chap5 场效应管及其放大电路

合集下载

ch5 场效应管及其基本放大电路

ch5 场效应管及其基本放大电路

1-30
模拟电子 技术
3.2.4 绝缘栅型场效应管
1-31
模拟电子 技术
3.3.2 场效应管微变等效模型
小信号等效模型
与双极型晶体管一样,场效应管也是一种非线性器件,在交流小信号
情况下,也可以由它的线性等效电路—交流小信号模型来代替。
id
d
id
+
g
+
d
g
+++ u gs—
ud s
s
ugs
S

-
g mugs
i D (mA)
4 3
uGS=5V
=4V
gm
iD U
GS U
DS
常数
(单位:
mS )
2 △i D 1 10V
△uGS
=2V
uDS
在输出特性曲线上也可求出gm。http:/
1-11
模拟电子 技术
5.1.2 N沟道耗尽型MOSFET
2.N沟道耗尽型MOSFET
在栅极下方的SiO2层中掺入了大量的金属正离子。所以当 uGS=0时,这些正离子已经感应出反型层,形成了沟道。
(m A)
击穿区
u G S =- 1 V u G S =- 2 V u G S =- 3 V
u
DS
截止区
1-27
模拟电子 技术
3.1.2 结型场效应管
可根据输出特性曲线作出移特性曲线。例:作uDS=10V
(2)转移特性曲线: iD=f( uGS )│uDS=常数 u GS 2 i D I DSS (1 ) U GS ( off )
增强型E
耗尽型D N沟道 结型场效应管D P沟道

场效应管放大电路原理

场效应管放大电路原理

场效应管放大电路原理场效应管放大电路原理1. 介绍场效应管(Field Effect Transistor,简称FET)是一种常用的电子器件,广泛应用于放大、开关和调节电路中。

作为一名文章写手,我将为您详细介绍场效应管放大电路的原理。

2. 场效应管概述场效应管是由源极、栅极和漏极三个主要部分组成的。

其中,栅极与源极之间的电压可以控制漏极电流的大小,从而实现信号的放大和调节。

和双极晶体管相比,场效应管具有输入电阻高、无需偏置电流等优点,因此在电子工程中得到广泛应用。

3. 场效应管放大电路的基本原理场效应管放大电路的基本原理是利用场效应管的特性来放大输入信号。

当输入信号施加在栅极上时,栅极源极间的电压将改变栅极-源极电流的大小,从而改变漏极电流。

根据场效应管工作状态的不同,可分为共源放大器、共漏放大器和共栅放大器三种。

3.1 共源放大器共源放大器是应用最广泛的一种场效应管放大电路。

在共源放大器中,输入信号通过耦合电容施加到栅极上,当信号施加后,栅极-源极电压发生变化,控制栅极-源极电流的大小,进而改变漏极电流。

共源放大器具有放大增益高、输入输出阻抗匹配等特点,适用于多种应用场景。

3.2 共漏放大器共漏放大器是场效应管放大电路的一种重要形式。

在共漏放大器中,漏极连接到电源,源极接地,输入信号通过漏极电阻耦合到栅极。

共漏放大器具有输入电阻高、输出电阻低等特点,适用于对电压放大和阻抗转换要求较高的场合。

3.3 共栅放大器共栅放大器是场效应管放大电路的另一种形式。

在共栅放大器中,信号通过源极电阻耦合到栅极,漏极连接到电源。

共栅放大器具有输入输出阻抗匹配、频率响应宽等特点,适用于高频放大和对输入频率响应要求较高的应用。

4. 实际应用案例场效应管放大电路广泛应用于各种电子设备中。

以音频放大器为例,通过合理选择场效应管的类型和工作点,可以实现对音频信号的放大和调节,保证音频设备的音质。

5. 个人观点和理解场效应管放大电路作为一种常见的放大器,具有输入电阻高、无需偏置电流、放大增益高等技术优点。

场效应管放大电路图大全(五款场效应晶体管放大电路原理图详解)-全文

场效应管放大电路图大全(五款场效应晶体管放大电路原理图详解)-全文

场效应管放大电路图大全(五款场效应晶体管放大电路原理图详解)-全文场效应管放大电路图(一)图3-26所示是一种超小型收音机电路,它采用两只晶体管,这种电路具有较高的灵敏度。

图3-26场效应管在袖珍收音机电路中的应用该电路中,电池作为直流电源通过负载电阻器R1为场效应管漏极提供偏置电压,使其工作在放大状态。

由外接天线接收天空中的各种信号,交流信号通过C1,进入LC谐振电路。

LC谐振电路是由磁棒线圈和电容器组成的,谐振电路选频后,经C4耦合至场效应管VT的栅极,与栅极负偏压叠加,加到场效应管栅极上,使场效应管的漏极电流ID相应变化,并在负载电阻器R1上产生压降,经C5隔离直流后输出,在输出端即得到放大了的信号电压。

