喷雾热解法制备掺锑二氧化锡薄膜及其性能表征
喷雾热解法制备的γ-Gd2S3薄膜的物性研究
Ｃｈ ｒ ｃ ｅ ｓ ｏ — Ｇｄ ３Ｆ ｌ ｐ ｓｔ ｄ ｂ ｐ ａ ｒ ｌ ｓｓ ａ ａ ｔ ｒ ｆ ２ ｉ Ｄｅ ｏ ｉｅ ｙ Ｓ ｒ ｙ Ｐｙ ｏ ｙ ｉ Ｓ ｍ
Ｚ ｏ ｅ ｈ ｕ Ｚｈ ｎ
．
Ｋｅ ｗｏ ｄ ｓ ｌｉ ａ ｏ ｌ ｙ ｒ ｓ ｕｆ ｎ ｄ ｎ ｆ ｍ ｓ ｒｙ ｐ ｒ ｌｓｓ ｄ ｅｅ ｔ ｃｃ ｎ ｔｎ ｖｓｂ ｅ ａ ｓ ｒ ｔ ｎ ｉ ｐ ａ ｙ ｙ ｉ ｉｌｃｒ ｏ ｓａ ｔ ｏ ｉ ｉｉｌ ｂ ｏ ｉ ｐ ｏ
稀 土的倍半 硫化 物 Ｌ ２３ Ｌ ：Ｌ ～Ｄ ） ｎｓ（ ｎ ｎ ｙ 系列在 常
薄 膜 的物 性 研 究
周 朕
（ 淮海 工学 院数理 科学 系 ， 苏 连云 港 ２ ２０ ） 江 ２０ ５
摘要 用 喷雾 热 解 法 ， 玻 璃衬 底 上 沉 积得 到 了 ７ ａＳ 纳米 多 晶薄 膜 。通 过 Ｌ Ｒ仪 和 紫 外可 见 光分 光 计 对 样 品 的 物 在 一Ｇ ２３ Ｃ
压下 有 ３种类 型 ， 在所 有 已知 ３种类 型 的稀 土倍半 硫
液雾 化后用两个 分离的喷嘴分别将其 喷射到 温度保 持 在 ２０～３０Ｃ的衬 底上 ， ８ ５ｏ 流速 为 ２ ／ ｉ 气 的作 ～３Ｌ ｒｎ载 ａ 用下， 最后沉积得 到平滑均匀 的 一Ｇ ３ ｄＳ 薄膜 。 利用 Ｌ Ｒ仪 （ ｇｅｔ１４ １ ２４ Ｃ 和 紫外 Ｃ Ａ ｉｎ ６５ Ｂ ４ ８ Ａ Ｌ Ｒ） ｌ
可见 光分光 计对 样 品进 行 了介 电和 光 吸收 性 质 的 研
究。
化物 中 ， 有 具
Ｐ 结 构 的 相 因其 在 热 学 、 电子 ４ 光
喷雾热分解法制备ITO薄膜及其光电性能研究
ｉ ｆ ｍ ｒ ７ ａ ｄ ３ ７ １ ／ ｒ ｓ ｅ ｔ ｅｙ ｌ ｗｅｅ ９ ％ ｎ ８ ５２ Ｄ， ｅ ｐ ｃ ｉ ｌ ． ｖ
Ｋｅ ｗｏ ｄ ：ｓ ｒ ｙ ｐ ｒｌ ｓｓ Ｉ Ｏ ｔ ｉ ｌ ｐ ｏｏ ｌ ｃｒ ｒ ｐ ｒ ｅ ｙ ｒ ｓ ｐ ａ ｙ ｏ ｙ ｉ； Ｔ ｈ ｎ ｆ ｍ； ｈ ｔｅ ｅ ｔ ｃ ｐ ｏ ｅ ｉ ｓ ｉ ｉ ｔ
收稿 日期 ：０ １０ — ３ ２ １－ ８ ２ 基金项 目： 北京市教育委员会科技发展计划资助项 目
（ Ｍ ０ １０ ７ ０ Ｋ ２ １ １０ ０ ４）
ｗ ｒ ｓｆ ｌ ｗｉ ｇ ｔ ｅ ｓ ｂ ｔａｅ ｔ ｍｐ ｒ ｔ ｒ ｓ ３ ０Ｃ， ｈ ａｒｅ ａ ｏ ｆ ｈ ｉ ａ Ｌ。 ｎ ， ｈ ｎ ｅ ｌ ｇ ｔｍｐ ｒ ｅ ｅ ａ ｏｌ ｎ ： ｈ ｕ ｓｒ ｔ ｅ ｅ ａｕ ｅ ｉ ０ ￣ ｔ ｅ ｃ ｒ ｒｇ ｓｆ ｗ ｏ ｅ ａｒｗ ｓ １ ｍｉ ～ ｔ ｅ ａ ｎ ａ ｉ ｅ ｅ － ｏ ｉ ｌ ｔ ｎ
第 ９卷第 ２期 ２１ ０ ２年 ４月
纳米加 工 工艺
Ｎａ ｏ ｐ ｏ ｅ ｓｎ ｅ ｈ ｉ ｕ ｎ — ｒ ｃ ｓ ｉｇ Ｔ ｃ ｎ ｑ ｅ
Ｖｏ ． ． １ Ｎｏ２ ９
Ａｐ ｌ２ ２ ｉ ｒ ０１
喷雾热分解法制备 Ｉ Ｏ薄膜及其 Ｔ 光电性能研究水
周 洋，武光 明，高德 文 ，邢光建 ，朱艳 英 ，张志乾 ，曹阳
３ ７ １ ／３ ８ ５ － Ｅ。 １
关键词 ：喷雾热分解 ；ＩＯ Ｔ 薄膜 ；光电性能 Ｐｒ ｐ ｒ ｔｏ ｆＩ ｅ ａ ａ ｉｎ ｏ ＴＯ ｉ ｌ ｓｂ ｐ ａ ｙ ｏ ｙ ｉ ａ ｄ Ｔｈ ｎ Ｆｉ ｙ Ｓ ｒ ｙ Ｐ ｒ ｌ ｓｓ ｎ ｍ
ｉｓＰｈｙ ｉ ａ ｏ ｒ ｉｓ ｔ ｓｃ ｌＰｒ ｐｅ ｔｅ
F掺杂二氧化锡导电薄膜的制备及机理研究(DOC)
摘要本文以SnCl2·2H2O、NH4F为原料，采用溶胶-凝胶法制备FTO透明导电薄膜。
通过对薄膜制备的各种工艺参数包括FTO溶胶的配制、基体的处理、涂层厚度、热处理等的实验分析，利用太阳膜透过率测量仪、测试电阻等手段，以光电性能为测试内容，综合探讨了F掺杂浓度、热处理温度、薄膜厚度对薄膜的光电性能的影响。
实验得出FTO溶胶的配置方案为：SnO2的浓度为0.4 mol/L，H2O /SnCl2·2H2O=4 (mol ratio)，pH=2-3，F：Sn (mol%)=5 %。
在FTO薄膜中，适量的F掺杂会显著提高薄膜的导电性，并且透光率良好；随着热处理温度的提高，薄膜的导电性略微提高，透光率提高；薄膜厚度的增加使其导电性提高，但透光率有所下降。
最终得出：F掺杂浓度为5 mol%，热处理温度为500 ℃，薄膜厚度为3层时，FTO薄膜的光电性能最优，其平均透光率可达81.5 %，每厘米间电阻为978 。
