行清 洁，保持仪器内部和外
部的清洁度。
检查部件
更换消耗品
定期检查透射电镜的部 件，如电子枪、镜筒等，
确保其正常工作。
根据需要，及时更换透射 电镜的消耗品，如真空泵
油、电子枪灯丝等。
保养计划
在操作透射电镜时，应严格遵守操作规程， 确保仪器和人身安全。
THANK YOU
感谢聆听
80%
观察模式
根据观察目的选择不同的观察模 式，如明场、暗场、相位对比和 微分干涉等。
图像解析与解读
01
02
03
《TEM操作培训》课件
04 TEM操作注意事项
CHAPTER
安全注意事项
确保操作区域安全
01
在操作TEM（透射电子显微镜）时，应确保操作区域没有障碍
物，避免人员和物品与设备发生碰撞。
遵守安全操作规程
02
在进行TEM操作前，应仔细阅读并遵守设备的安全操作规程，
确保正确使用设备。
避免高电压和高电流
03
在操作过程中，应避免高电压和高电流对人员和设备造成伤害
数据存储与备份
及时存储数据
在观察和记录TEM图像时，应及时将数据存储在稳定的存储介 质上，如硬盘或云端存储。
定期备份数据
为防止数据丢失，应定期备份存储的数据，并确保备份数据的可 读性和可用性。
加密存储和备份数据
为了保护数据的机密性和完整性，应对存储和备份的数据进行加 密处理，以确保数据的安全性。
05 实践操作与案例分析
，特别是在调节电压和电流时。
设备维护与保养
定期检查设备状态
在使用TEM后，应定期检查设备 的状态，包括电子显微镜的镜头
、真空系统和照明系统等。
清洁设备表面
应定期清洁设备的表面，保持设备 的清洁度，避免灰尘和污垢对设备 造成损害。
定期更换消耗品
在操作过程中，某些部件会逐渐磨 损或消耗，如灯丝和真空过滤器等 ，应定期更换以确保设备的正常运 行。
样品制备方法
总结词
样品的制备是TEM操作中的关键步骤，直接影响观察结果的准确性和可靠性。
详细描述
样品制备是TEM操作中的重要环节，需要采用一系列精细的制样技术。这包括将样品切成薄片、进行 减薄处理、以及在特定环境中进行保护和固定等步骤。制备良好的样品能够提供更清晰、更准确的观 察结果，并有助于提高实验的可重复性。
TEM制样PPT-2
二截面样品制备
1.选样品
2.样品的清洗处理
3.对粘样品
１.选样品
低倍立体显微镜下选样品，表面平坦，没有损伤，不选样品的边缘。
用线锯或解理刀把样品切成小块，样品的对角线不超过3mm即
可。
２.清洁处理
无水乙醇------丙酮------两次超声清洗，每次2至3分钟。
３.对粘样品
清洗后的样品从丙酮里捞出来，自然干燥后，在样品的生长表面里涂上少量胶（M-
Bond610），将两块样品的生长面，面对面粘在一起，快速放入夹具中加压，固定，在130℃左右的加热炉上固化两小时以上，冷却后取出，用线切割机切成薄片，进一步机械减薄。
（按平面样品制备方法）
截面样品制备工艺图
线锯、片锯
切
切
线锯、片锯
2.5mm
~2mm
0.5mm
生长面衬底
三粉末样品制备
1.粉碎研磨
研磨后的粉末放在无水乙醇溶液里，用超声波震荡均匀后滴在微栅上，干燥后进行透射电镜观察。
2.树脂包埋
理想的包埋剂应具有：高强度，高温稳定性，与多种溶剂和化学药品不起反应，如丙酮等，常用的几种包埋剂：G-1，G-2，610，812E。
透射电子显微镜TEM(PPT121页)
