化学电镀铜工艺介绍
电镀铜工艺-专业介绍
02 电镀铜工艺流程
前处理
01
02
03
表面清洁
去除工件表面的油污、锈 迹和杂质，确保工件表面 干净。
表面粗化
通过物理或化学方法对工 件表面进行粗化处理，增 加表面能，提高镀层附着 力。
敏化处理
在工件表面形成一层敏化 膜，提高工件与镀层的结 合力。
电镀铜
电解铜沉积
在电场作用下，铜离子在 工件表面还原成金属铜， 形成电镀层。
研究电镀铜层的微观结构和性能，以优化电镀铜工艺，提高镀层质量。
环保型电镀铜技术的推广与应用
推广无氰、低氰、低毒的电镀铜工艺，减少对环 境的污染和危害。
研发可回收再利用的电镀铜技术，降低资源消耗 和生产成本。
探索生物可降解的电镀铜添加剂，实现绿色环保 的生产方式。
电镀铜与其他表面处理技术的结合与创新
氰化电镀铜溶液含有剧毒的氰化物，需要严格的安全措施和废水处理。
焦磷酸盐电镀铜
焦磷酸盐电镀铜具有镀层均匀、 整平性好、结晶细致等特点，适
用于装饰性和功能性电镀。
适用于钢铁、锌合金、铝合金等 基材的电镀，具有良好的结合力
和耐腐蚀性。
焦磷酸盐电镀铜溶液稳定性较好， 但溶液成分复杂，维护成本较高。
预镀镍-铜-镍三层电镀
电镀铜工艺-专业介绍
目 录
• 电镀铜工艺简介 • 电镀铜工艺流程 • 电镀铜的种类与特性 • 电镀铜的环保问题与对策 • 电镀铜的发展趋势与未来展望
01 电镀铜工艺简介
电镀铜的定义
电镀铜是一种通过电解方法在金 属表面沉积一层铜的工艺过程。
电镀铜工艺利用电解池原理，通 过铜离子在阴极上还原成铜，形
成致密的铜镀层。
电镀铜层具有良好的导电性、耐 腐蚀性和装饰性，广泛应用于电 子、通讯、航空航天电子产品制造
化学镀技术概述
化学镀技术概述硬盘、CPU和内存被称为计算机的“三大件”。
随着计算机技术的发展，计算机硬盘逐步向小型、薄型、大容量和高速度方向发展。
在计算机硬盘中用于存储数据的是盘片，它由铝镁合金制成，然后在表面进行化学镀Ni-P或Ni-P-Cu，作为后续真空溅射磁记录薄膜的底层。
该镀层要求非磁性、低应力、表面光洁和均匀。
图5-17所示为计算机硬盘及化学镀镍后的CPU。
1.化学镀的原理和特点（1）化学镀的原理化学镀也称为无电解镀或自催化镀，在表面处理中占有重要的地位。
化学镀是指在没有外加电流通过的情况下，利用镀液中还原剂提供的电子，使溶液中的金属离子还原为金属并沉积在工件表面，形成镀层的表面处理技术。
酸性化学镀镍溶液中，还原沉积时的反应式为式中，H2PO2是还原剂。
图5-17 计算机硬盘及化学镀镍后的CPU化学镀镍溶液的组成及其相应的工作条件必须使反应只在具有催化作用的工件表面上进行，镀液本身不发生氧化还原反应，以免溶液自然分解、失效。
如果被镀金属本身是催化剂，则化学镀的过程就具有催化作用。
镍、铜、钴、铑、钯等金属都具有催化作用。
（2）化学镀的特点化学镀与电镀相比，具有如下特点：1）镀层厚度非常均匀，化学镀液的分散能力非常好，无明显的边缘效应，几乎是工件形状的复制。
所以化学镀特别适用于形状复杂的工件，尤其是有深孔、不通孔、腔体等的工件的电镀。
化学镀层非常光洁平整，镀后基本不需要镀后加工。