放大后的信号送入三极管的基极,由三极管放大后输出较纯净的音频信号送到耳机。

图3-27所示是FM收音机调谐电路,它是由高频放大器VT1、混频器VT3和本机振荡器VT2等部分构成的。

天线感应的FM调频广播信号,经输入变压器L1加到VT1晶体管的栅极,VT1为高频放大器主要器件,它将FM高频信号放大后经变压器L2加到混频电路VT3的栅极,VT2和LC谐振电路构成本机振荡器,振荡信号由振荡变压器的次级送往混频电路VT3的源极。

混频电路VT3由漏极输出,经中频变压器IFT(L4)输出10.7MHz中频信号。

图3-27FM收音机电路(调谐器部分)场效应管放大电路图(二)与双极型晶体管一样,场效AM29LV017D-70EC应管也有三种基本接法:共源、共漏和共栅极接法,其中,共源相当于共发射极接法;共漏相当于共集电极接法;共栅相当于共基极接法。

共源极电路,如图4-19(a)所示,相当于双极晶体管的共发射极电路。

当交流信号Ui经C,加到栅一源极时,使栅极偏压随信号而变,于是控制了ID的变化,在RL上产生压降,通过C2将放大了的信号电压输出。

如果用Rc;表示场效应管的栅极偏置电阻,用R喁表示场效应管的栅一源间电阻,则共源电路的输入电阻R,=Rc//Rcs≈Rc(因Rcs》Rc)。

CH05-场效应管放大电路.

CH05-场效应管放大电路.
2 Kn (VGSQ VT )2 2Kn (VGSQ VT )vgs Kn vgs 2 I DQ g m vgs Kn vgs
静态值 (直流)
动态值 (交流)
非线性 失真项
当,vgs<< 2(VGSQ- VT )时, iD I DQ g m vgs I DQ id
iD 2Kn ( vGS VT ) vDS 1 rdso 2K n ( vGS VT )
其中
Kn Kn 2 W n Cox W L 2 L
n :反型层中电子迁移率
Cox :栅极(与衬底间)氧 化层单位面积电容
' Kn nCox 本征电导因子
g m Rd vo Av vi 1 gm R
s
Ri Rg1 // Rg2
Ro Rd
vo v o v i Ri Avs Av vS v i vS Ri RS
3. 小信号模型分析 (2)放大电路分析(例5.2.6)
( g m vgs )( R // rds ) vo Av vi vgs g m vgs ( R // rds )
2. 工作原理
(以N沟道JFET为例)
② vDS对沟道的控制作用
当vGS=0时, vDS ID
G、D间PN结的反向 电压增加,使靠近漏极 处的耗尽层加宽,沟道 变窄,从上至下呈楔形 分布。 当vDS增加到使 vGD=VP 时,在紧靠漏 极处出现预夹断。
此时vDS 夹断区延长 沟道电阻 ID基本不变
Rg2 VDD 40 5V 2V Rg1 Rg2 60 40
假设工作在饱和区
IDQ Kn (VGS VT )2 (0.2)( 2 1)2 mA 0.2mA

场效应管放大电路

场效应管放大电路

场效应管放大电路
场效应管放大电路4.3.1 直流偏置电路及静态分析
一、直流偏置电路
由场效应管组成放大电路时,也要建立合适的静态工作点Q,而且场效应管
是电压控制器件,因此需要有合适的栅-源偏置电压。