关键词：溶胶-凝胶；FTO；SnO2；透明导电薄膜；F掺杂AbstractIn this paper, FTO composite transparent conductive films were prepared by sol-gel method. The raw materials are SnCl2·2H2O and NH4F. The various parameters of film preparation were studied, including the configuration of FTO sol, matrix processing, coating thickness, heat treatment temperature, etc. According to optical performance test, the effect of F doping concentration, heat treatment temperature and film thickness on the surface morphology and optical properties were studied by solar film transmittance measurement instrument and multimeter.The optimal configuration of SnO2sol: sol concentration 0.4 mo1/L, H2O /SnCl2·2H2O=4 (mol ratio), pH=2-3;For FTO film, the appropriate amount of F doping can significantly improve the film conductivity and transmittance. As the increase of heat treatment temperature, the film conductivity and transmittance increase. As the increase of film thickness, the film conductivity increased, but the transmittance decreased.When the F doping concentration is 5mol%, heat treatment temperature at 500 ℃, and film thickness is 3, the FTO film has the best optical properties, the average light transmission rate is up to 81.5 %, and resistance is 978 per centimeter.Key words: sol-gel; FTO; SnO2; transparent conductive film; F doping目录第1章绪论 (1)1.1 SnO2薄膜的研究进展 (1)1.2 SnO2薄膜的制备方法 (4)1.2.1 磁控溅射镀膜 (4)1.2.2 热喷涂技术 (5)1.2.3 化学气相沉积法(CVD) (5)1.2.4 溶胶-凝胶法 (5)1.3 SnO2薄膜的结构和性能 (6)1.3.1 SnO2薄膜的结构和性能 (6)1.3.2 FTO薄膜的导电机理 (7)1.4 透明导电薄膜的应用 (8)1.4.1 显示器件中的应用 (8)1.4.2 建筑玻璃领域中的应用 (8)1.4.3 在光电、光热、电热及气敏器件中的应用 (8)1.4.4 其他方面的应用 (8)1.5 课题研究的目的和主要内容 (9)第2章实验内容与方法 (10)2.1 实验原理 (10)2.2 实验设备 (10)2.3 实验用试剂及药品 (11)2.4 FTO溶胶配置方案的确定 (11)2.4.1 SnO2浓度的变化 (11)2.4.2 水加入量的变化 (12)2.4.3 pH值的变化 (13)2.4.4 F掺杂浓度 (13)2.5 实验主要步骤 (14)2.5.1 FTO溶胶的配制 (14)2.5.2 玻璃基体的清洗 (15)2.5.3 FTO薄膜的制备及热处理 (15)2.6 对试样进行性能表征 (16)2.6.1 薄膜光学性能表征 (16)2.6.2 薄膜电学性能表征 (16)第3章实验结果与分析 (17)3.1 FTO溶胶不同配置方案对薄膜性能的影响 (17)3.1.1 不同的SnO2浓度对薄膜质量的影响 (17)3.1.2 不同去离子水加入量对薄膜质量的影响 (17)3.1.3 不同的PH值对薄膜质量的影响 (18)3.2 F的掺杂浓度对FTO薄膜光电性能的影响 (19)3.2.1 F掺杂浓度对FTO薄膜透光率的影响 (19)3.2.2 F掺杂浓度对FTO薄膜导电性的影响 (20)3.3 热处理温度对FTO薄膜光电性能的影响 (20)3.3.1 热处理温度对FTO薄膜透光率的影响 (20)3.3.2 热处理度对FTO薄膜导电性的影响 (21)3.4 薄膜厚度对FTO薄膜光电性能的影响 (22)3.4.1 薄膜厚度对FTO薄膜透光率的影响 (22)3.4.2 薄膜厚度对FTO薄膜导电性的影响 (23)第4章结论 (25)参考文献 (26)致谢 (27)附录A 译文 (28)附录B 英文材料 (35)第1章绪论薄膜作为一种特殊形态物质，已经成为微电子学、光电子学、磁电子学、材料表面改性、传感器、太阳能利用、液晶显示等新兴交叉科学的重要材料基础，并广泛应用于当代科学技术的各个领域，特别是高新技术领域[1]。
超声喷雾热分解法制备p型ZnO多晶薄膜及其光致发光性能研究
摘 要
采 用超 声喷 雾热 分解 法 ， 室温 下在玻 璃 衬 底上 沉 积 了 Ｎ Ａ 共 掺 杂 的 Ｐ Ｚ Ｏ 薄膜 。采 用 Ｘ Ｄ —ｌ 型 ｎ Ｒ
