半导体物理课后习题答案(精)
半导体物理课后习题解答
半导体物理习题解答1-1.(P 32)设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k )和价带极大值附近能量E v (k )分别为:E c (k)=0223m k h +022)1(m k k h -和E v (k)= 0226m k h -0223m k h ;m 0为电子惯性质量,k 1=1/2a ;a =0.314nm 。
试求: ①禁带宽度;②导带底电子有效质量; ③价带顶电子有效质量;④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
[解] ①禁带宽度Eg根据dk k dEc )(=0232m k h +012)(2m k k h -=0;可求出对应导带能量极小值E min 的k 值:k min =143k , 由题中E C 式可得:E min =E C (K)|k=k min =2104k m h ; 由题中E V 式可看出,对应价带能量极大值Emax 的k 值为:k max =0;并且E min =E V (k)|k=k max =02126m k h ;∴Eg =E min -E max =021212m k h =20248a m h=112828227106.1)1014.3(101.948)1062.6(----⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯=0.64eV ②导带底电子有效质量m n0202022382322m h m h m h dk E d C =+=;∴ m n =022283/m dk E d h C= ③价带顶电子有效质量m ’02226m h dkE d V -=,∴0222'61/m dk E d h m Vn -== ④准动量的改变量h △k =h (k min -k max )= ah k h 83431=[毕]1-2.(P 33)晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m ,107V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
[解] 设电场强度为E ,∵F =hdtdk=q E (取绝对值) ∴dt =qE h dk∴t=⎰tdt 0=⎰a qE h 210dk =aqE h 21 代入数据得: t =E⨯⨯⨯⨯⨯⨯--1019-34105.2106.121062.6=E 6103.8-⨯(s )当E =102 V/m 时,t =8.3×10-8(s );E =107V/m 时,t =8.3×10-13(s )。
半导体物理与器件课后练习题含答案
半导体物理与器件课后练习题含答案1. 简答题1.1 什么是p型半导体?答案: p型半导体是指通过加入掺杂物(如硼、铝等)使得原本的n型半导体中含有空穴,从而形成的半导体材料。
具有p型性质的半导体材料被称为p型半导体。
1.2 什么是n型半导体?答案: n型半导体是指通过加入掺杂物(如磷、锑等)使得原本的p型半导体中含有更多的自由电子,从而形成的半导体材料。
具有n型性质的半导体材料被称为n型半导体。
1.3 什么是pn结?答案: pn结是指将p型半导体和n型半导体直接接触形成的结构。
在pn结的界面处,p型半导体中的空穴和n型半导体中的自由电子会相互扩散,形成空间电荷区,从而形成一定的电场。
当外加正向电压时,电子和空穴在空间电荷区中相遇,从而发生复合并产生少量电流;而当外加反向电压时,电场反向,空间电荷区扩大,从而形成一个高电阻的结,电流几乎无法通过。
2. 计算题2.1 若硅片的掺杂浓度为1e16/cm³,电子迁移率为1350 cm²/Vs,电离能为1.12 eV,则硅片的载流子浓度为多少?解题过程:根据硅片的掺杂浓度为1e16/cm³,可以判断硅片的类型为n型半导体。
因此易知载流子为自由电子。
根据电离能为1.12 eV,可以推算出自由电子的有效密度为:n = N * exp(-Eg / (2kT)) = 6.23e9/cm³其中,N为硅的密度,k为玻尔兹曼常数(1.38e-23 J/K),T为温度(假定为室温300K),Eg为硅的带隙(1.12 eV)。
因此,载流子浓度为1e16 + 6.23e9 ≈ 1e16 /cm³。
2.2 假设有一n+/p结的二极管,其中n+区的掺杂浓度为1e19/cm³,p区的掺杂浓度为1e16/cm³,假设该二极管在正向电压下的漏电流为1nA,求该二极管的有效面积。
解题过程:由于该二极管的正向电压下漏电流为1nA,因此可以利用肖特基方程计算出它的开启电压:I = I0 * (exp(qV / (nkT)) - 1)其中,I0为饱和漏电流(假定为0),q为电子电荷量,V为电压,n为调制系数(一般为1),k为玻尔兹曼常数,T为温度。
半导体物理习题答案(1-3章)
第1章 半导体中的电子状态1. 设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量()c E k 和价带极大值附近能量()v E k 分别为2222100()()3c h k k h k E k m m -=+,22221003()6v h k h k E k m m =-0m 为电子惯性质量,112k a =, 0.314a =nm 。
试求:1) 禁带宽度;2) 导带底电子有效质量; 3) 价带顶电子有效质量;4) 价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