常用的直流偏置电路有两种形式,即自偏压电路和分压式自偏压电路。

1.自偏压电路
,栅极回路的电阻上均无信号电压,所以,于是有
即共漏极电路的输出电阻Ro 等于源极电阻R 和跨导的倒数相并联,所以,输出电阻Ro 较小。

不过,由于一般情况下gm 较小,因而使共漏电路的输出
电阻比共集电极电路的输出电阻高。

由以上分析可知,与三极管共集电极放大电路类似,场效应管共漏极放大电
路没有电压放大作用,其电压增益小于1,输出电压与输入电压相位相同,输
入电阻高,输出电阻低。

可作阻抗变换用。

tips:感谢大家的阅读,本文由我司收集整编。

仅供参阅!。

模拟电子技术第五章场效应管及其放大电路

模拟电子技术第五章场效应管及其放大电路
3而、增转大移(z特ēn性ɡ (dtàè)x。ìng)与漏极特性(tèxìng)间的关系
①在漏极特性(tèxìng)上,对应某一vDS,作一垂直线; ②该垂线与各漏极特性(tèxìng)相交得到一组交点; ③由各交点所对应的vGS 和iD值可画出对应的转移特性(tèxìng)。
第十一页,共54页。
第十二页,共54页。
注意:通过判断VDS是否大 于VGS-VT,来确定 (quèdìng)管子工作在饱和区 还是可变电阻区。 当VGS<VT,管子截止。
例题: 电路如图所示,设Rg1=60kΩ,Rg2=40kΩ,Rd=15kΩ,
VDD=5V,VT=1V,Kn=0.2mA/V2。试计算电路的静态漏极电流 (diànliú)IDQ和漏源电压VDSQ。
例题: 电路如图所示,由电流(diànliú)源提供偏置(可由其
它MOS管构成)。设NMOS管的参数为Kn=160μA/V2, VT=1V, VDD=VSS=5V,IDQ=0.25mA, VDQ=2.5V。试求电路参数。
静态(jìngtài)时,vI=0,VG =0,ID = I
vGS VT
12
vGS VT , vDS vGS VT
第十六页,共54页。
5.1.4 沟道长度调制(tiáozhì)效应
iD Kn
vGS VT
2
KnVT2
vGS VT
2 1
I DO
vGS VT
2 1
iD Kn vGS VT 2 1 vDS
I
DO
vGS VT
12 1 vDS
1. 输出特性
iD f vDS |vGS 常数
vGD= vGS-vDS=VT
可变电阻区(resistive region) —— 饱和区

场效应管及其基本放大电路专业课件PPT

场效应管及其基本放大电路专业课件PPT

uGD=UGS(off),则虚线上各点对应的 uDS=uGS-UGS(off)。
特点:
u u
1、iD几乎与uDS成线性关系,管子相当于线性电阻。
2、改变uGS时,特性曲线斜率变化,因此管子漏极欲源极之间 可以看成一个由uGS控制的线性电阻,即压控电阻。uGS愈负,特 性曲线斜率愈小,等效电阻愈大。
(2)恒流区(饱和区)
3.1.1结型场效应管(JFET)的结构
结型场效应管是一种利用耗尽层宽度改变导电沟道的宽窄 来控制漏极电流的大小的器件。它是在N型半导体硅片的两侧 各制造一个PN结,形成两个PN结夹着一个N型沟道的结构。P区 即为栅极g(G),N型硅的一端是漏极d(D),另一端是源极s(S)。
箭头方向表示栅结正偏或正偏时栅极电流方向。
把开始形成反型层的
uGS值称为该管的开启电 压UGS(th)。
N沟道增强型MOSFET特性曲线
i u
i
uU
u
u
u
u
u
输出特性
u
u
转移特性曲线
在 恒 iD I 流 D 0 (U u G G (tS 区 ) h S -1 )2 I , D 0 是 u G S 2 U G S时 (th iD ) 值 的
(c)进这一时步,增若加在u漏GS,源当间u加GS电>压UGuSD(tSh,)
UDS
就时能,产由生于漏此极时电的流栅极iD,电即压管已子经开比较
启强。,栅极下方的P型半导体表层中
聚集较多的电子,将漏极和源极沟
通就u沟G,可道S值形以电越成形阻大沟成越,道漏小沟。极,道如电在内果流同自I此样D由。时u电在DuSD子栅S电>越极0压,多下, 方作导用电下沟,道i 中D 越的大电。子这,样因,与就P型实区 的现载了流输子入空电穴压极uG性S 相对反输,出故电称流为i D反 型的层控。制随。着uGS的继续增加,反型

电子电工学——模拟电子技术 第五章 场效应管放大电路

电子电工学——模拟电子技术 第五章 场效应管放大电路
1. 最大漏极电流IDM
场效应管正常工作时漏极电流的上限值。
2. 最大耗散功率PDM
由场效应管允许的温升决定。
3. 最大漏源电压V(BR)DS 当漏极电流ID 急剧上升产生雪崩击穿时的vDS值。
4. 最大栅源电压V(BR)GS
是指栅源间反向电流开始急剧上升时的vGS值。
5.2 MOSFET放大电路
场效应管是电压控制器件,改变栅源电压vGS的大小,就可以控制漏极 电流iD,因此,场效应管和BJT一样能实现信号的控制用场效应管也 可以组成放大电路。
场效应管放大电路也有三种组态,即共源极、共栅极和共漏极电路。
由于场效应管具有输入阻抗高等特点,其电路的某些性能指标优于三极 管放大电路。最后我们可以通过比较来总结如何根据需要来选择BJT还
vGS<0沟道变窄,在vDS作用下,iD 减小。vGS=VP(夹断电压,截止电 压)时,iD=0 。
可以在正或负的栅源电压下工作,
基本无栅流。
2.特性曲线与特性方程
在可变电阻区 iD
Kn
2vGS
VP vDS
v
2 DS
在饱和区iD
I DSS 1
vGS VP
2
I DSS KnVP2称为饱和漏极电流
4. 直流输入电阻RGS
输入电阻很高。一般在107以上。
二、交流参数
1. 低频互导gm 用以描述栅源电压VGS对漏极电流ID的控制作用。
gm
iD vGS
VDS 常数
2. 输出电阻 rds 说明VDS对ID的影响。
rds
vDS iD
VGS 常数
3. 极间电容
极间电容愈小,则管子的高频性能愈好。
三、极限参数
D iD = 0