2）可以在金属、非金属、半导体等各种不同基材上镀覆。
化学镀可以作为非导体电镀前的导电底层镀层。
3）镀层致密，孔隙低，基体与镀层结合良好。
4）工艺设备简单，不需要外加电源。
5）化学镀也有其局限性，例如镀层金属种类没有电镀多，镀层厚度一般没有电镀高，化学镀的镀液成本一般比电镀液成本高。
2.化学镀镍化学镀镍是化学镀中应用最为广泛的一种方法。
化学镀镍多采用次磷酸盐、硼氢化物、氨基硼烷、肼及其衍生物等作为还原剂，其中次磷酸盐由于价格便宜，被广泛应用。
电镀铜的原理
电镀铜的原理电镀铜是一种常见的表面处理工艺，它可以在各种基材表面形成一层致密、均匀的铜镀层，以提高基材的导电性、耐腐蚀性和美观度。
电镀铜的原理主要是利用电化学原理，在电解液中通过外加电流的作用，使铜离子在阴极上还原成固态的铜金属，从而形成铜镀层。
下面将详细介绍电镀铜的原理及其过程。
首先，电镀铜的原理是基于电化学反应的。
在电解液中，铜盐溶液中的Cu2+离子在电流的作用下向阴极迁移，而在阴极上，Cu2+离子接受电子，还原成Cu金属，从而形成铜镀层。
同时，在阳极上，阴极上的金属则被氧化成离子，并溶解到电解液中，以补充阴极上的金属离子流失。
这样，就形成了电镀铜的原理过程。
其次，电镀铜的原理还与电镀液的配方密切相关。
电镀液是电镀过程中的重要组成部分，它包含了铜盐、酸类、缓冲剂等成分。
其中，铜盐是提供铜离子的来源，酸类用于维持电镀液的酸碱度，缓冲剂则可以稳定电镀液的性质，使电镀过程更加稳定和均匀。
不同的电镀液配方会影响电镀铜的效果和质量，因此在实际生产中需要根据具体情况选择合适的电镀液。
另外，电镀铜的原理还与电流密度、温度、搅拌等因素有关。
在电镀过程中，适当的电流密度可以保证铜镀层的均匀性和致密性，而过高或过低的电流密度则会导致铜镀层的质量下降。
此外，适当的温度和搅拌可以促进电镀液中的铜离子迁移和还原反应，从而提高电镀效率和质量。
总的来说，电镀铜的原理是利用电化学原理，在适当的电镀液、电流密度、温度等条件下，使铜离子在阴极上还原成固态的铜金属，从而形成均匀致密的铜镀层。
通过合理控制电镀参数和工艺，可以获得高质量的电镀铜产品，满足不同工业领域的需求。
总结一下，电镀铜的原理是一个复杂的电化学过程，涉及到电解液、电流密度、温度等多个因素的相互作用。
只有在合理控制这些因素的情况下，才能够获得理想的电镀铜效果。
希望通过本文的介绍，能够对电镀铜的原理有一个更加深入的了解，为相关行业的生产和应用提供一定的参考价值。
化学镀工艺流程详解
化学镀工艺流程化学镀是一种在无电流通过的情况下，金属离子在同一溶液中还原剂的作用下通过可控制的氧化还原反应在具有催化表面(催化剂一般为钯、银等贵金属离子)的镀件上还原成金属，从而在镀件表面上获得金属沉积层的过程，也称自催化镀或无电镀。
化学镀最突出的优点是无论镀件多么复杂,只要溶液能深入的地方即可获得厚度均匀的镀层,且很容易控制镀层厚度。
与电镀相比，化学镀具有镀层厚度均匀、针孔少、不需直流电源设备、能在非导体上沉积和具有某些特殊性能等特点；但化学镀镀层质量不很好，厚度上不去，且可镀的品种不多，故主要用于不适于电镀的特殊场合。
