一种用于降解土霉素废水的g-CN-PANI复合光催化材料的制备方法[发明专利]

专利名称：一种用于降解土霉素废水的g-CN-PANI复合光催化材料的制备方法
专利类型：发明专利
发明人：孙剑辉,谭露,董淑英,王淼
申请号：CN201810860607.5
申请日：20180801
公开号：CN109126868A
公开日：
20190104
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明公开了一种用于降解土霉素废水的g‑CN‑PANI复合光催化材料的制备方法，属于复合光催化材料的合成技术领域。

本发明的技术方案要点为：将g‑CN加入到硫酸溶液中并超声混合均匀得到溶液A；在冰浴条件下向溶液A中加入苯胺，搅拌混合均匀得到溶液B；继续在冰浴条件下向溶液B中加入(NH)SO，在冰浴条件下继续搅拌反应8h得到溶液C；将溶液C进行抽滤，再用水和酒精反复洗涤三次，然后置于真空干燥箱中于40℃干燥24h后研磨得到g‑CN‑PANI复合光催化材料。

本发明制得的复合光催化材料具有较好的性能和光吸收性能，而且具有可见光响应的光催化性能，在模拟太阳光条件下具有高效降解土霉素废水的性能。

申请人：河南师范大学
地址：453007 河南省新乡市牧野区建设东路46号
国籍：CN
代理机构：新乡市平原智汇知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：路宽
更多信息请下载全文后查看。