《场效应管放大器》PPT课件

《场效应管放大器》PPT课件
本上不受输出电压 vDS 的影响。
用途: 可做放大器和恒流源。
(3)夹断区:
条件:整个沟道都夹断
V V
GS
P
特点:iD 0
用途:做无触点的、 接通状态的电子开关。
(4)击穿区
当漏源电压增大到 V DS V (BR)DS 时,漏端PN结
发生雪崩击穿,使iD 剧增的区域。其值一般为
(20— 50)V之间。由于VGD=VGS-VDS, 故vGS越负,
随VDS增大,这种不均匀性越明显。 沟道夹断前,iD 与 vDS 近似呈 线性关系。
当VDS增加到使VGD=VGS-VDS =VP 时, 在紧靠漏极处出现预夹断点。
当VDS继续增加时,预夹断区向 源极方向伸长。
电阻增大,使VDS增加不能使漏极也增大,漏极电流 iD 趋于饱和。
4.1.2 伏安特性曲线及参数
(2)恒流区:(又称饱和区或放大区)
条件: (1)源端沟道未夹断
V V
GS
P
(动画2-6)
(2)漏端沟道予夹断
特点:
V DS V GS V P
(1) 受控性: 输入电压 vGS 控制输出电流
i I v V 1
2
D
DSS
GS
P
I 为饱漏极电流 DSS
(2) 恒流性:输出电流 iD 基
2.场效应管分类:
FET 场效应管
JFET 结型
MOSFET (IGFET) 绝缘栅型
N沟道 (耗尽型)
P沟道
增强型
N沟道 P沟道
耗尽型
N沟道 P沟道
5.1.1 结型场效应管:
结构:
D漏极
基底 :N型半导体
G栅极

5v场效应管开关电路

5v场效应管开关电路

5v场效应管开关电路摘要:1.5v 场效应管开关电路概述2.5v 场效应管开关电路的工作原理3.5v 场效应管开关电路的应用领域4.5v 场效应管开关电路的优缺点正文:一、5v 场效应管开关电路概述5v 场效应管开关电路,是一种基于场效应管设计的开关电路,主要应用于5v 电压系统的电子设备中,起到开关、控制、放大等作用。