透射电子显微镜 (Transmission Electron Microscope, TEM)
TEM是以波长极短的电子束作为照明源，用电磁透 镜聚焦成像的一种高分辨率、高放大倍数的电子光学 仪器。可同时实现微观形貌观察、晶体结构分析和成 分分析（配以能谱或波谱或能量损失 谱）。
为什么采用电子束而不用自然光？
β=±25度
EM420透射电子显微镜
（日本电子） 加速电压20KV、40KV、60KV、 80KV、100KV、120KV 晶格分辨率 2.04Å 点分辨率 3.4Å 最小电子束直径约2nm 倾转角度α=±60度
β=±30度
FEI Titan 80-300 kV S/TEM 世界上功能最强大的商用透射电子显 微镜 (TEM)。已迅速成为全球顶级研 究人员的首选 S/TEM，从而实现了 TEM 及 S/TEM 模式下的亚埃级分辨 率研究及探索。
➢ 电子显微镜发展史
1898年J.J. Thomson发现电子 1924年de Broglie 提出物质粒子波动性假说和1927年实验的证实。 1926年轴对称磁场对电子束汇聚作用的提出。 1932年，1935年，透射电镜和扫描电镜相继出现，1936年，透射电
镜实现了工厂化生产。 20世纪50年代，英国剑桥大学卡文迪许实验室的Hirsch和Howie等人
主要技术参数： 1.TEM分辨率 <1 2.STEM分辨率 <1 3.能量分辨率 <0.15eV 或 <0.25eV 4.加速电压 80-300kV
内容
8.1 简介 8.2 结构原理 8.3 样品制备 8.4 透射电子显微镜的电子衍射 8.5 透射电子显微镜图像分析
8.2 透射电子显微镜结构原理
电磁透镜的分辨本领比光学玻璃透镜提高一千 倍左右，可以达到2Å 的水平，使观察物质纳米 级微观结构成为可能。
透射电镜(TEM)PPT课件
2021/3/9
授课：XXX
2
JEM2010－透射电子显微镜
原理
透射电子显微镜的成像原理可分为三种情况：
1.吸收像：当电子射到质量、密密度大的样品时，主要的成相作用是散射作用。样品 上质量厚度大的地方对电子的散射角大，通过的电子较少，像的亮度较暗。早期的透 射电子显微镜都是基于这种原理
2.衍射像：电子束被样品衍射后，样品不同位置的衍射波振幅分布对应于样品中晶体 各部分不同的衍射能力，当出现晶体缺陷时，缺陷部分的衍射能力与完整区域不同， 从而使衍射钵的振幅分布不均匀，反映出晶体缺陷的分布。 3.相位像：当样品薄至100A以下时，电子可以穿过样品，波的振幅变化可以忽略， 成像来自于相位的变化。
2021/3/9
授课：XXX
5
二：特点：以电子束作光源，电磁场作透镜。电子束波长与加速电压(通常 50~120KV)成反比。由电子照明系统、电磁透镜成像系统、真空系统、记录系统、 电源系统等5部分构成。分辨力0.2nm，放大倍数可达百万倍。TEM分析技术是以 波长极短的电子束作照明源，用电磁透镜聚焦成像的一种高分辨率（1nm）、高放 大倍数的电子光学分析技术；用电镜（包括TEM）进行样品分析时，通常有两个 目的：一个是获得高倍放大倍数的电子图像，另一个是得到电子衍射花样；TEM
常用于研究纳米材料的结晶情况，观察纳米粒子的形貌、分散情况及测量和评估纳 米粒子的粒径。是常用的纳米复合材料微观结构的表征技术之一。
2021/3/9
授课：显X微XX镜原理对比图