和 Ｓ Ｍ 测试手段 对 薄膜进 行 了晶体结 构和表 面形 貌 的表征 ， Ｅ 结果表 明所制 备 的 薄膜 为六 角 纤锌 矿 结构 的 Ｚ Ｏ ｎ 薄膜 ， 面均 匀， 表 结构 致 密 ， 有 强烈的 呈 Ｃ 垂直 于衬 底 的 （０ ） 具 轴 ０ ２ 择优 取 向。对 薄膜 进 行 了电 学测试 和 光 致发
光性 ￣ ａ 试 ， 对薄膜 的光 致发光 性能进 行 了研 究。 ｇ＇ 并 ｌ
关 键 词 ＺＯ Ｐ ｎ 型传导 喷雾热分解 ＇＿ ｌ ＮＡ 共掺 光致发光
文献标识码 ： Ａ 中 图分 类 号 ： ８ ０４４
Ｇｒ ｗｔ ｎｄ Ｐｈｏ ｏ ｕ ｉ ｅ ｃ ｎｃ ｆ Ｐ ｔ ｐｅ Ｚｎ ｂ ｔ ａ ｏ ｉ ｐ ａ ｒ ｌ ｓ ｓ ｏ ｈａ ｔ ｌ ｍ ｎ ｓ ｅ ｅ ｏ —ｙ Ｏ ｙ Ｕｌｒ ｓ ｎ ｃ Ｓ ｒ ｙ Ｐｙ ｏ ｙ ｉ
共掺 杂法 ｌ １ 。通 过与 Ⅲ族元 素共 掺 杂可 以进 一步 提 高 Ｎ 的
固溶度 。因此 ， Ｎ掺 杂和 Ｎ一 Ⅲ族元 素共掺 杂 已成为 目前获得
ｐ型 掺 杂 的主 要 途 径 ｌ 。 目前 ， 关 Ｚ Ｏ 的 Ｎ— ＿ 、 ８ 有 ｎ Ｇａｇ Ｎ— ｊ Ｉｌ 和 Ｎ— ［３ 掺 的研究 都有 报道 。 ｎ１ 胡 Ａ１４ １共
超 声喷 雾热分 解法制 备 Ｐ型 Ｚ Ｏ 多晶 薄膜及 其光 致发 光性 能研 究／ ｎ 郑春蕊
・ ５ ３・
超 声 喷 雾 热分 解 法 制备 Ｐ型 Ｚ Ｏ 多晶薄 膜 及 其光 致 发 光性 能研 究 ｎ
热分解法制备锡锑电极及其性能的研究
热分解法制备锡锑电极及其性能的研究周涛;姚颖悟;王枫【摘要】SnO2-Sb2 O5 electrode was prepared on Ti substrate by pyrolysis. Effects of coating solution concentration , ratio of tin and antimony, temperature and sintering time on the electrode properties were investigated. Morphology and structure of the electrode were characterized by optical microscope and XRD, the electrocatalytic performances were studied by electrolytic degradation of methyl orange. Results showed that when the rrnratio of tin and antimony was 9:1,temp erature was 550 ℃. and sintering time was 60 min. , the prepared electrode possessed uniform and compact surface, showed stable cell voltage when used for electrolysis of methyl orange, and exhibited good electro-catalytic effect.%在钛基体上采用热分解法制备锡锑氧化物电极,考察了涂液浓度、锡锑比、烧结温度及烧结时间等对电极性能的影响,分别利用金相显微镜和X-射线粉末衍射仪对电极涂层的形貌和结构进行了表征,并通过电解甲基橙溶液考察了锡锑氧化物电极的性能.结果表明,当n(锡)∶n(锑)为9∶1,烧结θ为550℃,t为60 min时制得的电极表面颗粒均匀致密,用其电解甲基橙溶液时槽电压稳定,电催化效果良好.【期刊名称】《电镀与精饰》【年(卷),期】2013(035)001【总页数】3页(P31-33)【关键词】锡锑电极;电催化性能;制备【作者】周涛;姚颖悟;王枫【作者单位】河北工业大学化工学院电化学表面技术研究室,天津300130;河北工业大学化工学院电化学表面技术研究室,天津300130;河北工业大学化工学院电化学表面技术研究室,天津300130【正文语种】中文【中图分类】TQ153.13引言近年来，随着工业的发展，有机废水对环境的污染日益严重，各种处理有机废水的方法也相继应运而生，其中电化学降解法最受关注，而制备电极的不同方法则成为目前电化学方法研究的主要内容。
喷雾热解法制备SnO2薄膜的结构及性能研究
时 ， 电阻 率 反 而 升 高 ；从 图 Ｉ 还 可 以看 到 薄膜 在 ｝ Ｊ 根据在 线生产 镀膜 玻璃 的特 点 ，本研 究 以无机 ５ ０℃后 电阻率 随载流 子浓 度 的变 化 不人 ，保 持在 ０ 金属 盐Ｓ ＣＩ・ Ｈ Ｏ和 Ｔ业 乙醇 为原料 ，配￥ Ｓ Ｏ ｌ 个 ／ 。 ｌ 个 ／ ，温 度 继 续 升 高 后 电阻 率 下 ｎ ２ ２ ￣ｎ ２ Ｊ ０ ｍ ～ ０ 。 ｍ 溶胶 ，作 为低辐射 玻璃 的喷涂液 ，首 先将一 定量 的 Ｓ ＣＩ ２ ： ｎ ・ Ｈ Ｏ按物质 的量 比ｌ： ０ 于 乙醇 ，然后在 ３溶 ６ ０℃下搅 拌 ，最 终 得 到浅 黄色 澄 清 透 明 的Ｓ ２ ｎ 溶 Ｏ 胶 。在Ｔ燥 箱 分 别将氯 化锑 、三氟 乙酸 与无水 乙 醇 混合 、搅 拌 ｌ ｎ，然 后 各 自按一 定 比例 加 入 ０ｍｉ