近年来,化学镀技术得到了越来越广泛的应用，在各种非金属纤维、微球、微粉等粉体材料上施镀成为研究的热点之一；用化学镀方法可以在非金属纤维、微球、微粉镀件表面获得完整的非常薄而均匀的金属或合金层，而且镀层厚度可根据需要确定。
这种金属化了的非金属纤维、微球、微粉镀件具有良好的导电性，作为填料混入塑料时能获得较好的防静电性能及电磁屏蔽性能,有可能部分取代金属粉用于电磁波吸收或电磁屏蔽材料。
美国国际斯坦福研究所采用在高聚物基体上化学镀铜来研制红外吸收材料。
毛倩瑾等采用化学镀的方法对空心微珠进行表面金属化改性研究,发现改性后的空心微珠具有较好的吸波性能，可用于微波吸收材料、轻质磁性材料等领域。
化学镀所需仪器:电热恒温水浴锅；8522型恒温磁力搅拌器控温搅拌；增力电动搅拌机。
化学镀工艺流程：机械粗化→化学除油→水洗→化学粗化→水洗→敏化→水洗→活化→水洗→解胶→水洗→化学镀→水洗→干燥→镀层后处理。
1化学镀预处理需进行化学镀的镀件一般不溶于水或者难溶于水。
化学镀工艺的关键在于预处理，预处理的目的是使镀件表面生成具有显著催化活性效果的金属粒子，这样才能最终在基体表面沉积金属镀层。
由于镀件微观表面凸凹不平,必须进行严格的镀前预处理,否则易造成镀层不均匀、密着性差,甚至难于施镀的后果。
1.1化学除油镀件材料在存放、运输过程中难免沾有油污，为保证预处理效果，必须首先进行除油处理，去除其表面污物，增加基体表面的亲水性，以确保基体表面能均匀的进行金属表面活化。
化学镀铜的目的及工艺流程介绍
化学镀铜的目的及工艺流程介绍化学镀铜（Eletcroless Plating Copper）通常也叫沉铜或孔化（PTH）是一种自身催化性氧化还原反应。
首先用活化剂处理，使绝缘基材表面吸附上一层活性的粒子通常用的是金属钯粒子（钯是一种十分昂贵的金属，价格高且一直在上升，为降低成本现在国外有实用胶体铜工艺在运行），铜离子首先在这些活性的金属钯粒子上被还原，而这些被还原的金属铜晶核本身又成为铜离子的催化层，使铜的还原反应继续在这些新的铜晶核表面上进行。
化学镀铜在我们PCB制造业中得到了广泛的应用，目前最多的是用化学镀铜进行PCB的孔金属化。
化学镀铜的主要目的是在非导体材料表面形成导电层，目前在印刷电路板孔金属化和塑料电镀前的化学镀铜已广泛应用。
化学镀铜层的物理化学性质与电镀法所得铜层基本相似。
化学镀铜的主盐通常采用硫酸铜，使用的还原剂有甲醛、肼、次磷酸钠、硼氢化钠等，但生产中使用最普遍的是甲醛。
化学镀铜的工艺流程：一、镀前处理1．去毛刺钻孔后的覆铜泊板，其孔口部位不可避免的产生一些小的毛刺，这些毛刺如不去除将会影响金属化孔的质量。
最简单去毛刺的方法是用200～400号水砂纸将钻孔后的铜箔表面磨光。
机械化的去毛刺方法是采用去毛刺机。
去毛刺机的磨辊是采用含有碳化硅磨料的尼龙刷或毡。
一般的去毛刺机在去除毛刺时，在顺着板面移动方向有部分毛刺倒向孔口内壁，改进型的磨板机，具有双向转动带摆动尼龙刷辊，消除了除了这种弊病。
2．整孔清洁处理对多层PCB有整孔要求，目的是除去钻污及孔微蚀处理。
以前多用浓硫酸除钻污，而现在多用碱性高锰酸钾处理法，随后清洁调整处理。
孔金属化时，化学镀铜反应是在孔壁和整个铜箔表面上同时发生的。