6
应用举例
1.元素分布分析
利用微束技术对在光学显微镜下所选区域进行扫描分析，可 获得元素的分布图（线分布、面分布、深度分布和断层）， 来比较研究元素的区域（或相）分布特征。这类分析称为元 素分布分析。
第三章TEM样品制备技术ppt课件
电子穿透样品的厚度与电子的能量有关： 100kV---100nm； 200kV---200nm；
高分辨原子像要求的样品厚度应在10nm以下，甚至5nm以下。
经营者提供商品或者服务有欺诈行为 的，应 当按照 消费者 的要求 增加赔 偿其受 到的损 失，增 加赔偿 的金额 为消费 者购买 商品的 价款或 接受服 务的费 用
经营者提供商品或者服务有欺诈行为 的，应 当按照 消费者 的要求 增加赔 偿其受 到的损 失，增 加赔偿 的金额 为消费 者购买 商品的 价款或 接受服 务的费 用
一、质厚衬度
衬度：眼睛能观察到的或者其它媒介能记录到 的光强度或感光度的差异； 质厚衬度就是样品中不同部位由于原子序数不 同或者密度不同、样品厚度不同，入射电子被散 射后能通过物镜光阑参与成像的电子数量不同， 从而在图像上体现出的强度的差别。
经营者提供商品或者服务有欺诈行为 的，应 当按照 消费者 的要求 增加赔 偿其受 到的损 失，增 加赔偿 的金额 为消费 者购买 商品的 价款或 接受服 务的费 用
常用电解减薄液
序号
电解液成分与配比
适用材料
1
乙醇（80ml），冰醋酸(80ml)， 高氯酸(15ml)，甘油(10ml)
高温合金，耐
热钢，铝及其 合金。
的结构和工作原理，而且应该掌握样品制备的基本技术。
电镜样品制备的特点
电镜样品制备属于破坏性分析。 花费时间很多，有时甚至超过整个研究工作量的一半以上。 制样技术随电镜技术的发展而发展的。 制样技术分两大类：生物样品制备、材料科学样品制备。本文只
讲述材料科学中的制样技术，这些试样大多是有一定硬度的固态 物质。 制备成薄膜，膜厚取决于电子束的穿透能力和分析要求。
支持膜分散粉末法是 常用的制样方法。
高分辨原子像要求的样品厚度应在10nm以下，甚至5nm以下。
经营者提供商品或者服务有欺诈行为 的，应 当按照 消费者 的要求 增加赔 偿其受 到的损 失，增 加赔偿 的金额 为消费 者购买 商品的 价款或 接受服 务的费 用
经营者提供商品或者服务有欺诈行为 的，应 当按照 消费者 的要求 增加赔 偿其受 到的损 失，增 加赔偿 的金额 为消费 者购买 商品的 价款或 接受服 务的费 用
一、质厚衬度
衬度：眼睛能观察到的或者其它媒介能记录到 的光强度或感光度的差异； 质厚衬度就是样品中不同部位由于原子序数不 同或者密度不同、样品厚度不同，入射电子被散 射后能通过物镜光阑参与成像的电子数量不同， 从而在图像上体现出的强度的差别。
经营者提供商品或者服务有欺诈行为 的，应 当按照 消费者 的要求 增加赔 偿其受 到的损 失，增 加赔偿 的金额 为消费 者购买 商品的 价款或 接受服 务的费 用
常用电解减薄液
序号
电解液成分与配比
适用材料
1
乙醇（80ml），冰醋酸(80ml)， 高氯酸(15ml)，甘油(10ml)
高温合金，耐
热钢，铝及其 合金。
的结构和工作原理，而且应该掌握样品制备的基本技术。
电镜样品制备的特点