种 比较 理 想 的低 辐 射 膜 Ｊ 。
透 过 率 ，通 过 型 号 为Ａｍｒｙ１ ０ 的扫 描 电子显 微 ａ ０ ０ 镜 观 察 薄 膜 的表 面 形 貌 ，采 用 ｖ ｉｄ ｒ ａ ｗ法 ， ａ ｅ ｕ ｌ ０ ＨＥ （ ｌＥ ｆ ｔ６ ４ 测 试 仪 测 定 霍 尔 系数 ：薄 ＭＳＨａｌ ｆ ｃ７ Ｏ １ ｅ
、 ０ ．８ Ｎ Ｏ２ １ ． １ Ｄ ｅ ．２ ０ ｃ ０ ８
喷雾 热解 法 制备 Ｓ Ｏ 薄膜 的结构 及 性 能 研 究 ｎ ２
郅 晓 ，赵高扬 ，雷静果 ，张生国
（． １ 西安理 工大学 材料科 学与 工程 学院，陕西 西安 ７０ ４ ； ． １０ ８ ２洛阳理工学院 材料 科学与工程 系， 河南 洛阳 ４ １２ ： ７ ０３
基 金项 目： 国家 自然科 学基金 项 目《００ ０ ９； ９ ４ １ ０）河南省安全 图１ 温度对Ｓ Ｏ！ ｎ 薄膜电阻率、载流子浓度和迁移率的影响
喷雾热分解法制备TiO2薄膜及光催化性能的研究
ＷＵ Ｇ ａ ｇ ｍｉｇ Ｘ Ｎ ｕ ｎ －ｉ ， Ｉ Ｎ ｉＨＡ ｉ， Ｕ ｅ ｐ ｎ ｕ ｎ － ｎ ， Ｉ Ｇ Ｇ ａ ｇ ｊ ｎ ＪＡ Ｇ Ｗｅ， Ｎ Ｂｎ Ｓ Ｎ Ｄ — ｅ ｇ ａ
（ｅ ｉ ｓｔｔ ｏ ｅｒｃ ｅ ｉａ Ｔ ｃ ｎ ｌ ｙ Ｂ ｉｎ １ ２ １ ， Ｃ ｉａ Ｂ ｉｎ Ｉ ｔｕｅ ｆ ｔ ｈ ｍ ｃｌ ｅｈ ｏｏ ， ｅ ｉｇ ｊｇ ｎ ｉ Ｐ ｏ ｇ ｊ ０ ６ ７ ｈｎ ） 一
能， 究了薄膜性能和制备条件之间的关系， 研 从而为制备高质量薄膜提供一定的理论指导。
关键 词 ： 雾热解 法 ；ＴＯ 薄膜 ；光催 化 喷 ｉ２
Ｓ ｕ ｙ ｏ ｈ ｔ ｃ ｔ ｌ ｓｓＰ ｏ ｅ ｔ ｓ ａ ｄ Ｐ ｅ ａ ａ ｉ ｎ ｏ ｔ ｄ ｆＰ ｏ ｏ ａ ａｙ ｉ ｒ ｐ ｒｉ ｎ ｒ ｐ ｒ ｔ ｆ ｅ ｏ Ｔｉ ｈ ｎ Ｆｉ ｙ Ｓ ｒ ｙ ｐ ｒ ｌ ｓｓ Ｏ２ｔ ｉ ｌ ｍｓｂ ｐ ａ — ａ ａ ｙ ｉ
来 发 现 ＴＯ 薄 膜 材 料 所 具 有 的 高 的 光 催 化 氧 化 ｉ
定配 比的前 驱体溶液雾 化成微米级 的气溶胶液 滴， 用载气夹载雾滴到高温热分解炉中， 经过干燥 固化 、 热分解 、 锻烧烧结等工艺 ， 得到产品颗粒【。 】 ０ １
１ 实 验
ＴＯ 溶胶 配 置 ： 约 １０ ｉ 将 ０ｍＬ无 水 乙醇 倒 人 烧
武光明 ， 邢光建 ， 江 伟 ， 韩
（ 京石 油４ － 学院 ， 北 京 北 ￣Ｙ － －
彬 ， 孙德鹏
１２ １） ０ ６７
摘
要 ： 用喷雾热解法， 利 通过改变工艺参数获得 了一 系列 ＴＯ 薄膜 ， ｉ 并且研究 了这些薄膜结构
和影 薄膜的性 能， ｉ 通过分析不同制备条件下薄膜的性
热喷涂法制备Sb掺杂的SnO_2薄膜
第３ 期
陈小 龙 等 ： 喷 涂 法 制 备 ｓ 热 ｂ掺 杂 的 Ｓ Ｏ ｎ 薄 膜
・ ９ ２ ・
１ ２ 分 析 与 测 试 ．
采用 日本理学 Ｄ／ ｘ２ ０ Ｐ ｍａ 一２ ０ Ｃ型 ｘ射线 衍 射仪 （ Ｒ 分 析 薄 膜 的 结构 ， 用 原 子 力 显 微镜 （ Ｍ ） Ｘ Ｄ） 并 ＡＦ
装置 是 自制 的立 式旋转 加 热 炉 ， 喷涂 液 采 用 空 气 压 缩 系 统 由雾 化 枪 口喷 出． 枪 口与 基材 距 离均 为 １ 喷 Ｏ ｃ 喷枪流 量为 １ ５Ｌ ｍｉ， 涂次数 均为 １ ｍ， ． ／ ｎ 喷 Ｏ次 ， 次喷 ２Ｓ每 次间 隔 ５ｍｉ． 每 ， ｎ 实验将 ３ 不 同掺杂浓度 的 组 喷涂液均 在 ４ ０℃ 、 ５ ０ ４ ０℃ 、０ ５ ０℃ 、 ５ ５ ０℃和 ６ ０℃下 喷涂制 膜． ０
致 密．
关 键 词 ： 喷 涂 法 ； 掺 杂 ； 氧 化 锡 薄 膜 热 锑 二
中图分 类号 ： ＴＱ１ １ ７ 文 献 标 识 码 ：Ａ
０ 引 言
Ｓ Ｏ。 ｎ 薄膜 以其 良好 的可 见光 透过性 和导 电性 而 广泛 应 用 于镀 膜玻 璃 领 域＿ ］ 常 见 的制备 Ｓ Ｏ １． ｎ 薄 膜 的方 法有溅 射法 、 化学 气相沉 积法 、 真空蒸 镀法 、 溶胶一 凝胶 法和 热喷涂 法等 ． 中 ， 喷涂 法具 有设 备 简 其 热 单、 成本 低 、 备样 品快 等优点 ， 制 ］ 因而 备受研 究人 员 的关 注 ． 着 电子 科技 的发展 ， 器 件性 能 提 出 了更 随 对 高 的要 求 ， 更优 良的膜性 能和更 高 的电导率 是一种 必然 的发展 趋势 ． 未掺 杂 的 Ｓ Ｏ ｎ 薄 膜 由于 载流子 浓 度 很低， 因此薄膜 的电导率 很小 ， 大大 的限 制 了其 应用 范围． 们常 采用掺 杂 的方式提 高 电导率 ， 是合 适 这 人 但 的掺杂 量是 制 备 优 良样 品 的关 键 ， 目前 对 提 高 Ｓ Ｏ ｎ 薄 膜 的 电导 率 研 究较 多 的是 在 Ｓ Ｏｚ中掺 入 Ｓ 、 ｎ ｂＦ
一种锑掺杂二氧化锡纳米粉体的水热法制备方法[发明专利]
![一种锑掺杂二氧化锡纳米粉体的水热法制备方法[发明专利]](https://img.taocdn.com/s3/m/2d05d49bf242336c1fb95e10.png)