解:1) 禁带宽度g E ,根据22100()2()202c dE k h k k h k dk m m -=+=,可求出对应导带能量极小值min E 的k 值:m i n 134k k =, 由题目中()c E k 式可得:min 12min 3104()4c k k k h E E k k m ====; 根据20()60v dE k h k dk m =-=,可以看出,对应价带能量极大值max E 的k 值为:k max = 0;可得max 221max 00()6v k k h k E E k m ====,所以2221min max 2001248g h k h E E E m m a=-== 2) 导带底电子有效质量m n由于2222200022833c d E h h h dk m m m =+=,所以202238nc m h md E dk== 3) 价带顶电子有效质量vn m由于22206v d E h dk m =-,所以20226v nv m h m d E dk ==- 4) 准动量的改变量min max 133()48hh k h k k hk a∆=-==2. 晶格常数为0.25 nm 的一维晶格,当外加102V/m 、107V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:设电场强度为E ,电子受到的力f 为dkf hqE dt==(E 取绝对值),可得h dt dk qE =, 所以12012ta h h t dt dk qE qE a===⎰⎰,代入数据得: 34619106.62108.310()1.6102(2.510)t s E E----⨯⨯==⨯⨯⨯⨯⨯ 当E = 102V/m 时,88.310t s -=⨯;当E = 107V/m 时,138.310t s -=⨯。
半导体物理学(第七版)课后习题答案.doc
半导体物理学(第七版)课后习题答案.doc半导体物理习题解答1-1.(P 32)设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k )和价带极大值附近能量E v (k )分别为:E c (k)=0223m k h +022)1(m k k h -和E v (k)= 0226m k h -0223m k h ;m 0为电子惯性质量,k 1=1/2a ;a =0.314nm 。
试求:①禁带宽度;②导带底电子有效质量;③价带顶电子有效质量;④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
[解] ①禁带宽度Eg根据dk k dEc )(=0232m k h +012)(2m k k h -=0;可求出对应导带能量极小值E min 的k 值:k min =143k ,由题中E C 式可得:E min =E C (K)|k=k min =2104k m h ;由题中E V 式可看出,对应价带能量极大值Emax 的k 值为:k max =0;并且E min =E V (k)|k=k max =02126m k h ;∴Eg =E min -E max =021212m k h =20248a m h =112828227106.1)1014.3(101.948)1062.6(----=0.64eV ②导带底电子有效质量m n0202022382322m h m h m h dkE d C =+=;∴ m n =022283/m dk E d h C= ③价带顶电子有效质量m ’02226m h dk E d V -=,∴0222'61/m dk E d h m Vn-== ④准动量的改变量h △k =h (k min -k max )= ahk h 83431=[毕] 1-2.(P 33)晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m ,107V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
半导体物理学(刘恩科)第七版-完整课后题答案)
半导体物理学(刘恩科)第七版-完整课后题答案)第⼀章习题1.设晶格常数为a 的⼀维晶格,导带极⼩值附近能量(k)和价带极⼤值附近能量(k)分别为:220122*********)(,)(3m k h m k h k E m k k h m k h V -=-+ 0m 。
试求:为电⼦惯性质量,nm a ak 314.0,1==π(1)禁带宽度;(2)导带底电⼦有效质量; (3)价带顶电⼦有效质量;(4)价带顶电⼦跃迁到导带底时准动量的变化解:(1)eV m k E k E E E k m dk E d k m kdk dE Ec k k m m m dk E d k k m k k m k V C g V V V c 64.012)0()43(0,060064338232430)(2320212102220202020222101202==-==<-===-==>=+===-+ηηηηηηηη因此:取极⼤值处,所以⼜因为得价带:取极⼩值处,所以:在⼜因为:得:由导带:043222*83)2(1m dk E d mk k C nC===η sN k k k p k p m dk E d mk k k k V nV/1095.7043)()()4(6)3(25104300222*11-===?=-=-=?=-==ηηηηη所以:准动量的定义:2. 晶格常数为0.25的⼀维晶格,当外加102,107的电场时,试分别计算电⼦⾃能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据:t khqE f== 得qE k t -?=?ηsat sat 137192821911027.810106.1)0(1027.810106.1)0(----?=??--==--=ππηη补充题1分别计算(100),(110),(111)⾯每平⽅厘⽶内的原⼦个数,即原⼦⾯密度(提⽰:先画出各晶⾯内原⼦的位置和分布图)在(100),(110)和(111)⾯上的原⼦分布如图1所⽰:(a )(100)晶⾯(b )(110)晶⾯(c )(111)晶⾯补充题2214221422142822/1083.7342232212414111/1059.92422124142110/1078.6)1043.5(224141100cmatom a a a cm atom a a a cm atom a a ?==?+?+??==??+?+?=?==?