机械设计中电解抛光及电浆抛光介绍

EDTM(电浆抛光) : (Electrolytic Discharge Treatment of Material)

设备由来: 俄罗斯研发制造。

原理: 与传统的电解抛光原理类似。不同的是

EDTM : 以低浓度接近中性(PH值约6.5左右)的药剂作辅助，高直流电压为主，通电后成高压放电作用，在1~3min的时间左右即可达到所需的亮度，毛刺亦可去除0.02~0.04㎜，表面厚度损失约2~3um，对材料的基材损耗非常小。且无环保问题(经SGS检测废水，内无ROHS所禁用的4种重金属含量)，缺点是，耗电量太大。

电化学抛光原理: 如图示

通电后，在阳极工件表面形成一层极薄的黏稠液状黏性膜(或称阳极膜)，其中包含由阳极工件上溶解之金属离子与氧化物以及阴极电解液中解离之阴离子，在适当的电场条件及其它参数作用下，质量传

【黏性层B距离与电解液接近，故电阻小，经过电流较多，所以溶解较快。A距离与电解液距离较远，因此电阻大，通过电流较少，溶解较慢，因而形成凹凸面趋于平滑的现象，而达到表面逐渐抛光效果。】

电场效应:

在工件表面形状尖端处会产生电场集中的效应，吸引的电流越多，尖凸处电解离化就越多。凹处经过的电流少，电解离化也较少，因而逐渐达到抛光的效果。

EDTM(电浆抛光)现象:

EDTM所具备的特性有:

参数控制:在抛光效果之最佳条件，必须由温度、电流密度、电压、导电时间、酸碱值、工件距离、工件挂载角度、药剂浓度及工件抛光总表面积等参数综合考虑，不同材质、不同形状数量之工件均有不同结果，必须经实际测试后找出最佳条件，建立数据库。(有些工件要求较高时，需正反面抛光才能让光泽度较均匀，因为槽液内的气拌只有一个方向)

抛光能力

液的酸碱度、黏度扩散溶解速度等影响因素降低，可改善电解抛光操作参数设定的困难度。

清洁能力: EDTM系统不但定位为快速抛光机构之外，同时亦适合做为各种形状合金表面的去污、

除脂、去氧化层、清洁残留杂质及化学药物，提供光制工件表面镀膜前最优质的前置处理。

样或变形，利用电浆抛光工艺则可降低甚至避免这些问题。

提高金属抗蚀性，因此表面光泽可以在大气中持续数年之久。如不锈钢在电解抛光时，其Cr成分会在表面氧化成Cr2O3，即为抗蚀性极佳之钝化层。电浆抛光的工艺原理也是相同。)

气拌作用: 搅拌可以提高电流密度，且工作件若能在电解液中移动时，可得到较好的抛光效果。因阳极端经过高压电后会产生大量的气泡，而使电阻数升高，会影响电流通过工件的表面，造成抛光效果不佳，气拌可以加速工件表面氧气迅速脱离，周而复始的进行，使被抛物能不断的受离子攻击，而产生最佳的抛光效果。

EDTM(电浆抛光)与传统电解抛光工艺的共同点和差异性:

共同点: 需求项目

1.工件挂于阳极端(反电镀方式)。

2.增加表面平坦要求。

3.工件尺寸精密度要求(失重、变形)。

4.抗腐蚀性要求(钝化层)。

5.复杂形状工件之处理。

6.机械抛光难以处理之金属。

7.高反光率要求。

8.高洁净性要求(去除杂质层、污垢层、碳化层、氧化层、应力层)。

9.高效率加工。

10.去毛刺要求。

11.需增加气拌装置。

工艺条件的差异性:

制程的差异性:

电解抛光的制造流程

1.除脂、除油

2.清洗

3.酸洗

4.冲洗

5.烘干

6.电解抛光

7.清洗

8.酸洗9.冷水洗10.热水洗11.进入后制程

EDTM(电浆抛光)的制造流程

1.电浆抛光

2.弱酸洗

3.冷水洗

4.进入后制程

EDTM系统工艺论述:

EDTM系统设备有他一定的功能与效益，但绝非是一部万能的机器，目前电浆抛光工艺尚无法取代机械抛光的全部功能与作用，只能对金属表面上起微观整平作用，宏观的整平还是需要靠机械抛光来处理，方能得到最理想效果。因此，电浆抛光工艺也只能算是表面处理制程中的一个辅助工段，可缩短一部份的生产制程，并提高产品质量与生产能力，降低因机械抛光所产生的不良率(如变形或过