专利名称：一种锑掺杂二氧化锡纳米粉体的水热法制备方法专利类型：发明专利
发明人：蔡振云,周箭,陆宇
申请号：CN200810120176.5
申请日：20080731
公开号：CN101327948A
公开日：
20081224
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明公开了一种锑掺杂二氧化锡纳米粉体的水热法制备方法，包括：分别配制SnCl乙醇溶液和SbCl乙醇溶液，将SnCl乙醇溶液和SbCl乙醇溶液混合后加入去离子水使SnCl浓度在0.005～3mol/L，用氨水调节混合溶液pH值至8.5～9.5，分散均匀后置于反应釜内，100～200℃进行水热反应1～2h，反应后产物经离心、洗涤、干燥得到的粉体经研磨后在400～700℃热处理0.5～1h，得到锑掺杂二氧化锡纳米粉体。
本发明制得的粉体形貌规则，粒度分布窄，且该法采用廉价的SnCl·5HO和SbCl作为原料，反应条件容易控制，适于工业上大规模生产。
申请人：浙江大学
地址：310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号
国籍：CN
代理机构：杭州天勤知识产权代理有限公司
代理人：胡红娟
更多信息请下载全文后查看。
红外灯辅助喷雾热解法制备可控锑掺杂氧化锡透明热反射薄膜
红外灯辅助喷雾热解法制备可控锑掺杂氧化锡透明热反射薄膜吴文泽;付一飞;凌春雷;庄发委;梁柱荣;徐得华;徐雪青【期刊名称】《新能源进展》【年(卷),期】2016(004)003【摘要】Antimony-doped tin oxide (ATO) sol was prepared by using glacial acetic acid as acidic catalyst and ethylene glycol as ligand and solvent via sol-gel method, which was further utilized to fabricate high-quality Sb controllable doped ATO thin films using spray pyrolysis with an infrared lamp as the assistant heater. The structures, electrical and optical properties of these ATO thin films were systematically investigated. The X-ray diffraction (XRD) analysis revealed that the ATO thin films retained the tetragonal rutile structure with high crystallinity. The resistance of these thin films decreased with the increase of Sb doping level and film thickness. The average transmittance for the ATO thin films in visible range was about 79 %, and the average reflectance in the infrared range was about 80%. Furthermore, the infrared reflectance and emissivity of the thin film can be effectively adjusted by varying the Sb doping concentration and film thickness, which can meet the needs of different climatic conditions.%本文以乙二醇为溶剂及配位剂，以冰乙酸为酸性催化剂，采用溶胶−凝胶法制备均一稳定的具有不同锑掺杂浓度的二氧化锡（SnO2）溶胶，再通过红外灯辅助喷雾热解法制备性能优异的可控锑掺杂SnO2薄膜，并对薄膜微结构、光电性能进行表征。
喷雾热解法制备SnO_2:Sb透明导电薄膜
喷雾热解法制备SnO_2：Sb透明导电薄膜
张聚宝;侯春;翁文剑;程逵;杜丕一;沈鸽;汪建勋;韩高荣
【期刊名称】《硅酸盐学报》
【年(卷),期】2003(31)11
【摘要】采用喷雾热解技术制备出了光电性能优良的SnO_2:Sb透明导电薄膜,对薄膜的结构特性、光电性质以及制备条件对薄膜性能的影响进行了研究。
并进一步研究了喷雾热解法中薄膜的形成过程和工艺参数对薄膜微观结构和性能的影响。
实验结果表明:在Sb掺杂量为11％(摩尔分数)和基板温度为500℃的条件
下,SnO_2:Sb薄膜具有最佳的光电性能,平均可见光透过率为82％,方块电阻达13.4Ω/□,电阻率为4.9×10^(-4)Ω·cm。
【总页数】6页(P1063-1068)
【关键词】透明导电薄膜;掺锑二氧化锡;喷雾热解;光电性能;SnO2:Sb
【作者】张聚宝;侯春;翁文剑;程逵;杜丕一;沈鸽;汪建勋;韩高荣