如果某些部位不清洁，就会影响化学镀铜层和印制导。
2- 乐思化学电镀铜工艺介绍
镀层不连续 镀层发暗， 镀层发暗，发脆 有暗点
- 光亮剂浓度高 - 有机物污染 –活性炭处理 - 有六价铬 – 以1安培/分米2电介镀出
CUPRALYTE 1545
氰化镀铜工艺 主要应用在铜锌铝合金(zamac)工件 含钾体系 可以负担更高的电流密度 镀层纹理细密 镀层光亮
CUPRALYTE 1545
焦磷酸盐镀铜－ 焦磷酸盐镀铜－各成分作用
焦磷酸铜
提供铜离子 42%的铜为金属形式
焦磷酸钾
提高镀液电导率 协助阳极腐蚀 辅助形成致密的镀层
氢氧化铵
调节镀液pH值 帮助添加剂起作用
焦磷酸盐镀铜－ 焦磷酸盐镀铜－问题解决
光亮性差 - 氨水浓度低 - 氰化物污染 – 用H2O2除去 - 光亮剂少
低电流密度区域镀层发暗 低电流密度区域镀层发暗 - 温度过高 - 氨水过量 – 升高温度 高电流密度区域烧焦 高电流密度区域烧焦 搅拌不足 温度太低 电流密度太高 焦磷酸盐浓度低 铜离子浓度低
针孔
条纹
阳极极化
镀层发暗
氰化物镀铜
镀液组成和操作条件: 镀液组成和操作条件:
挂镀 预镀 10 10 0.5-1.0 50 50-70 普通 20 15 30 10 0.5-2.5 55 50-70 高效率 25-30 40 50 10 2-3 60 75-80 滚镀 40 25-30 0.1-0.4 55
锌
焦磷酸盐镀铜
碱性镀液 对于钢材和ZBDC需要预镀铜 分散能力非常好 操作成本高 没有氰化物的环境污染问题 不需要特殊的阳极 空气搅拌要求严格
焦磷酸盐镀铜
镀液组成和操作条件: 镀液组成和操作条件: 焦磷酸铜 (Cu2P2O7) 焦磷酸钾 (K4P2O7) 氢氧化铵 添加剂 pH值 温度 阴极电流密度 (安培/分米2) 搅拌 阴极电流效率 75 g/L 250 g/L 3.5 ml/L 选择性 8.6-9.2 50-55°C 3.5-4 强力空气搅拌 100%
电镀铜工艺流程及原理
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化学镀铜与直接电镀工艺
一次化学镀厚铜孔金属化工艺不用电镀铜的一次化学镀厚铜进行双面板和多层板孔金属化，可以显著缩短加工周期，降低生产成本，用此种工艺方法很容易作出高精度的印制板。
通过实践证明一次化学镀厚铜的金属化孔可靠性要超过电镀铜，因为一次化学镀厚铜孔内镀层厚度非常均匀，不存在应力集中，特别是对于高密度的印制板小孔金属化（φ0.5以下的孔），对电镀来讲很难达到孔内镀层厚度均匀一致，而用化学镀铜的方法则是轻而易举的事，下面介绍双面和多层板一次化学镀厚铜的生产工艺。
5.1 双面印制板一次化学镀厚铜1）用液体感光胶（抗电镀印料）制作双面电路图形。
然后蚀刻图形。
液体感光胶可以用网印或幕帘式涂布，幕帘法生产效率高，而且涂层均匀无砂眼，网印法易产生气孔砂眼。
液体抗电镀感光胶分辨率非常高，显影无底层。
很容易得到精细的电路图形。
价格比干膜便宜。
蚀刻电路图形之后用5％NaOH去除感光胶层。
2）网印或幕帘式涂布液体感光阻焊剂，制出阻焊图形3）再用液体感光胶涂布板面，用阻焊底片再次曝光，显影，使孔位焊盘铜裸露出来。