+-):():():(⼀维晶体的电⼦能带可写为)2cos 81cos 87()22ka ka ma k E +-=η(,式中a 为晶格常数,试求(1)布⾥渊区边界;(2)能带宽度;(3)电⼦在波⽮k 状态时的速度;(4)能带底部电⼦的有效质量*n m ;(5)能带顶部空⽳的有效质量*p m 解:(1)由0)(=dk k dE 得 an k π=(0,1,2…)进⼀步分析an k π)12(+= ,E (k )有极⼤值,222)ma k E MAXη=(ank π2=时,E (k )有极⼩值所以布⾥渊区边界为an k π)12(+= (2)能带宽度为222)()ma k E k E MINMAXη=-((3)电⼦在波⽮k 状态的速度)2sin 41(sin 1ka ka ma dk dE v -==ηη(4)电⼦的有效质量)2cos 21(cos 222*ka ka m dkEd m n-==η能带底部 an k π2=所以m m n 2*=(5)能带顶部 an k π)12(+=,且**n p m m -=,所以能带顶部空⽳的有效质量32*mm p=半导体物理第2章习题1. 实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么?答:(1)理想半导体:假设晶格原⼦严格按周期性排列并静⽌在格点位置上,实际半导体中原⼦不是静⽌的,⽽是在其平衡位置附近振动。
半导体物理课后习题集解答
半导体物理习题解答1-1.(P 32)设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k )和价带极大值附近能量E v (k )分别为:E c (k)=0223m k h +022)1(m k k h -和E v (k)= 0226m k h -0223m k h ;m 0为电子惯性质量,k 1=1/2a ;a =0.314nm 。
试求: ①禁带宽度;②导带底电子有效质量; ③价带顶电子有效质量;④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
[解] ①禁带宽度Eg根据dk k dEc )(=0232m k h +012)(2m k k h -=0;可求出对应导带能量极小值E min 的k 值:k min =143k , 由题中E C 式可得:E min =E C (K)|k=k min =2104k m h ; 由题中E V 式可看出,对应价带能量极大值Emax 的k 值为:k max =0;并且E min =E V (k)|k=k max =02126m k h ;∴Eg =E min -E max =021212m k h =20248a m h =112828227106.1)1014.3(101.948)1062.6(----⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯=0.64eV ②导带底电子有效质量m n202022382322m h m h m h dk E d C =+=;∴ m n =022283/m dk E d h C= ③价带顶电子有效质量m ’02226m h dkE d V -=,∴0222'61/m dk E d h m Vn -==④准动量的改变量h △k =h (k min -k max )=ahk h 83431=[毕]1-2.(P 33)晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m ,107V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
[解] 设电场强度为E ,∵F =hdtdk=q E (取绝对值) ∴dt =qE h dk∴t=⎰tdt 0=⎰a qE h 21dk =aqE h 21代入数据得: t =E⨯⨯⨯⨯⨯⨯--1019-34105.2106.121062.6=E 6103.8-⨯(s )当E =102 V/m 时,t =8.3×10-8(s );E =107V/m 时,t =8.3×10-13(s )。
半导体课后习题答案1-8
6.625 × 10 −34 h 1 h = = (h / F )dk = F 2a 2aqE 2 × 0.25 × 10 −9 × 1.6 × 10 −19 × 10 7
=8.28 × 10-13s
第二章 2.以 As 掺入 Ge 中为例,说明什么是施主杂质,施主杂质电离过程和 n 型半导 体。 答:在 Ge 中掺入 As 时,某个 As 原子占据了 Ge 原子的位置。As 原子有 五个价电子,其中四个与周围四个 Ge 原子形成共价键,还剩一个价电子。 同时 As 原子所在处也多余一个正电荷。所以 As 原子代替 Ge 原子以后,其 效果是形成一个正电中心和一个多余的价电子。 但是这个正点中心对多余的 价电子的束缚很弱, 只需要很小的能量就可以成为导电电子在晶格中自由运 动。这个价电子挣脱束缚的过程叫作施主杂质电离过程,As 在这个过程中 释放一个价电子,被称为施主杂质。该半导体在加上电场时主要依靠施主释 放的电子导电,被称为 n 型半导体。 4.以 Si 在 GeAs 中的行为为例,说明Ⅳ族杂质在Ⅲ-Ⅴ族化合物中可能出现的双 性行为。 答:Si 原子比 Ge 多一个价电子,比 As 少一个价电子。实验表明,当 Si 掺入 GeAs 中时,Si 原子既能取代 Ge 原子表现为施主杂质,又能取代 As 原子表现为受主杂质。Si 的这种性质称为双性行为。 7 . 锑 化 铟 的 禁 带 宽 度 Eg=0.18eV , 相 对 介 电 常 数 εr=17 , 电 子 有 效 质 量 mn*=0.015m0,m0 为电子的惯性质量,求(1)施主杂质电离能;(2)施主的弱束 缚电子基态轨道半径。 解:(1)施主杂质电离能
椭球的体积为 V=4 π abc/3=
3.当 E-EF 为 1.5k0T,4 k0T ,10 k0T 时,分别用费米分布函数和波耳兹曼分 布函数计算电子占据该能级的概率。
半导体物理课后习题答案(精)
半导体物理课后习题答案(精)第一章习题1.设晶格常数为a的一维晶格,导带极小值附近能量Ec(k)和价带极大值附近能量EV(k)分别为:h2k2h2(k-k1)2h2k213h2k2Ec= +,EV(k)=-3m0m06m0m0m0为电子惯性质量,k1=(1)禁带宽度;(2)导带底电子有效质量;(3)价带顶电子有效质量;(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化解:(1)导带:2 2k22(k-k1)由+=03m0m03k14d2Ec2 22 28 22=+=>03m0m03m0dk得:k=所以:在k=价带:dEV6 2k=-=0得k=0dkm0d2EV6 2又因为=-<0,所以k=0处,EV取极大值2m0dk2k123=0.64eV 因此:Eg=EC(k1)-EV(0)=412m02=2dECdk23m0 8πa,a=0.314nm。