【作者单位】浙江大学材料科学与工程系;浙江工业大学理学院
【正文语种】中文
【中图分类】O484.1;TM24
【相关文献】
1.喷雾热分解法制备SnO2透明导电薄膜 [J], 张锦文;武光明
2.喷雾热解法制备SnO2：Sb＋F透明导电薄膜 [J], 赵高扬;魏征;郅晓;张卫华
3.喷雾热解法制备p型铟锡氧化物透明导电薄膜 [J], 季振国;赵丽娜;何作鹏;陈琛;
周强
4.喷雾热分解法制备SnO_2透明导电薄膜 [J], 张锦文;武光明;宋世庚;龚健;陶明德
5.喷雾热分解法制备SnO_2·F薄膜与导电性能研究 [J], 赵鹏;郝喜红;许启明;姚燕燕;田晓珍
因版权原因，仅展示原文概要，查看原文内容请购买。
喷雾裂解法制备掺氟氧化锡导电薄膜
喷雾裂解法制备掺氟氧化锡导电薄膜曾涛;王硕;冯诗乐;施玮;陈云霞;苏小丽【期刊名称】《陶瓷学报》【年(卷),期】2016(37)5【摘要】以单丁基三氯化锡、氟化铵、无水甲醇、超纯水为原料制备反应热喷涂液，采用高温喷雾裂解工艺在玻璃基底上制备氟掺杂氧化锡(FTO)透明导电薄膜，研究了氟掺杂浓度对所制备FTO透明导电薄膜光、电性能的影响。
研究结果表明，制备透明导电薄膜的最佳工艺参数为：基底温度500℃、掺杂浓度24 atom%、锡前体浓度0.5 M、喷涂次数60次及醇水比2：1，对应的透明导电玻璃方块电阻Rsh=11.3Ω/sqr，可见光区平均透光率Tave=77.80%，品质因数ФTC=7.2×10-3/Ω，评估指标均接近商品级别。
%Fluorine doped tin oxidefilm (FTO) was deposited by using spray pyrolysis strategy on glass substrate with monobutyltin trichloride, ultrapure water and methanol mixing solution as raw materials, and NH4F as a dopant. The effect ofNH4F concentration in precursor solution on the photoelectric propertiesof the as-prepared conductive iflm was studied. The experimental results reveal that the best operating parameters are as follows:the temperatureof the substrate is controlled at 500°C, the concentration of NH4F is ifxedat 24 atom%in 0.5 M Sn precursor solution (Vmethanol :Vwater=2:1), and the spray procedure is conducted for 60 times. Finally, the sheet resistance (Rsh=11.3Ω/sqr), visible average-transmittance (Tave=77.80%) and ifgureof merit (ФTC=7.2×10-3/Ω) of the conductive iflm can be realized, all of which are very close to those of the commercial FTO.【总页数】4页(P489-492)【作者】曾涛;王硕;冯诗乐;施玮;陈云霞;苏小丽【作者单位】景德镇陶瓷大学，江西景德镇333403;景德镇陶瓷大学，江西景德镇333403;景德镇陶瓷大学，江西景德镇333403;景德镇陶瓷大学，江西景德镇333403; 国家日用及建筑陶瓷工程技术研究中心，江西景德镇333001;景德镇陶瓷大学，江西景德镇333403; 国家日用及建筑陶瓷工程技术研究中心，江西景德镇333001;景德镇陶瓷大学，江西景德镇333403【正文语种】中文【中图分类】TQ174.75【相关文献】1.喷雾热解法制备掺锑二氧化锡薄膜及其性能表征 [J], 侯环宇;王正德;李保卫2.喷雾热解法制备掺氟的氧化锡透明导电膜 [J], 郝喜红;许启明;赵鹏;姚燕燕;田晓珍3.喷雾热解法制备掺锑氧化锡透明导电膜 [J], 王东4.绒面掺氟二氧化锡透明导电膜的制备 [J], 韩文俊;陈友鹏5.喷雾热解法制备掺氟氧化锡导电玻璃及其性能 [J], 张志海;史成武;孙嵩泉;吴玉程因版权原因，仅展示原文概要，查看原文内容请购买。
用超声喷雾热分解法制备SnO2:F薄膜
用超声喷雾热分解法制备SnO2：F薄膜
陈全;崔容强;徐东;Wolden COLIN;奚建平
【期刊名称】《电源技术》
【年(卷),期】2004(28)2
【摘要】采用超声喷雾热分解法沉积高性能掺氟二氧化锡(SnO2:F)透明导电膜(TCO),其最小方块电阻为9 Ω(400 nm 厚),可见光透过率大于80%.X射线衍射(XRD)分析表明,SnO2:F薄膜为多晶结构;原子力显微镜(AFM)观察表明,SnO2:F薄膜平均粒径约为100nm.此外对石墨导热体和置于其上的玻璃基片两者之间的温度差别做了初步研究.