4）钻孔5）化学镀厚铜。
1.酸性除油3分钟2.H2SO4/H2O2粗化3分钟3.预浸处理1分钟4.胶体钯处理3分钟②③④⑤⑥⑦①- ④处理液均为酸性溶液，板面上的液体感光胶层不会破坏，其结果是保护板面不受浸蚀，在进行活化时，孔内和板面上的感光胶层吸附了胶体钯。
⑤5％NaOH处理3分钟，然后水冲洗板面上的感光层，连同感光胶上的胶体钯一同被碱溶解下来。
孔内的胶体钯仍然保留。
⑥1％NaOH处理1分钟，然后水冲洗，进一步去除板面上的残胶。
⑦化学镀厚铜4小时，铜层厚度可达到20微米，化学镀铜过程中自动分析自动补加化学成份。
适用于连续化学镀厚铜的配方：CuSO4.5H2O 10g/1EDTA.2Na 40 g/1NaOH 15 g/1双联呲啶10mg/1CN-10mg/1操作条件：温度600C,化学镀铜过程中，通空气搅拌化学镀铜溶液，并连续过滤。
陶瓷化学镀铜工艺
陶瓷化学镀铜工艺
陶瓷化学镀铜工艺是一种常见的表面处理技术，广泛应用于陶瓷制品的生产过程中。
通过化学镀铜，可以在陶瓷表面形成一层均匀、光滑的铜层，不仅美观，还能增强陶瓷制品的硬度和耐磨性。
陶瓷化学镀铜的工艺过程主要包括准备工作、铜溶液配制、浸镀、电镀和后处理等环节。
在进行化学镀铜之前，需要对陶瓷进行清洁和打磨，以确保表面平整干净。
接着，根据具体工艺要求，配制合适的铜溶液，包括铜盐溶液、添加剂和稳定剂等成分，以保证镀层的质量和稳定性。
在浸镀阶段，将经过处理的陶瓷制品浸入铜溶液中，利用化学反应使铜离子还原析出，形成铜层。
浸镀时间和温度的控制对镀层的厚度和均匀性至关重要。
接下来是电镀环节，通过在陶瓷表面施加电流，进一步增加铜层的厚度和硬度。
最后，进行后处理工艺，包括清洗、抛光和保护处理，以提高镀层的光泽度和耐腐蚀性。
陶瓷化学镀铜工艺的优点在于可以实现对陶瓷表面的精细加工和装饰，提高产品的附加值和市场竞争力。
同时，镀铜层还可以提高陶瓷制品的导电性能，扩大其应用领域。
然而，需要注意的是，在进行化学镀铜过程中，要控制好各项参数，避免出现镀层不均匀、气泡等质量问题。
总的来说，陶瓷化学镀铜工艺是一项复杂而精密的技术，需要经过
严格的操作和控制才能达到理想的效果。
只有不断改进工艺，提高生产技术水平，才能更好地满足市场需求，推动陶瓷制品产业的发展。
希望通过不断的研究和实践，陶瓷化学镀铜工艺能够在未来得到更广泛的应用和推广。
电镀铜工艺-专业介绍
电镀铜阳极表面积估算方法
圆形钛篮铜阳极表面积估算方法
— dlf /2
=3.14 d=钛篮直径 l=钛篮长度 f=系数
方形钛篮铜阳极表面积估算方法
— 1.33lwf
l=钛篮长度 w=钛篮宽度 f=系数
f与铜球直径有关:
直径=12mm f=2.2
对铜镀层的基本要求
对镀铜液的基本要求
鍍液穩定，便于維護，對雜質的容忍性高，對溫度
一致。
04
電流密度範圍寬，如在赫爾槽2A下，全板鍍層均勻
板的板厚孔徑比較大時，仍能達Ts:Th接近1：1。
03
单击此处添加正文，文字是您思想的提炼，为了演示发布的良好效果，请言简意赅地阐述您的观点。
密度下，也能得到均勻細致的鍍層，以保證在印制
為何不用電解銅或無氧銅作陽极???