电镜样品制备属于破坏性分析。 花费时间很多，有时甚至超过整个研究工作量的一半以上。 制样技术随电镜技术的发展而发展的。 制样技术分两大类：生物样品制备、材料科学样品制备。本文只
讲述材料科学中的制样技术，这些试样大多是有一定硬度的固态 物质。 制备成薄膜，膜厚取决于电子束的穿透能力和分析要求。
支持膜分散粉末法是 常用的制样方法。
TEM生物样品特殊制备技术课件
硫胺焦磷酸酯酶（TPP）技术获得的选择性染色。大鼠附睾细胞 内的高尔基器只有内层着色。（×33000）
肝细胞中毛细胆管呈现ALP反应阳性（箭头）×15000
第四节、免疫电镜技术 Immuno electronmicroscopic technique
1、概念：
免疫电镜技术是免疫学和电镜技术的结合，其特点是将免疫 学中抗原抗体反应的特异性与组织化学中形态学的可见性，结合 电镜的高分辨能力和放大本领，用胶体金标记抗原，在亚细胞水 平上研究组织和细胞的形态与功能，还可进行细胞内抗原的定性 定位研究，从而将细胞结构与功能代谢紧密结合起来。
醛类物质对不同细胞器的固定和对酶的活性作用
细胞器 胞基质 内质网 线粒体 核周隙 GOL体 酶活性 戊二醛 ＋＋＋ ＋＋＋ ＋＋＋ ＋＋＋ ＋＋＋ 一般
甲 醛 ＋＋ ＋＋＋ ＋＋＋ ＋＋ ＋＋ 优秀
在选择固定剂时，首先考虑保存酶的活性，后考虑结构的 保存。由表可见，戊二醛的固定作用优于甲醛，而甲醛保存酶 的活性作用大于戊二醛。因此电镜细胞化学技术中常用戊二醛 和甲醛的混合液进行样品固定。
从理论上讲，若想保存好样品，需充分固定。但固定越彻底， 酶的失活越严重。要想保存酶的活性，最好是先孵育后固定，但 先孵育导致细胞微细结构的损伤，反应不均，酶反应物扩散、流 失，出现与酶无关部位定居的假象。这些矛盾是EM细胞化学技术 中的难点。在EM酶细胞化学技术中酶的失活、丢失是不可避免的， 细胞微细结构的破坏也是不可避免的但是应当尽量减少固定剂造 成酶的失活与丢失，减少孵育液对细胞微细结构的损伤破坏。
5、免疫金标记技术的应用
（1）免疫金标记技术是金探针作为抗体与组织和细胞内抗原 发生抗原抗体特异性反应，使金颗粒附着在反应部位，定位准 确，金颗粒电子密度很高，EM下清晰可辨。 （2）商品化的金探针购买方便，价格低廉。根据实验要求可 选择大小直径不同的胶体金颗粒（如3nm、5nm、10nm ……） （3）在超微结构水平上观察研究细胞表面和细胞器中的特异 抗原和抗体等物质。也可对突触小泡内神经递质进行标记。
TEM制样技术(共33张PPT)
超薄碳膜
超薄碳膜，也是支持膜的一种，是在微栅的基础上，叠加了一层很薄的碳膜，一般为3-5nm 。这层超薄碳膜的目的，是用薄碳膜把微孔挡住。这主要是针对那些分散性很好的纳米材料 ，如：10nm以下的样品，分散性极好，如果用微栅就有可能从微孔中漏出，如果在微栅孔边 3超缘m薄m，碳薄膜由片，,机于也械是膜磨支光厚持；膜可的能一种会，影是在响微栅观的察基础。上所，叠以加，了一用层超很薄薄的碳碳膜膜，一，般就为3会-5n得m。到很好的效果
Dimple grinder JCP200磁控溅射镀膜仪 金属薄膜样品的制备方法
Resin embedding
Rough polishing 由于电子束的穿透能力有限，为了得到较大的磁场强度，物镜的上下极靴距离做得很短，透射电镜样品室很小，样品台所能放下的样品一般是 Φ3mm，厚度0.