【总页数】4页(P97-100)
【作者】陈全;崔容强;徐东;Wolden COLIN;奚建平
【作者单位】上海交通大学,物理系太阳能研究所,上海,200030;上海交通大学,物理系太阳能研究所,上海,200030;上海交通大学,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030;科罗拉多矿冶学院,太阳能及其材料中心,科罗拉多,80401,美国;上海交通大学,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030
【正文语种】中文
【中图分类】TM914.4
【相关文献】
1.超声注射喷雾热分解法制备CdSe薄膜及其性能的研究 [J], 张志乾;武光明;高德文;朱艳英;曹阳;周洋
2.压缩喷雾热分解法制备SnO2薄膜研究 [J], 朱江;武光明;李冲;邢光建
3.超声喷雾热分解法制备p型ZnO多晶薄膜及其光致发光性能研究 [J], 郑春蕊
4.超声喷雾热分解法制备p型氧化锌多晶薄膜 [J], 郑春蕊
5.超声喷雾热分解法制备ZnO薄膜及衬底温度对其性能的影响 [J], 黎波;龚恒翔;孟祥杰;任维义;陈太红
因版权原因，仅展示原文概要，查看原文内容请购买。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
二 氧化 锡薄 膜是 一 种 ｎ型半 导 体 ， 它具 有 优 良
但 高温稳 定性 能差 ． 掺 ｓ 而 ｂ能 大 幅度 提 高 Ｓ Ｏ 薄 ｎ， 膜 的 电导率 ＿ ， ４ 并且 具有 良好 的热稳 定 性 ， Ｊ 是一 种 很 有 应用潜 力 的低 辐 射 薄 ， 到 了广 泛研 究 ． 得 掺锑 氧化 锡薄 膜 主要 在 玻 璃 片 或者 陶瓷 衬 底 上制 备 ， 几
Ｊｎ ２０ ｕ ｅ， ０ ８
Ｖｏ ２７． ｌ Ｎｏ２
文 章 编 号 ：０ ４— ７ ２ ２ ０ ） ２ １７— ３ １０ ９ ６ （０ ８ ０ —０ ３ ０
喷雾 热解法制备掺锑二氧化锡薄膜及其性能表征
侯 环 宇 王 正德 李保 卫 ， ，
（． １ 内蒙 古 科 技 大 学 材 料 与冶 金 学 院 ， 蒙 古 包 头 内 ０ ４ １ ；． １００２ 内蒙 古 科 技 大 学 生 物 与 化学 工 程 学 院 ， 蒙古 包 头 内 ０４ １） １００
ＨＯＵ ａ — ｕ Ｗ ＡＮＧ ｈ ｎ — ｅ Ｌ ｏ ｗｅ Ｈｕ ｎ ｙ ， Ｚ ｅ ｇ ｄ ， ＩＢａ ｉ
（ ． ａ ｒ ｌ ｎ ｔｌ ｇ ｃ ｏｌＩｎｒ ｏ ｇｌ ｎ ｅ ｉ ｆ ｉ ｃ ｎ ｅ ｈ ｏ ｇ ， ａ ｔ １０ ０ Ｃ ｉ ； ． ｉ ｈｍ ｃｌ ｎ ｈｍ ｃ １ Ｍ ｔ ｉ ｄＭｅ ｌ ｒ Ｓ ｈｏ， ｅ Ｍ ｎ ｏ ａＵ ｉ ｒ ｔ ｏ Ｓ ｅ ｅａ ｄＴ ｃ ｎｌ Ｂ ｏ ｕ０ ４ １ ， ｈ ａ ２ Ｂｏ ｅ ｉ ｄ Ｃ ｅ ｉ ｌ ｅａａ ａ ｕｙ ｎ ｉ ｖ ｓｙ ｎ ｃ ｏ ｙ ｏ ｎ ｃ ａａ ａ
膜 ． 采用 Ｘ射线衍射仪和扫描电镜分别对薄膜的结构和表 面形貌 进行了 表征 ． 研究 了不 同掺 锑量对 薄膜点 电阻
的影 响 及 在可 见 光 范 围 内与 透 光 率 之 间 的关 系 ． 果 表 明 ， 杂锑 的 薄 膜 呈 四 方 金 红 石 结 构 ， 膜 比 较 致 密 ， 行 结 掺 薄 进