试求: 3k处,Ec取极小值4 (2)m*nC=3k=k14 (3)m*nV 2=2dEVdk2=-k=01m06(4)准动量的定义:p= k所以:∆p=( k)3k=k14 3-( k)k=0= k1-0=7.95⨯10-25N/s42. 晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m,107 V/m的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据:f=qE=h(0-∆t1=-1.6⨯10∆k ∆k 得∆t= ∆t-qEπa)⨯10)=8.27⨯10-13s2-19=8.27⨯10-8s (0-∆t2=π-1.6⨯10-19⨯107第三章习题和答案100π 21. 计算能量在E=Ec到E=EC+ 之间单位体积中的量子态数。
*22mLn31*2V(2mng(E)=(E-EC)2解 232πdZ=g(E)dEdZ 单位体积内的量子态数Z0=V22100π 100h Ec+Ec+32mnl8mnl1*2(2mn1VZ0=g(E)dE=⎰(E-EC)2dE23⎰VEC2π EC 23100h*2 =V(2mn2(E-E)Ec+8m*L2 Cn32π2 3Ecπ =10003L32. 试证明实际硅、锗中导带底附近状态密度公式为式(3-6)。
半导体物理课后习题解答
半导体物理习题解答1-1.(P 32)设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k )和价带极大值附近能量E v (k )分别为:E c (k)=0223m k h +022)1(m k k h -和E v (k)= 0226m k h -0223m k h ;m 0为电子惯性质量,k 1=1/2a ;a =0.314nm 。
试求: ①禁带宽度;②导带底电子有效质量; ③价带顶电子有效质量;④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
[解] ①禁带宽度Eg根据dk k dEc )(=0232m kh +012)(2m k k h -=0;可求出对应导带能量极小值E min 的k 值:k min =143k ,由题中E C 式可得:E min =E C (K)|k=k min =2104k m h ; 由题中E V 式可看出,对应价带能量极大值Emax 的k 值为:k max =0;并且E min =E V (k)|k=k max =02126m k h ;∴Eg =E min -E max =021212m k h =20248a m h =112828227106.1)1014.3(101.948)1062.6(----⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯=0.64eV ②导带底电子有效质量m n0202022382322m h m h m h dk E d C =+=;∴ m n =022283/m dk E d h C= ③价带顶电子有效质量m ’2226m h dk E d V -=,∴0222'61/m dk E d h m Vn -== ④准动量的改变量h △k =h (k min -k max )= ah k h 83431=[毕]1-2.(P 33)晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m ,107V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
[解] 设电场强度为E ,∵F =hdtdk=q E (取绝对值) ∴dt =qE h dk∴t=⎰tdt 0=⎰a qE h 21dk =aqE h 21代入数据得: t =E⨯⨯⨯⨯⨯⨯--1019-34105.2106.121062.6=E 6103.8-⨯(s )当E =102 V/m 时,t =8.3×10-8(s );E =107V/m 时,t =8.3×10-13(s )。
半导体物理课后习题答案
第一章习题1.设晶格常数为a的一维晶格,导带极小值附近能量Ec(k)和价带极大值附近能量EV(k)分别为:h2k2h2(k-k1)2h2k213h2k2Ec= +,EV(k)=-3m0m06m0m0m0为电子惯性质量,k1=(1)禁带宽度;(2)导带底电子有效质量;(3)价带顶电子有效质量;(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化解:(1)导带:2 2k2 2(k-k1)由+=03m0m03k14d2Ec2 22 28 22=+=>03m0m03m0dk得:k=所以:在k=价带:dEV6 2k=-=0得k=0dkm0d2EV6 2又因为=-<0,所以k=0处,EV取极大值2m0dk2k123=0.64eV 因此:Eg=EC(k1)-EV(0)=412m02=2dECdk23m0 8πa,a=0.314nm。
试求: 3k处,Ec取极小值4 (2)m*nC=3k=k14(3)m*nV 2=2dEVdk2=-k=01m06(4)准动量的定义:p= k所以:∆p=( k)3k=k14 3-( k)k=0= k1-0=7.95⨯10-25N/s42. 晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m,107 V/m的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据:f=qE=h(0-∆t1=-1.6⨯10∆k ∆k 得∆t= ∆t-qEπa)⨯10)=8.27⨯10-13s2-19=8.27⨯10-8s (0-∆t2=π-1.6⨯10-19⨯107第三章习题和答案100π 21. 计算能量在E=Ec到E=EC+ 之间单位体积中的量子态数。