銅粉多，陽极泥多。 鍍層易產生毛刺和粗糙。 銅离子濃度逐漸升高，難以控制。 添加劑消耗量大。 陽极利用率低。
磷銅陽极的特色
通電后磷銅表面形成一層黑色(或棕黑)的薄膜 黑色(或棕黑色)薄膜為Cu3P又稱磷銅陽极膜 磷銅陽极膜的作用 — 陽极膜本身對(Cu+--e→Cu2+)反應有催化、加速作用，從而 減少Cu+的積累。 — 陽极膜形成后能抑制Cu+的繼續產生 — 陽极膜的電導率為1.5X104 -1 cm-1具有金屬導電性 — 磷銅較純銅陽极化小(1A/dm2 P0.04-0.065%磷銅的陽极化 比無氧銅低50mv-80mv)不會導致陽极钝化。 — 陽极膜會使微小晶粒從陽級脫落的現象大大減少 — 陽极膜在一定程度上阻止了銅陽极的過快溶解
02
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化学镀铜配方组成,化学镀铜成分分析及生产技术工艺
化学镀铜配方组成，生产工艺及技术应用1 背景化学镀(Chemiealplating)又称自催化镀;(Autoeatalytieplating)，是指在没有外加电流的条件下，利用溶液中的还原剂将金属离子沉积在具有催化活性的基体表面。
从本质上讲，它发生的是一种自催化的氧化还原反应，又可译为不通电电镀或无电解电镀。
是在基体表面上化学沉积形成金属或合金镀层的一种表面处理技术。
化学镀铜第一次工业应用开始于19世纪50年代中叶，此后化学镀铜技术被大量用于电子和涂装行业，其中印刷电路板的工业生产一度成为规模最大的应用领域。
化学镀铜技术继而被用于金属化工艺，在半导体电子行业等高技术领域扮演着越来越重要的角色，特别是近年来，超大规模集成电路由铝金属化发展为铜金属化工艺以来，化学镀铜技术更加受到关注。
禾川化学引进国外尖端配方解析技术，经过多年的技术积累，成功开发出新型化学镀铜配方技术；该化学镀铜镀层厚度均匀，无明显边缘效应，特别是对复杂形状的基体，在尖角或凹凸部位没有额外的沉积或沉积不足，在深孔、盲孔件、腔体件的内表面也能得到和外表面同样厚度的镀层，因而对尺寸精度要求高的零件进行化学镀铜特别有利；该镀层晶粒细、致密、空隙少，呈光亮或半光亮，比电镀层更加耐腐蚀；该镀铜技术无需电解设备及附件，工艺操作人员也无需带电操作，均可在所需部位镀出合乎要求的镀层。
该镀铜技术广泛应用于电子、汽车、航空等行业。
2化学镀铜常见组成典型的镀液成分主要由无机盐和有机添加剂组成。
无机盐包括CuCl2、CuSO4、氯离子，采用的主要有机添加剂包括促进剂(或称为光亮剂)；抑制剂(表面活性剂，润湿剂，阻化剂)。
2.1铜盐铜盐是化学镀铜的主盐，提供镀铜所需要的铜离子，可以使用CuSO4、CuC12、Cu(NO3)2、Cu(OH)2、(CH3COO)2Cu、酒石酸铜等二价铜盐;目前最常采用的铜盐为硫酸铜,化学镀铜溶液中铜盐的含量越高，镀速越快；但是当其含量继续增加达到某一定值后，镀速变化不再明显。
化学镀铜工艺
化学镀铜主要是用于非金属表面形成导电层，因此在印制板电镀和塑料电镀 中都有广泛应用。铜与镍相比，标准电极电位比较正(0．34v)，因此比较容易从 镀液中还原析出，但是也正因为此，镀液的稳定性也差一些，容易自分解而失效。
(1)工艺配方