２０ ０ ８年 ６ 月 第 ２ ７卷 第 ２ 期
内 蒙 古 科 技 大 学 学 报
Ｊ ｕ ｎ ｌｏ ｎ ｅ ｎ ｏ ａ Ｕ ｉ ｒｉ ｆ ｃｅ ｃ ｎ ｅ ｈ ｏｏ ｙ ｏ ｒ ａ ｆ ｎ ｒＭｏ ｇ ｌ ｎ ｖ ｓ ｙ ｏ ｉｎ ｅ ａ ｄ Ｔ ｃ ｎ ｌｇ Ｉ ｉ ｅ ｔ Ｓ
关 键 词 ： 雾热 解 法 ；ｎ ２Ｓ 膜 ； 电性 能 喷 Ｓ０ ：ｂ薄 光
中 图分 类 号 ：Ｂ ３ Ｔ ４ 文献 标 识 码 ： Ａ
摘
要 ： 喷雾 热 解 法将 掺 杂 锑 的 氯 化 亚 锡 溶 液 喷 射 到 预 先 加 热 的 玻 璃 管 衬 底 上 ， 备 了 掺 锑 氧 化 锡 透 明 导 电 薄 用 制
掺 杂 后 的 薄膜 电阻 变 小 ， 当锑 锡原 子 比 为 ００ ．４时 点 电 阻 最 小 ， 为 ２ ／ ｍ． 膜 玻 璃 管 在 可 见 光 范围 内透 光 率 随 约 ８Ｏ ｅ 镀 锑掺杂量增多而减小 ．
Ｐｒ ｐ ｒ ｔ ｎ ａ ｄ ｃ ａ ａ ｔ ｒ ｚ ｔｏ ｆ Ｓ ０２ Ｓ ｈ ｎ ｆｌ ｓ ｅ ａ ａ ｉ ｎ ｈ ｒ ｃｅ ｉａ ｉ ｎ ｏ ｎ ｏ ： ｂ ｔｉ ｍ ｉ ｂ ｐ ａ ｙ ｏ ｙ ｉ ｒ ｃ ｓ ｙ ｓ ｒ ｙ ｐ ｒ ｌ ｓｓ ｐ ｏ ｅ ｓ
ｓ ｔ ｃ ａ ｅ Ｔ ｅｌ ｅ ｓ ｔ ｃ （ ｂｕ ２ ／ ｍ ｗ ｓ ｂ ｎ ｄ ｈｎｔ ｏ ｔ ｆ ｂｔ Ｓ ． Ｔ ｅｔ ｓ ｉａ ｃ ｖｌｎｔｅ ｉ ． ｉａ ｅ ｌ ．ｈ ｗ ｓｒ ｉａ ｅ ａ ｏｔ ８Ｏ ｃ ） ａ ｔ ｅ ｅ ｅａ ｍ ｒ ｉ ｏ ｎ ｓ ０ ｈ ａ ｍ ｔ ｎ ｅ ｅ ｅ ｉ ｈ ｓ ｓｎ ｖ ｕ ｏ ｔｅ ｓ ｎ ｏ￣ ｗ ｈ ｔ ａ ｏ Ｓ Ｏ ｉ ０ ４． ｒ ｎ ｔ ｌ ｖｕ
Ｅ ｇｎ ｅｉｇＳ ｈ ｏ，ｎ ｅ ｎｏｉ ｎｖ ｒｉ ｆＳ ｉｎ ｅａ ｄＴ ｃｎ ｌｇ ， ａｔｕ０ ４ １ ， ｈｎ ） ｎ ｉｅ ｒ ｃ ｏ ｌＩｎ ｒＭｏ ｇｌ Ｕ ｉｅｓ ｙｏ ｃｅ ｃ ｎ ｅｈ ｏｏ Ｂ ｏｏ １０ ０ Ｃ ｉａ ｎ ａ ｔ ｙ
Ｋｅ ｙ ｗｏｒ ｓ： ｐａ ｙ ｏｙ ｉ Ｓ Ｏ２： ｂ ｔ ｎ ｆ ｍｓ ｏ ｔｃ ｎ ｌｃｒｃ ｌｐ ｏ ｅｔ ｄ ｓ ｒｙ ｐ ｒｌｓｓ； ｎ Ｓ ｈｉ ｌ ； ｐ ｉａ ａ ｄ ｅｅ ｔｉａ ｒ ｐ ｒｙ ｉ ｌ Ａｂ ｔ ａ ｔ Ｓｎ ： ｂ ｔｉ ｌ ｓｗｅｅ ｐ ｅ ａ ｅ ｙ ｓ ｒｙ ｐ ｒ ｌｓｓｏ ｅｇａ ｓｔｂ ｕ ｓ ｔ Ｔ ｅ ｔｉ ｉ ｒ ｈ ａ ｔｒｚｄ ｂ ｒ ｙｄｆ ａ ｔ ｎ ｓｒ ｃ ： ０２ Ｓ ｈｎ ｆ ｒ ｒｐ ｒｄ ｂ ｐ ａ ｙｏｙ ｉ ｎｔ ｌｓ ｕ ｅｓ ｂ ￣ａｅ． ｈ ｈｎ ｆｍｓｗｅ ｅｃ ａ ｃｅ ｅ ｙＸ—ａ ｉｒ ｃ ｏ ｉ ｍ ｈ ｌ ｒ ｉ ｉ
（ ＸＲＤ）ａｄｓａ ｎｎ ｌｃｒｎｍｉｒｓｏ ｙ（ ＥＭ） Ｔ ｅｒｓｌ ｓｏ ｓｔａ ｅＳ ０ ：ｂｔｉ ｌ ｓｈｖ ｅ ａ ｅｒｌ ｕｉ ｔ ｃｕｅｗ ｔ ａｌｗ ｒ ｅ ｎ ｃ ｉｇｅｅｔ ｃｏｃ ｐ Ｓ ｎ ｏ ． ｅｕｔ ｈ ｗ ｔｈ ｎ ２ Ｓ ｎｆ ａｅｔｒｈ ｄａ ｒｔｅｓ ｕ ｔｒ ｉ ｅ — ｈ ｈ ｔ ｈ ｉ ｍ ｔ ｌ ｒ ｈ ｏ ｒ