Specimen cutting
Specimen cutting
Precision cutting machine
Resin embedding
Cutting
Rough polishing dia. punching
Precision polishing
Disk punch / Supersonic disk cutter Dia lap polishing system
5、认识并学会使用样品制备的常用工具与耗材。
透射电镜制样用工具类
一、载网类 (纯碳膜、超薄碳膜、微栅、铜网、铜环)—参考网站：新兴百瑞
微栅类：微栅是支持膜的一个品种，在制作支持膜时，特意在膜上制作的微孔，所以也叫“微 栅支持膜”，它也是经过喷碳的支持膜，一般膜厚度为15-20nm。它主要是为了能够使样 品搭载在支持膜微孔的边缘，以便使样品“无膜”观察。无膜的目的主要是为了提高图像衬 度。所以，观察管状、棒状、纳米团聚物等，常用“微栅”支持膜，效果很好。特别是观察 这些样品的高分辨像时，更是最佳的选择；碳膜厚度可根据用户使用情况特制；如果样品 颗粒尺寸小于10nm,请用超薄碳膜。
透射电镜TEM讲义课件PPT
微镜分辨率的理论极限。若用波长最短的可见光(λ= 390nm )作 照明源，则
r0≈200nm 200nm是光学显微镜分辨本领的极限
如何提高显微镜的分辨率
• 根据透镜分辨率的公式，要想提高显微镜的分辨率，关键 是降低照明光源的波长。
• 顺着电磁波谱朝短波长方向寻找，紫外光的波长在13390nm之间，比可见光短多了。但是大多数物质都强烈地 吸收紫外光，因此紫外光难以作为照明光源。
电子波长
• 根据德布罗意（de Broglie）的观点，运动的
电子除了具有粒子性外，还具有波动性。这一点
上和可见光相似。电子波的波长取决于电子运动
的速度和质量，即
h
式中，h为普郎克常数：h=6.626m×v10-34J.s；
m为电子质量；v为电子运动速度，它和加速电
压U之间存在如下关系：
1 mv2 eU 即 2
图为日立公司H800透射电子显微镜(镜筒)
高压系统
真空系统
一般是在物镜的背焦平面上放一称为物镜光阑的小孔径的光阑来达到这个目的。
当试样厚度t恒定时,强度
200~500nm厚的薄膜
如果g · R ≠整数 ,则e-iα≠1， (α ≠ 2π的整数倍。
不同加速电压下的电子波波长
ξg是衍衬理论中一个重要的参数,表示在精确符合布拉格条件时透射波与衍射波之间能量交换或强度振荡的深度周期。
供观察形貌结构的复型样品和非晶态物质样品的衬度是质厚衬度
1.原子核和核外电子对入射电子的散射
经典理论认为散射是入射电
子在靶物质粒子场中受力而发
生偏转。可采用散射截面的模
型处理散射问题，即设想在靶
物质中每一个散射元(一个电子
eZ
或原子核)周围有一个面积为σ
r0≈200nm 200nm是光学显微镜分辨本领的极限
如何提高显微镜的分辨率
• 根据透镜分辨率的公式，要想提高显微镜的分辨率，关键 是降低照明光源的波长。
• 顺着电磁波谱朝短波长方向寻找，紫外光的波长在13390nm之间，比可见光短多了。但是大多数物质都强烈地 吸收紫外光，因此紫外光难以作为照明光源。
电子波长
• 根据德布罗意（de Broglie）的观点，运动的
电子除了具有粒子性外，还具有波动性。这一点
上和可见光相似。电子波的波长取决于电子运动
的速度和质量，即
h
式中，h为普郎克常数：h=6.626m×v10-34J.s；
m为电子质量；v为电子运动速度，它和加速电
压U之间存在如下关系：
1 mv2 eU 即 2
图为日立公司H800透射电子显微镜(镜筒)
高压系统
真空系统
一般是在物镜的背焦平面上放一称为物镜光阑的小孔径的光阑来达到这个目的。
当试样厚度t恒定时,强度
200~500nm厚的薄膜
如果g · R ≠整数 ,则e-iα≠1， (α ≠ 2π的整数倍。
不同加速电压下的电子波波长