硫酸铜 碳酸钠 酒石酸钾钠 硫脲 氢氧化钠 pH 值 三乙醇胺 温度
要想获得延展性好又有较快沉积速度的化学镀铜，建议使用如下工艺：
硫酸铜 氰化镍钾
7～15g／L l5mg
LEDTA 温度 甲醛 析出速度 用氢氧化钠调整 pH 值
45g／L 60℃ l5ml／L 8～10μ m／h l2．5
如果不用 EDTA，也可以用酒石酸钾钠 75g／L。另外，现在已经有商业的 专用络合剂出售，这种商业操作在印制线路板行业很普遍。所用的是 EDTA 的衍 生物，其稳定性和沉积速度都比自己配制要好一些。一般随着温度的上升，其延 展性也要好一些。在同一温度下，沉积速度慢时所获得的镀层延展性要好一些， 同时抗拉强度也增强。为了防止铜粉的产生，可以采用连续过滤的方式来当做空 气搅拌。下表是根据资料整理的稳定性较好的一些化学镀铜液的配方。
⑤使用前再加入还原剂甲醛。
在使用中采用空气搅拌，可提高镀液的稳定性，并可将副反应生成的一价铜 氧化为二价铜，以防止因歧化反应生出铜粉而导致自分解。
在镀液用过后，存放时要将 pH 调低至 7～8，并且过滤掉固体杂质，更换一 个新的容器保存，才可防止自分解失效。
用于非金属电镀的化学镀铜工艺如下：
硫酸铜 37％甲醛 酒石酸钾钠 硫脲 氢氧化钠 温度 碳酸钠 搅拌
(2)配制与维护
7g／L 10g／L 75g／L 0．01g／L 20g／L 12 l0mL／L 40～50℃
镀铜工艺流程,化学镀铜工艺与电镀铜工艺的区别
镀铜工艺流程|化学镀铜工艺与电镀铜工艺的区别镀铜工艺流程镀铜工艺种类不止一种，也不是三言两语就能说清楚的，镀铜工艺特点包括了优点和缺点。
我们先来说下什么是镀铜工艺?镀铜工艺通常分为化学镀铜工艺和电镀铜工艺。
化学镀铜工艺是在有钯等催化活性物质的表面，通过甲醛等还原剂的作用，使铜离子还原析出。
化学镀铜工艺是相对于电镀铜工艺的优势主要有基体范围广泛,镀层厚度均匀,工艺设备简单,镀层性能良好等一系列优势。
电镀铜工艺，PCB制造业中，电镀铜已经应用许多年了，印制板电镀铜溶液属酸性溶液，具有高酸低铜特点，有极好的分散能力和深镀能力镀后的铜层有光泽性。
通俗的说，镀铜工艺其实是一种表面处理技术，在金属表面上镀上一薄层其它金属或合金起保护、美观的作用。
只要你需要保护的，认为有价值的，都可以给它镀上。
镀铜工艺种类1、化学镀铜工艺：是电路板制造中的一种工艺，通常也叫沉铜或孔化（PTH）是一种自身催化性氧化还原反应。
2、电镀铜工艺：用于铸模，镀镍，镀铬，镀银和镀金的打底，修复磨损部分，防止局部渗碳和提高导电性。
电镀铜工艺分为碱性镀铜和酸性镀铜二法。
电镀铜工艺也可以分为以下几个（1）氰化镀铜工艺：氰化物镀铜是应用最早和最广泛的镀铜工艺方法。
镀液主要由铜氰络合物和一定量的游离氰化物组成，呈强碱性。
（2）硫酸盐镀铜工艺：氰化物镀铜，硫酸盐镀铜工艺早期应用于塑料电镀、电铸、精饰等方面，包括装饰层和功能镀层。
在电子工业中较早的应用是印刷电路、印刷板、电子接触元件。
（3）焦磷酸盐镀铜工艺。
（4）无氰镀铜工艺：无氰镀铜工艺完全取代传统氰化镀铜工艺和光亮镀铜工艺，适用于任何金属基材：纯铜、铜合金、铁、不锈钢、锌合金压铸件、铝、铝合金工件等基材上，挂镀或滚镀均可。