场效应管(FET)是一种半导体器件,根据栅极电压的不同,可以控制源漏极之间的电流。

在5v 场效应管开关电路中,通过改变栅极电压,实现对电路中电流的控制,从而实现开关功能。

二、5v 场效应管开关电路的工作原理5v 场效应管开关电路的工作原理主要依赖于场效应管的开关特性。

当栅极电压为正时,场效应管处于导通状态,源漏极之间的电流可以流通;当栅极电压为负时,场效应管处于截止状态,源漏极之间的电流被阻断。

因此,通过改变栅极电压的正负,可以实现对电路中电流的控制,从而实现开关功能。

在实际应用中,通常需要对5v 场效应管开关电路进行适当的偏置,以保证其在正常工作电压范围内可靠地工作。

此外,为了提高电路的稳定性和可靠性,还需要对电路进行适当的保护设计,如添加滤波电容、限流电阻等元器件。

三、5v 场效应管开关电路的应用领域5v 场效应管开关电路广泛应用于各种5v 电压系统的电子设备中,如电源开关、信号开关、振荡器、放大器等。

在这些应用中,5v 场效应管开关电路可以实现对电路中电流的快速、精确控制,从而满足电子设备对性能、稳定性等方面的要求。

四、5v 场效应管开关电路的优缺点5v 场效应管开关电路具有以下优点:1.开关速度快:场效应管具有较高的输入电阻和较低的输入电容,可以实现高速开关。

2.电流放大能力强:场效应管的电流放大能力较强,可以实现较大电流的控制。

3.功耗低:与晶体管相比,场效应管的功耗较低,有利于提高电路的能效。

然而,5v 场效应管开关电路也存在一些缺点:1.温度稳定性较差:场效应管的温度稳定性相对较差,随着温度的变化,其性能参数会发生变化,影响电路的稳定性。

第三章场效应管及其放大电路

第三章场效应管及其放大电路
输入电阻高; 工艺简单、易集成、功耗小、体积小、 成本低。
3.1.1 绝缘栅型场效应管
由金属、氧化物和半导体制成。称为金属-氧化物-半 导体场效应管,或简称 MOS 场效应管。
特点:输入电阻可达 109 以上。
类型
N 沟道 P 沟道
增强型 耗尽型
增强型 耗尽型
UGS = 0 时漏源间存在导电沟道称耗尽型场效应管; UGS = 0 时漏源间不存在导电沟道称增强型场效应管。
P+
VDD
G PP++
P+
VDD
N
VGG
S
IS
VGG
S
IS
UGS < 0,UDG = |UGS(off)|, ID更小, 预夹UGS ≤UGS(off) ,UDG > |UGS(off)|,ID 断(1) 改变 UGS ,改变了 PN 结中电场0,夹,断控制了 ID ,故称场效应管 或电压控控元件; (2)结型场效应管栅源之间加反向偏置电压,
此iG0,输入电阻很高。 • JFET是电压控制电流器件,iD受vGS控制 • 预夹断前iD随vDS增长而线性增长;预夹断后,
iD趋于饱和。
{end}
结型场效
应管 结型场效应管的缺点: 1. 栅源极间的电阻虽然可达107以上, 但在某些场合仍嫌不够高。
2. 在高温下,PN结的反向电流增大, 栅源极间的电阻会显著下降。
(a)
D ID
(b)
D ID
G P+ N
P+
VDD
G PP++ N P+
VDD
S
VGG
S
IS
IS
UGS = 0,UDG <

第5章--场效应管及其基本放大电路分析PPT课件

第5章--场效应管及其基本放大电路分析PPT课件

VGG
(uGS)
s
只要不出现夹断区域,沟 道电阻基本决定于uGS, iD随uDS增大线性增大。
2、当uGS为UGS(off) ~ 0 中某一个固定值时,uDS 对漏极电流iD的影响
d iD
(3) 当uDS增大到使uGD=UGS(off)时
g
耗尽层一端出现夹断区。
VDD (uDS)
—称uGD=UGS(off)为预夹断
iD=2.2mA uDS=VDD-RdiD=15-5×2.2 = 4V
当UGS=10V时的预夹断电压为:
管uo子u工R DdS作R =duR 在sGdS可s-V U变D GD 电S (th5 阻) 3 =区3 1 0。1 -4 5 =R5 d6.s6 VV U ID DS11303 3k
例2 电路如图所示,试分析UI为0V、8V和10V 三种情况下Uo为大?
g
N
栅极
N沟道
P沟道
P沟道管的结构示意图和符号
导电沟道
d 漏极 耗尽层
N
g
P
栅极
s 源极 d
s 源极 d
g s
g s
一、结型场效应管的工作原理
为使N沟道场效应管正常工作,应在栅-源之间加负向电 压(UGS<0),保证耗尽层承受反向电压;漏-源之间加正 向电压uDS,形成漏极电流iD。
d
g
N
改变栅-源之间的电压uGS, 就可以改变耗尽层的宽度和 沟道宽度,沟道电阻随之改 变,从而改变漏极电流iD。
沟道增强型管mos沟道增强型沟道增强型mosmos结构示意图和符号结构示意图和符号型硅为衬底型硅为衬底二氧化硅二氧化硅siosio绝缘保护层绝缘保护层两端扩散出两两端扩散出两个高浓度的个高浓度的底之间形成两底之间形成两pnpn由衬底引出电极由衬底引出电极由高浓度的由高浓度的区引出的源极区引出的源极由另一高浓度由另一高浓度区引出的漏区引出的漏由二氧化硅层表由二氧化硅层表面直接引出栅极面直接引出栅极杂质浓度较低杂质浓度较低电阻率较高电阻率较高型硅为衬底型硅为衬底大多数管大多数管子的衬底子的衬底在出厂前在出厂前连在一起连在一起铝电极金因为栅极和漏极源极之间是绝缘的称绝缘栅型场效压就可改变衬底靠近绝缘层处的感应电荷的多少从而控制漏极电流