ξg是衍衬理论中一个重要的参数,表示在精确符合布拉格条件时透射波与衍射波之间能量交换或强度振荡的深度周期。
供观察形貌结构的复型样品和非晶态物质样品的衬度是质厚衬度
1.原子核和核外电子对入射电子的散射
经典理论认为散射是入射电
子在靶物质粒子场中受力而发
生偏转。可采用散射截面的模
型处理散射问题，即设想在靶
物质中每一个散射元(一个电子
eZ
或原子核)周围有一个面积为σ
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透射电镜的成像原理
由照明部分提供的有一定孔径角 和强度的电子束平行地投影到处 于物镜物平面处的样品上 通过样品和物镜的电子束在物镜 后焦面上形成衍射振幅极大值， 即第一幅衍射谱 这些衍射束在物镜的象平面上相 互干涉形成第一幅反映试样为微 区特征的电子图象 通过聚焦（调节物镜激磁电流）， 使物镜的象平面与中间镜的物平 面相一致，中间镜的象平面与投 影镜的物平面相一致，投影镜的 象平面与荧光屏相一致，这样在 荧光屏上就察观到一幅经物镜、 中间镜和投影镜放大后有一定衬 度和放大倍数的电子图象
晶体薄膜法
（1）切取厚度小于0.5mm 的薄块。 （2）用金相砂纸研磨，把薄块减薄到0.1mm-0.05mm 左 右的薄片。 为避免严重发热或形成应力，可采用化 学抛光法。 （3）用电解抛光，或离子轰击法进行最终减薄，在孔洞边 缘获得厚度小于200nm 的薄膜。
超薄切片法
高分子材料用超薄切片机可获得50nm左右的薄样品。 左右的薄样品。 高分子材料用超薄切片机可获得 左右的薄样品 如果要用透射电镜研究大块聚合物样品的内部结构， 如果要用透射电镜研究大块聚合物样品的内部结构，可采 用此法制样。 用此法制样。
作业
• 简述透射电镜的成像原理，主要结构及制 透射电镜的成像原理， 透射电镜的成像原理 样方法。 样方法。
高压系统高压系统 电源系 统
照明系统 成像放大系统 图像观察和记录系统
成像系统（镜筒） 成像系统（镜筒）
照明系统
（电子枪+聚光镜）
成像放大系统
（物镜+中间镜+投影镜）
观察与记录系统
（荧光屏+照相机构）
真空系统：一般情况10 真空系统：一般情况 -4-10-6torr
操作控制系统
• TEM样品制备方法 样品制备方法: 样品制备方法
是材料科学研究的重要手段， 是材料科学研究的重要手段，能提供极微细材料的组织 结构、 结构、晶体结构和化学成分等方面的信息 分辨率为0.1～ 分辨率为 ～0.2nm，放大倍数为几万～几十万倍 ，放大倍数为几万～ 由于电子易散射或被物体吸收，故穿透力低， 由于电子易散射或被物体吸收，故穿透力低，必须制备 更薄的超薄切片（通常为50～ 更薄的超薄切片（通常为 ～100nm） ） 主要结构：电源系统、成像系统、真空系统、 主要结构：电源系统、成像系统、真空系统、操作系统
支持膜法（粉末试样、胶凝物质、浆体） 支持膜法 粉末试样、胶凝物质、浆体） 粉末试样
用超声波分散器将需要观察的粉末在溶液中分散成悬浮液， 用滴管滴几滴在覆盖有碳加强火棉胶支持膜的电镜铜网上，待其 干燥（悬浮法分散）
复型法
样品通过表面复型技术获得。所谓复型技术就是把 样品表面的显微组织浮雕复制到一种很薄的膜上，然后 把复制膜（叫做“复型”）放到透射电镜中去观察分析， 这样才使透射电镜应用于显示材料的显微组织。 对于在电镜中易起变化的样品和难以制样多采用复型 法。
透射电子显微镜（TEM）
透射电镜，即透射电子显微镜（Transmission Microscope，TEM） Electron Microscope，TEM），是以波长极短的电子束作 为照明源， 为照明源，用电子透镜对透射电子聚焦成像的一种具有高 分 辨 本 领 、 高 放 进的透射电镜的分辨本领已达到0.1nm, 目前世界上最先进的透射电镜的分辨本领已达到 可用来直接观察原子像。 可用来直接观察原子像。