*22mLn31*2V(2mng(E)=(E-EC)2解232πdZ=g(E)dEdZ 单位体积内的量子态数Z0=V22100π 100h Ec+Ec+32mnl8mnl1*2(2mn1V Z0=g(E)dE=⎰(E-EC)2dE23⎰VEC2π EC 23100h*2 =V(2mn2(E-E)Ec+8m*L2Cn32π2 3Ecπ =10003L32. 试证明实际硅、锗中导带底附近状态密度公式为式(3-6)。
半导体物理 课后习题答案解析
第一章习题1.设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k)和价带极大值附近能量E V (k)分别为:E c =0220122021202236)(,)(3m k h m k h k E m k k h m k h V -=-+ 0m 。
试求:为电子惯性质量,nm a ak 314.0,1==π(1)禁带宽度;(2) 导带底电子有效质量; (3)价带顶电子有效质量;(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化 解:(1)eV m k E k E E E k m dk E d k m kdk dE Ec k k m m m dk E d k k m k k m k V C g V V V c 64.012)0()43(0,060064338232430)(2320212102220202020222101202==-==<-===-==>=+===-+ 因此:取极大值处,所以又因为得价带:取极小值处,所以:在又因为:得:由导带:043222*83)2(1m dk E d mk k C nC===sN k k k p k p m dk E d mk k k k V nV/1095.7043)()()4(6)3(25104300222*11-===⨯=-=-=∆=-== 所以:准动量的定义:2. 晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m ,107 V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据:tkhqE f ∆∆== 得qE k t -∆=∆sat sat 137192821911027.810106.1)0(1027.810106.1)0(----⨯=⨯⨯--=∆⨯=⨯⨯--=∆ππ第三章习题和答案1. 计算能量在E=E c 到2*n 2C L 2m 100E E π+= 之间单位体积中的量子态数。
解322233*28100E 21233*22100E 0021233*231000L 8100)(3222)(22)(1Z VZZ )(Z )(22)(2322C 22C L E m h E E E m V dE E E m V dE E g V d dEE g d E E m V E g c nc C n l m h E C n l m E C n n c n c πππππ=+-=-====-=*++⎰⎰**)()(单位体积内的量子态数)(2. 试证明实际硅、锗中导带底附近状态密度公式为式(3-6)。
半导体物理课后习题答案(精)
第一章习题1.设晶格常数为a的一维晶格,导带极小值附近能量Ec(k)和价带极大值附近能量EV(k)分别为:h2k2h2(k-k1)2h2k213h2k2Ec= +,EV(k)=-3m0m06m0m0m0为电子惯性质量,k1=(1)禁带宽度;(2)导带底电子有效质量;(3)价带顶电子有效质量;(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化解:(1)导带:2 2k2 2(k-k1)由+=03m0m03k14d2Ec2 22 28 22=+=>03m0m03m0dk得:k=所以:在k=价带:dEV6 2k=-=0得k=0dkm0d2EV6 2又因为=-<0,所以k=0处,EV取极大值2m0dk2k123=0.64eV 因此:Eg=EC(k1)-EV(0)=412m02=2dECdk23m0 8πa,a=0.314nm。
试求: 3k处,Ec取极小值4 (2)m*nC=3k=k14(3)m*nV 2=2dEVdk2=-k=01m06(4)准动量的定义:p= k所以:∆p=( k)3k=k14 3-( k)k=0= k1-0=7.95⨯10-25N/s42. 晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m,107 V/m的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据:f=qE=h(0-∆t1=-1.6⨯10∆k ∆k 得∆t= ∆t-qEπa)⨯10)=8.27⨯10-13s2-19=8.27⨯10-8s (0-∆t2=π-1.6⨯10-19⨯107第三章习题和答案100π 21. 计算能量在E=Ec到E=EC+ 之间单位体积中的量子态数。
*22mLn31*2V(2mng(E)=(E-EC)2解232πdZ=g(E)dEdZ 单位体积内的量子态数Z0=V22100π 100h Ec+Ec+32mnl8mnl1*2(2mn1V Z0=g(E)dE=⎰(E-EC)2dE23⎰VEC2π EC 23100h*2 =V(2mn2(E-E)Ec+8m*L2Cn32π2 3Ecπ =10003L32. 试证明实际硅、锗中导带底附近状态密度公式为式(3-6)。
半导体物理学习题答案(有目录)
半导体物理学习题答案(有目录)半导体物理习题解答目录1-1.(P32)设晶格常数为a的一维晶格,导带极小值附近能量E c(k)和价带极大值附近能量E v(k)分别为: (2)1-2.(P33)晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m,107V/m的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
(3)3-7.(P81)①在室温下,锗的有效状态密度Nc=1.05×1019cm-3,Nv=5.7×1018cm-3,试求锗的载流子有效质量mn*和mp*。