第4章场效应管及其放大电路

第4章场效应管及其放大电路
uDS >U(BR)DS 后,由于导电沟道所承受的电压降太高,电场很强,致使
栅漏间的 PN 结发生雪崩击穿,漏极电流 iD 迅速增大,因此该区域称
为击穿区。进入击穿区后 FET 不能正常工作,并且可能因为漏极电流
iD 太大而烧毁 FET,通常不允许 FET 工作在击穿区。
4) 截止区。图 4-5a 的(4)区成为 FET 的截止区。当 uGS <UGS(off) ,
场效应管根据结构和工作原理的不同,分为两大类:结型场效 应管(Junction Field Effect Transistor, JFET)和金属-氧化物-半导体 场效应管(MOSFET) ,其中包括耗尽型和增强型。本章先介绍 JFET和MOSFET的结构、工作原理、特性曲线及主要参数,再讨论 场效应管放大电路的3种组态:共源极、共漏极和共栅极放大电路。
10/6/2019
4.1 结型场效应管(JFET)
4.1 N沟道结型场效应管
4.1.1 N沟道结型场效应管的结构
(Drain)
d
(Drain)
g
s
N 沟道
d
(Gate)
(Gate)
(Source)
(Source)
(a) N沟道JFET的结构
(b) P沟道JFET的结构
图4-1 结型场效应管的结构及符号
MOSFET 的栅极处于绝缘状态,其输入电阻可以高达 1015 。
10/6/2019
4.2.1 N沟道增强型M吕电极
SiO2 s
g
绝缘层绝缘层
N
d 铝电极
N
d
g
b
增强型N沟道 s
d
阻挡层
g
b
P 衬底

场效应管及其放大电路(31)

场效应管及其放大电路(31)
B 图 1.4.13
2021/3/8
20
N 沟道耗尽型 MOS 管特性
ID/mA ID/mA
工作条件:
4
UDS > 0;
3
UGS 正、负、
IDSS
2
零均可。
1
+1V
UGS=0
1 V 2 V 3 V
UP
O
UGS /V O 5 10 15 20 UDS /V
(a)转移特性
(b)漏极特性
D
D
图 1.4.14 特性曲线
ID
VDD
UGS UGS
愈负,ID 愈小; = UP,ID 0。
IDSS
图 1.4.5 特性曲线测试电路
UGS(off) O UGS
图 1.4.6 转移特性
两个重要参数
2021/3/8
夹断电压 UGS(off)(ID = 0 时的 UGS)
饱和漏极电流 IDSS(UGS = 0 时的 ID)
9
1. 转移特性
工作原理分析
(1)UGS = 0
S
漏源之间相当于两个背靠背
的 PN 结,无论漏源之间加何种
极性电压,总是不导电。
D
B 图 1.4.9
2021/3/8
15
(2) UDS = 0,0 < UGS < UT P 型衬底中的电子被吸 引靠近 SiO2 与空穴复合,产 生由负离子组成的耗尽层。
增大 UGS 耗尽层变宽。
13
一、N 沟道增强型 MOS 场效应管
1. 结构 源极 S S
栅极 G SiO2 G
D 漏极 D
N+
N+
P 型衬底
B 衬底引线 B
  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

2. 工作原理(P227)
(1)vGS对iD的控制作用
上述分析表明: (a)改变栅源电压vGS的大小,可以有效地控制沟道电阻的大小。 (b)若同时在漏源-极间加上固定的正向电压vDS,则漏极电流iD将受 vGS的控制,|vGS|增大时,沟道电阻增大,iD减小。 (c)上述效应也可以看作是栅-源极间的偏置电压在沟道两边建立了 电场,电场强度的大小控制了沟道的宽度,即控制了沟道电阻 的大小,从而控制了漏极电流iD的大小。
结型场效应管的工作状态可划分为四个区域。 (a) 可变电阻区 可变电阻区位于输出特性曲线的起始部分,它表示vDS较小、管子预夹断前 ,电压vDS与漏极电流iD间的关系。 在此区域内有VP<vGS≤0,vDS<vGS-VP。当vGS一定,vDS较小时,vDS对沟 道影响不大,沟道电阻基本不变,iD与vDS之间基本呈线性关系。若 | vGS | 增加,则沟道电阻增大,输出特性曲线斜率减小。所以,在vDS较小时,源漏极间可以看作是一个受vGS控制的可变电阻,故称这一区域为可变电阻区。 这一特点常使结型场效应管被作为压控电阻而广泛应用。
iD = I D SS
vGS 2 (1 − ) Vp
(VP<vGS≤0)
式中IDSS为vGS=0,vDS≥0 时的漏极电流,称为饱和漏极电流。
4.结型场效应管主要参数 结型场效应管主要参数 (1). 夹断电压VP 当vDS为某一固定值(例如10V),使iD等于某一微小电流(例如50mA)时,栅-源极 间所加的电压即夹断电压。 (2). 饱和漏极电流IDSS 在vGS=0的条件下,场效应管发生预夹断时的漏极电流。 IDSS是结型场效管管 子所能输出的最大电流。 (3). 直流输入电阻RGS 它是在漏-源极间短路的条件下,栅-源极间加一定电压时,栅-源极间的直流电 阻。 (4). 低频跨导gm 当vDS为常数时,漏极电流的微小变化量与栅-源电压vGS的微小变化量之比为 跨导,即
gm反映了栅-源电压对漏极电流的控制能力,是表征场效应管放大能 力的一个重要参数。单位为西门子(s),有时也用ms或?s表示。在放大 电路中,场效应管工作在饱和区(恒流区),gm可由式求得,即
金属-氧化物5.1 金属-氧化物-半导体场效应管