(3)3-8.(P82)利用题7所给的Nc和Nv数值及Eg=0.67eV,求温度为300k和500k时,含施主浓度ND=5×1015cm-3,受主浓度NA=2×109cm-3的锗中电子及空穴浓度为多少? (4)3-11.(P82)若锗中杂质电离能△ED=0.01eV,施主杂质浓度分别为ND=1014cm-3及1017cm-3,计算(1)99%电离,(2)90%电离,(3)50%电离时温度各为多少? (5)3-14.(P82)计算含有施主杂质浓度ND=9×1015cm-3及受主杂质浓度为1.1×1016cm-3的硅在300k 时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置。
(6)3-18.(P82)掺磷的n型硅,已知磷的电离能为0.04eV,求室温下杂质一般电离时费米能级的位置和磷的浓度。
(7)3-19.(P82)求室温下掺锑的n型硅,使EF=(EC+ED)/2时的锑的浓度。
已知锑的电离能为0.039eV。
(7)3-20.(P82)制造晶体管一般是在高杂质浓度的n型衬底上外延一层n型的外延层,再在外延层中扩散硼、磷而成。
①设n型硅单晶衬底是掺锑的,锑的电离能为0.039eV,300k时的EF位于导带底下面0.026eV处,计算锑的浓度和导带中电子浓度。
(8)4-1.(P113)300K时,Ge的本征电阻率为47Ω.cm,如电子和空穴迁移率分别为3900cm2/V.S和1900cm2/V.S,试求本征Ge的载流子浓度。
半导体物理学(刘恩科第七版)前五章课后习题解答(1)(精)
3-6)。
? ? mamama'令' k=()kx,ky=(ky,kz=(kzmtmtml'x h2 '2'2'2 则: Ec(k)=Ec+(k+k+kxyz") ? 2ma' 在 k'系中 ,等能面仍为球形等能面
? m?m+m''tl 在 k 系中的态密度 g(k)=? t
3? ? ma? 1? k'=2ma(E-EC)h ?? V ?? 在 E~E+dE 空间的状态数等于 k 空间所包含的 状态数。 即 dz=g(k')?? Vk'=g(k')?4 πk'dk
不能向导带和价带提供电子和空穴, 6.说明类氢模型的优点和不足。
优点:基本上能够解释浅能级杂质电离能的小的差异,计算简单。
缺点:只有电子轨道半径较大时,该模型才较适用,如 Ge.相反,对电子轨道半
径较小的,如 Si,简单的库仑势场不能计入引入杂质中心带来的全部影响。
称为杂质的高度补偿
7.锑化铟的禁带宽度 Eg=0.18eV,相对介电常数 ε r=1,7 电子的有效质量
电子的浓度为 n=ND-NA 。即则有效受主浓度为 NAeff ≈ND-NA ( 2)NA>>ND
施主能级上的全部电子跃迁到受主能级上,受主能级上还有 NA-ND 个空穴,它
们可接受价带上的 NA-ND 个电子,在价带中形成的空穴浓度 p=NA-ND. 即有效
受主浓度为 NAeff ≈NA-ND (3)NA≈ND 时,
一定程度时趋于饱和。硅先取代 Ga 原子起施主作用,随着硅浓度的增加,硅取
代 As 原子起受主作用。 5.举例说明杂质补偿作用。
半导体物理课后习题解答
半导体物理习题解答1-1.(P 32)设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k )和价带极大值附近能量E v (k )分别为:E c (k)=0223m k h +022)1(m k k h -和E v (k)= 0226m k h -0223m k h ;m 0为电子惯性质量,k 1=1/2a ;a =0.314nm 。
试求: ①禁带宽度;②导带底电子有效质量; ③价带顶电子有效质量;④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
[解] ①禁带宽度Eg根据dk k dEc )(=0232m k h +012)(2m k k h -=0;可求出对应导带能量极小值E min 的k 值:k min =143k , 由题中E C 式可得:E min =E C (K)|k=k min =2104k m h ; 由题中E V 式可看出,对应价带能量极大值Emax 的k 值为:k max =0;并且E min =E V (k)|k=k max =02126m k h ;∴Eg =E min -E max =021212m k h =20248a m h =112828227106.1)1014.3(101.948)1062.6(----⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯=0.64eV ②导带底电子有效质量m n0202022382322m h m h m h dkE d C =+=;∴ m n =022283/m dk E d h C= ③价带顶电子有效质量m ’02226m h dk E d V -=,∴0222'61/m dk E d h m Vn-== ④准动量的改变量h △k =h (k min -k max )= ah k h 83431=[毕]1-2.(P 33)晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m ,107V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
[解] 设电场强度为E ,∵F =hdtdk=q E (取绝对值) ∴dt =qE h dk∴t=⎰tdt 0=⎰a qE h 210dk =aqE h 21 代入数据得: t =E⨯⨯⨯⨯⨯⨯--1019-34105.2106.121062.6=E 6103.8-⨯(s )当E =102 V/m 时,t =8.3×10-8(s );E =107V/m 时,t =8.3×10-13(s )。
半导体物理学(刘恩科第七版)课后习题解第四章习题及答案(精)
第四章习题及答案1. 300K时,Ge的本征电阻率为47Ωcm,如电子和空穴迁移率分别为3900cm2/( V.S)和1900cm2/( V.S)。
试求Ge 的载流子浓度。
解:在本征情况下,n=p=ni,由ρ=1/σ=47⨯1.602⨯10-191nqun+pqu=p1niq(un+up)cm-3知ni=ρq(un+up)=⨯(3900+1900)=2.29⨯10132. 试计算本征Si在室温时的电导率,设电子和空穴迁移率分别为1350cm2/( V.S)和500cm2/( V.S)。
当掺入百万分之一的As后,设杂质全部电离,试计算其电导率。