结型场效应管输入电阻:106欧姆~ 109欧姆 金属-氧化物-半导体场效应管(MOSFET)输入电阻: 1015欧姆 MOSFET又称MOS管。 MOS管分类:N沟道、P沟道,且每一类又分为增强型、 耗尽型。 增强型MOS管在vGS=0时,没有导电沟道 耗尽型MOS管在vGS=0时,有导电沟道
2. 工作原理(P226)
在vGS、 vDS两个电源的作用下,iD的大小主要受栅-源电压vGS控制, 同时也受漏-源电压vDS的影响。 因此,讨论场效应管的工作原理就是: 讨论栅-源电压vGS对漏极电流iD(或沟道电阻)的控制作用; 讨论漏-源电压vDS对漏极电流iD的影响。
2. 工作原理(P227)
2.N沟道结场效应管原理
(2) vDS对iD的影响(设vGS值固定,且VP<vGS<0。) 的影响( (b) 当vDS增加到vDS=vGS-VP,即vGD=vGS -vDS=VP(夹断电压)时,沟
道预夹断此时,漏极附近的耗尽层即在A点处合拢,如图(b)所示, 这种状态称为预夹断。与前面讲过的整个沟道全被夹断不同,预夹 断后,漏极电流iD≠0。因为这时沟道仍然存在,沟道内的电场仍 能使多数载流子(电子)作漂移运动,并被强电场拉向漏极。
5.3.1 JFET的结构
N沟道JFET的结构剖面图如图 图中衬底和顶部的中间都是P型半导体,它们连接在一起(图中 未画出)作为栅极g。两个N区分别作为源极s和漏极d。三个电极s、 g、d分别由不同的铝接触层引出。
5.3.1 JFET的结构
P沟道结场效应管
如果在一块P型半导体 的两边各扩散一个高杂 质浓度的N区,就可以 制成一个P沟道的结型 场效应管。P沟道结型 场效应管的结构示意图 和它在电路中的代表符 号如图所示。
2.N沟道结场效应管原理
(2) vDS对iD的影响(设vGS值固定,且VP<vGS<0。) 的影响( 当漏-源电压vDS从零开始增大时,沟道中有电流iD流过。在vDS的作 用下,导电沟道呈楔形:由于沟道存在一定的电阻,因此,iD沿沟 道产生的电压降使沟道内各点的电位不再相等,漏极端电位最高, 源极端电位最低。这就使栅极与沟道内各点间的电位差不再相等, 其绝对值沿沟道从漏极到源极逐渐减小,在漏极端最大(为 |vGD| ),即加到该处PN结上的反偏电压最大,这使得沟道两侧的耗尽层 从源极到漏极逐渐加宽,沟道宽度不再均匀,而呈楔形,如图(a) 所示。
(1)vGS对iD的控制作用(为便于讨论,先假设漏-源极间所加的电压vDS=0。) (a) 当vGS=0时,沟道较宽,其电阻较小,如图(a)所示。 (b) 当vGS<0,且其大小增加时,在这个反偏电压的作用下,两个PN结耗尽 层将加宽。由于N区掺杂浓度小于P区,因此,随着|vGS| 的增加,耗尽层将 主要向N沟道中扩展,使沟道变窄,沟道电阻增大,如图(b)所示。 (c) |v (c)当|vGS| 进一步增大到一定值|VP| 时,两侧的耗尽层将合拢,沟道被夹断, |V 如图(c)所示。由于耗尽层中没有载流子,因此这时漏-源极间的电阻将趋 于无穷大,即使加上一定的电压vDS,漏极电流iD也将为零。这时的栅-源 电压vGS称为夹断电压,用VP表示。
引言
2.场效应管的分类
根据结构和工作原理的不同,场效应管可分为两大类: (1)结型场效应管(JFET) (2)金属-氧化物-半导体场效应管(MOSFET)。
3.本章内容
(1) JFET的结构、工作原理、特性曲线和主要参数 (2) MOSFET的结构、工作原理、特性曲线和主要参数 (3)场效应管放大电路。
Chap5 场效应管及其放大电路
常熟理工学院 物理与电子科学系 2006.11
场效应管(FET) Field Effect Transistor FET是电压控 制电流型器件 分类
MOSFET JFET 场效应管
引言
1.场效应管的特点