比本征Si的电导率增大了多少倍?解:300K时,un=1350cm2/(V⋅S),up=500cm2/(V⋅S),查表3-2或图3-7可知,室温下Si的本征载流子浓度约为ni=1.0⨯1010cm-3。
本征情况下,σ=nqun+pqup=niq(un+up)=1⨯1010⨯1.602⨯1018-19⨯(1350+500)=3.0⨯1012-6S/cm金钢石结构一个原胞内的等效原子个数为8⨯+6⨯的晶格常数为0.543102nm,则其原子密度为+4=8个,查看附录B知Si。
8(0.543102⨯1011000000-7)3=5⨯1022cm-3掺入百万分之一的As,杂质的浓度为ND=5⨯1022⨯=5⨯1016cm-3,杂质全2ND>>ni,部电离后,这种情况下,查图4-14(a)可知其多子的迁移率为800 cm/( V.S)σ≈NDqun=5⨯10''16⨯1.602⨯10-19⨯800=6.4S/cm比本征情况下增大了σσ'=6.43⨯10-6=2.1⨯10倍63. 电阻率为10Ω.m的p型Si样品,试计算室温时多数载流子和少数载流子浓度。
解:查表4-15(b)可知,室温下,10Ω.m的p型Si样品的掺杂浓度NA约为1.5⨯1015cm-3,查表3-2或图3-7可知,室温下Si的本征载流子浓度约为ni=1.0⨯1010cm-3,NA>>nip≈NA=1.5⨯1015cm-3n=ni2p=(1.0⨯101015)21.5⨯10=6.7⨯10cm4-34. 0.1kg的Ge单晶,掺有3.2⨯10-9kg的Sb,设杂质全部电离,试求该材料的电阻率[μn=0.38m/( V.S),Ge的单晶密度为5.32g/cm,Sb原子量为121.8]。
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第一章习题1.设晶格常数为a的一维晶格,导带极小值附近能量Ec(k)和价带极大值附近能量EV(k)分别为:h2k2h2(k-k1)2h2k213h2k2Ec= +,EV(k)=-3m0m06m0m0m0为电子惯性质量,k1=(1)禁带宽度;(2)导带底电子有效质量;(3)价带顶电子有效质量;(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化解:(1)导带:2 2k2 2(k-k1)由+=03m0m03k14d2Ec2 22 28 22=+=>03m0m03m0dk得:k=所以:在k=价带:dEV6 2k=-=0得k=0dkm0d2EV6 2又因为=-<0,所以k=0处,EV取极大值2m0dk2k123=0.64eV 因此:Eg=EC(k1)-EV(0)=412m02=2dECdk23m0 8πa,a=0.314nm。
试求: 3k处,Ec取极小值4 (2)m*nC=3k=k14(3)m*nV 2=2dEVdk2=-k=01m06(4)准动量的定义:p= k所以:∆p=( k)3k=k14 3-( k)k=0= k1-0=7.95⨯10-25N/s42. 晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m,107 V/m的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据:f=qE=h(0-∆t1=-1.6⨯10∆k ∆k 得∆t= ∆t-qEπa)⨯10)=8.27⨯10-13s2-19=8.27⨯10-8s (0-∆t2=π-1.6⨯10-19⨯107第三章习题和答案100π 21. 计算能量在E=Ec到E=EC+ 之间单位体积中的量子态数。
*22mLn31*2V(2mng(E)=(E-EC)2解232πdZ=g(E)dEdZ 单位体积内的量子态数Z0=V22100π 100h Ec+Ec+32mnl8mnl1*2(2mn1V Z0=g(E)dE=⎰(E-EC)2dE23⎰VEC2π EC 23100h*2 =V(2mn2(E-E)Ec+8m*L2Cn32π2 3Ecπ =10003L32. 试证明实际硅、锗中导带底附近状态密度公式为式(3-6)。
2.证明:si、Ge半导体的E(IC)~K关系为22x2y2zkhk+k状态数。
E(k)=E+(+)CC2mtml ''''2即d=g(k)∙∇V k=g(k)∙4πkdkz**mmm''令kx=(a)kx,ky=(a)ky,kz'=(a)kz ⎡⎤mtmtml2(m∙m+m)dz'ttl⎢⎥∴g(E)==4π∙(E-E)Vc 22222dEhh⎢⎥'''⎣⎦则:Ec(k')=Ec+(k+k+k")xyz*2ma对于si导带底在100个方向,有六个对称的旋转椭球,'在k系中,等能面仍为球形等能面锗在(111)方向有四个,在E~E+dE空间的状态数等于k空间所包含的⎛m∙m+m ''tl在k系中的态密度g(k)= t3* ma⎝1*k'=2ma(E-EC)h*⎫2mn'⎪V∴g(E)=sg(E)=4π(2)(E-Ec)V⎪h⎭*mn=smt2ml[3. 当E-EF为1.5k0T,4k0T,10k0T时,分别用费米分布函数和玻耳兹曼分布函数计算电子占据各该能级的概率。
4. 画出-78oC、室温(27 oC)、500 oC三个温度下的费米分布函数曲线,并进行比较。
5. 利用表3-2中的m*n,m*p数值,计算硅、锗、砷化镓在室温下的NC , NV以及本征载流子的浓度。
*⎧2πkoTmnN=2()⎪C2h⎪⎪2πkoTm*⎪p5⎨Nv=2()2h⎪Eg⎪-⎪ni=(NcNv)e2koT⎪⎩6. 计算硅在-78 oC,27 oC,300 oC时的本征费米能级,假定它在禁带中间合理吗?**Si的本征费米能级,Si:m=1.08m,mn0p=0.59m0*mE-E3kTpV EF=Ei=C+ln*24mn 3kT0.59m0当T1=195K时,kT1=0.016eV,ln=-0.0072eV 41.08m0[]3kT0.59当T2=300K时,kT2=0.026eV,ln=-0.012eV41.083kT0.59当T2=573K时,kT3=0.0497eV,ln=-0.022eV 41.08所以假设本征费米能级在禁带中间合理,特别是温度不太高的情况下。
7. ①在室温下,锗的有效态密度Nc=1.05⨯1019cm-3,NV=3.9⨯1018cm-3,试求锗的载流子有效质量m*n m*p。
计算77K时的NC 和NV。
已知300K时,Eg=0.67eV。
77k时Eg=0.76eV。
求这两个温度时锗的本征载流子浓度。
②77K时,锗的电子浓度为1017cm-3 ,假定受主浓度为零,而Ec-ED=0.01eV,求锗中施主浓度ED为多少? *k0Tmn(.1)根据Nc=2() 722πk0Tm*pNv=2()得22πm*=2πnk0T2π 2* mp=k0T(2)77K时的NC、NV''N(C77K)T= N(TC300K)2⎡Nc⎤⎢2⎥⎣⎦23=0.56m0=5.1⨯10-31kg2⎡Nv⎤⎢⎥⎣2⎦=0.29m0=2.6⨯10-31kg'∴NC=NC∙773773)=1.05⨯1019⨯)=1.37⨯1018/cm3300300'NV=NV∙773773)=3.9⨯1018⨯)=5.08⨯1017/cm3300300Eg2koT-0.672k0⨯300-(3)ni =(NcNv)e -室温:ni =(1.05⨯1019⨯3.9⨯1018)e=1.7⨯1013/cm3=1.98⨯10-7/cm3ND1+2e∆EDno-kT∙N0C77K时,ni=(1.37⨯1018⨯5.08⨯1017)e+n0=nD=0.762k0⨯77ND-ED-EFk0T=1+2e-NDED-Ec+EC-EFk0T= 1+2exp17n∆E0.0110173D(1+2e∴ND=n∙o)=1017(1+2e∙)=1.17⨯10/cm018koTN0.0671.37⨯10C8. 利用题 7所给的Nc 和NV数值及Eg=0.67eV,求温度为300K和500K时,含施主浓度ND=5⨯1015cm-3,受主浓度NA=2⨯109cm-3的锗中电子及空穴浓度为多少?Eg -8.300K时:ni=(NcNV)e2k0T=2.0⨯1013/cm3e'' 500K时:ni=(NCNV)e-g2k0T'=6.9⨯1015/cm3根据电中性条件:⎧n0-p0-ND+NA=022 →n-n(N-N)-n=0⎨00DAi2⎩n0p0=ni ND-NA⎡ND-NA22⎤∴+⎢()+ni⎥ n0=22⎣⎦ NA-ND⎡NA-ND22⎤p=+⎢()+ni⎥022⎣⎦153⎧⎪n0≈5⨯10/cm T=300K时:⎨103⎪p=8⨯10/cm0⎩153⎧⎪n0=9.84⨯10/cmt=500K时:⎨153⎪⎩p0=4.84⨯10/cm 9.计算施主杂质浓度分别为1016cm3,,1018 cm-3,1019cm-3的硅在室温下的费米能级,并假定杂质是全部电离,再用算出的的费米能级核对一下,上述假定是否在每一种情况下都成立。
计算时,取施主能级在导带底下的面的0.05eV。
9.解假设杂质全部由强电离区的EF 193⎧ND⎪NC=2.8⨯10/cm103 EF=Ec+k0TlnN,T=300K时,⎨⎪C⎩ni=1.5⨯10/cmN或EF=Ei+k0TlnD,Ni1016ND=10/cm;EF=Ec+0.026ln=Ec-0.21eV2.8⨯10191018183ND=10/cm;EF=Ec+0.026ln=Ec-0.087eV2.8⨯10191019193ND=10/ncm;EF=Ec1+0.026ln19=Ec-0.0.27eV16DND=10:===0.42%成立ED-EC+0.210.16ND11(2) EC-ED=0.1+e0.026为90%,10%占据施主1+e0.02622nD1=是否≤10%1ED-EFND118+nek0.037=30%不成立ND=10:D=ND1+nD11+e0.026或=≥90%1ED-EFND1+DeND=1019:=0-0.023=80%〉10%不成立ND11+e0.0262'(2)求出硅中施主在室温下全部电离的上限163D-=(2ND∆ED)e(未电离施主占总电离杂质数的百分比)NCkoT0.050.1NC-0.0262ND0.0517310%=e,N=e=2.5⨯10/cm DNC0.0262N=1016小于2.5⨯1017cm3全部电离DND=1016,1018〉2.5⨯1017cm3没有全部电离'' (2)也可比较ED与EF,ED-EF〉〉k0T全电离163 ND=10/cm;ED-EF=-0.05+0.21=0.16〉〉0.026成立,全电离ND=1018/cm3;ED-EF=0.037~0.26EF在ED之下,但没有全电离ND=1019/cm3;ED-EF=-0.023〈0.026,EF在ED之上,大部分没有电离10. 以施主杂质电离90%作为强电离的标准,求掺砷的n型锗在300K时,以杂质电离为主的饱和区掺杂质的浓度范围。
10.解As的电离能∆ED=0.0127eV,NC=1.05⨯1019/cm3室温300K以下,As杂质全部电离的掺杂上限2ND∆ED-=D)NCk0T2ND+0.0127 10%=expNC0.026 0.01270.01270.1NC-0.0260.1⨯1.05⨯1019-0.026∴ND上限=e=e=3.22⨯1017/cm3 22As掺杂浓度超过ND上限的部分,在室温下不能电离Ge的本征浓度ni=2.4⨯1013/cm3∴As的掺杂浓度范围5ni~ND上限,即有效掺杂浓度为2.4⨯1014~3.22⨯1017/cm3 11. 若锗中施主杂质电离能∆ED=0.01eV,施主杂质浓度分别为ND=1014cm-3j及1017cm-3。
计算①99%电离;②90%电离;③50%电离时温度各为多少?12. 若硅中施主杂质电离能∆ED=0.04eV,施主杂质浓度分别为1015cm-3,1018cm-3。
计算①99%电离;②90%电离;③50%电离时温度各为多少?13. 有一块掺磷的 n型硅,ND=1015cm-3,分别计算温度为①77K;②300K;③500K;④800K时导带中电子浓度(本征载流子浓度数值查图3-7)13(.2)300K时,ni=1010/cm3<<ND=1015/cm3强电离区n0≈ND=1015/cm3(3)500K时,ni=4⨯1014/cm3~ND过度区2(4)8000K时,ni=1017/cm3n0≈ni=1017/cm3n0=ND+ND+4ni2≈1.14⨯1015/cm314. 计算含有施主杂质浓度为ND=9⨯1015cm-3,及受主杂质浓度为1.1⨯1016cm3,的硅在33K时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置。