(1)它是利用改变外加电压产生的电场强度来控制其 导电能力的半导体器件。 (2)它具有双极型三极管的体积小、重量轻、耗电少、 寿命长等优点, (3)还具有输入电阻高、热稳定性好、抗辐射能力强、 噪声低、制造工艺简单、便于集成等特点。 (4)在大规模及超大规模集成电路中得到了广泛的应 用。
(b) 饱和区(恒流区、线性放大区) 当VP<vGS≤0且vDS≥vGS-VP时,N沟道结型场效应管进入饱和区,即 图中特性曲线近似水平的部分。它表示管子预夹断后,电压vDS与漏极电 流iD间的关系。饱和区的特点是iD几乎不随vDS的变化而变化,iD已趋于 饱和,但它受vGS的控制。 增加,沟道电阻增加,iD减小。场效应管作 线性放大器件用时,就工作在饱和区。 图1中左边的虚线是可变电阻区与饱和区的分界线,是结型场效应管 的预夹断点(vDS=vGS-VP)的轨迹。显然,预夹断点随vGS改变而变化, vGS愈负,预夹断时的vDS越小。 (c) 击穿区 管子预夹断后,若vDS继续增大,当栅-漏极间P+N结上的反偏电压vGD 增大到使P+N结发生击穿时,iD将急剧上升,特性曲线进入击穿区。管 子被击穿后再不能正常工作。 (d) 截止区(又称夹断区) 当栅-源电压 ∣vGS ∣>Vp 时,沟道全部被夹断,iD≈0,这时场效应 管处于截止状态。截止区处于输出特性曲线图的横座标轴附近(图1中未 标注)。
2.N沟道结场效应管原理
(2) vDS对iD的影响(设vGS值固定,且VP<vGS<0。) 的影响(
从结型场效应管正常工作时的原理可知: ① 结型场效应管栅极与沟道之间的PN结是反向偏置的,因此,栅极电 流iG≈0,输入阻抗很高。 ② 漏极电流受栅-源电压vGS控制,所以场效应管是电压控制电流器件。 ③ 预夹断前,即vDS较小时,iD与vDS间基本呈线性关系;预夹断后,iD 趋于饱和。
2.N沟道结场效应管原理
(2) vDS对iD的影响(设vGS值固定,且VP<vGS<0。) 的影响( (c) 若vDS继续增加,使vDS>vGS-VP,即vGD<VP时,耗尽层合拢部分会有增
加,即自A点向源极方向延伸,如图(c),夹断区的电阻越来越大,但漏极 电流iD不随vDS的增加而增加,基本上趋于饱和,因为这时夹断区电阻很大, vDS的增加量主要降落在夹断区电阻上,沟道电场强度增加不多,因而iD基 本不变。但当vDS增加到大于某一极限值(用V(BR)DS表示)后,漏极一端PN结 上反向电压将使PN结发生雪崩击穿,iD会急剧增加,正常工作时vDS不能超 过V(BR)DS。
6V 4V 2V 0V 6V
导电沟道中电位分布情况
2.N沟道结场效应管原理
(2) vDS对iD的影响(设vGS值固定,且VP<vGS<0。) 的影响( (a) 在vDS较小时,iD随vDS增加而几乎呈线性地增加;它对iD的影响应从两
个角度来分析:一方面vDS增加时,沟道的电场强度增大,iD随着增加;另 一方面,随着vDS的增加,沟道的不均匀性增大,即沟道电阻增加,iD应该 下降,但是在vDS较小时,沟道的不均匀性不明显,在漏极附近的区域内沟 道仍然较宽,即vDS对沟道电阻影响不大,故iD随vDS增加而几乎呈线性地 增加(如图(a))。随着vDS的进一步增加,靠近漏极一端的PN结上承受 的反向电压增大,这里的耗尽层相应变宽,沟道电阻相应增加,iD随vDS上 升的速度趋缓。
3.结型场效应管的特性曲线 3.结型场效应管的特性曲线 由于结型场效应管的栅极输入电流iG≈0,因此很少应 用输入特性曲线,常用的特性曲线有输出特性曲线和转 移特性曲线。 (1)输出特性曲线 输出特性曲线 输出特性曲线用来描述vGS取一定值时,电流iD和电压 vDS间的关系,即 它反映了漏-源电压vDS对iD的影响。 N沟道结型场效应管的输出特性曲线如图7所示
相关文档
最新文档