镀铜工艺流程1、化学镀铜工艺步骤：膨胀→去钻污→中和→除油→微蚀→预浸→活化→加速→化学镀铜。
2、电镀铜工艺步骤：(1)氰化镀铜工艺步骤：1、浸酸→全板电镀铜→图形转移→酸性除油→二级逆流漂洗→微蚀→二级→浸酸→镀锡→二级逆流漂洗。
化学镀铜的工艺流程
化学镀铜的工艺流程
《化学镀铜的工艺流程》
化学镀铜是一种将铜沉积在其他材料表面的工艺，通常用于增加导电性、增强耐腐蚀性和美化表面。
下面是化学镀铜的工艺流程：
1. 清洗：首先，需要将待镀铜的物品进行清洗，以去除表面的油脂、污垢和其他杂质。
清洗可以使用碱性清洁剂或者有机溶剂来完成。
2. 酸洗：清洗后的物品需要进行酸洗，以去除氧化层和其他表面污染物。
通常使用稀硫酸或稀盐酸来进行酸洗，确保表面完全清洁。
3. 洗涤：酸洗完成后，需要对物品进行彻底的洗涤，以去除酸洗液和其他残留的化学物质。
4. 化学镀铜：将清洗和酸洗后的物品浸入含有铜离子的电镀槽中，通过电化学反应将铜沉积在表面上。
通常使用化学还原剂来还原铜离子，并在合适的电流密度下进行电镀。
5. 漂洗：化学镀铜后，需要进行漂洗，以去除残留的化学镀铜液。
6. 抛光：最后，可以对化学镀铜的物品进行抛光，以提高其表面光洁度和美观度。
通过以上工艺流程，可以获得均匀、致密的镀铜层。
化学镀铜工艺流程不仅适用于金属材料，也适用于塑料、陶瓷等非金属材料，可以满足不同材料的表面处理需求。
焊丝化学镀铜生产技术
焊丝化学镀铜生产技术引言焊丝化学镀铜是一种常用的表面处理技术，用于保护焊丝免受腐蚀和增强其导电性能。
本文将介绍焊丝化学镀铜的工艺流程、原理和应用。
工艺流程焊丝化学镀铜的工艺流程主要包括以下步骤：1.清洗：将焊丝浸泡在碱性清洗液中，去除表面的油污和污染物，确保焊丝表面干净。
2.酸洗：将焊丝浸泡在酸性洗涤剂中，去除焊丝表面的氧化层，提高镀铜效果。
3.镀铜：将焊丝浸泡在含有铜离子的电解液中，通过外加电流，使铜离子还原成铜金属，并在焊丝表面形成一层均匀的铜镀层。
4.洗涤：将焊丝从电解液中取出，用清水彻底冲洗焊丝，去除残留的电解液和其他杂质。
5.烘干：将焊丝放置在烘干炉中，用热风将焊丝表面的水分蒸发，使其完全干燥。
6.包装：将经过镀铜处理的焊丝进行包装，确保其质量在运输和储存过程中不受损。
原理焊丝化学镀铜的原理基于电化学反应。
在镀铜的过程中，焊丝作为阴极，电解液中的铜离子还原为铜金属，并在焊丝表面形成一层均匀的铜镀层。
电流的极性是通过外部电源控制的，同时要根据焊丝的形状和尺寸等参数，调整电流密度和电镀时间，以获得所需的镀层厚度和均匀性。
应用焊丝化学镀铜技术广泛应用于以下领域：1.电子产业：焊丝化学镀铜可以提高焊丝的导电性能和耐腐蚀性，使其更适用于电子元器件的制造。
特别是对于微型电子元器件，焊丝的尺寸较小，需要具有更高的导电性能，以实现更好的电子连接。
2.汽车制造：焊丝化学镀铜可以保护焊丝免受腐蚀，延长其使用寿命。
在汽车制造中，焊丝常用于车身焊接，在恶劣环境下容易受到腐蚀。
通过镀铜处理，焊丝表面形成的铜镀层能有效防止腐蚀，提高焊丝的可靠性和耐久性。
3.通信设备：焊丝化学镀铜可以提高焊丝的导电性能和信号传输质量。
在通信设备中，焊丝常用于连接电路板上的电子元件，稳定的信号传输对设备的性能至关重要。
焊丝通过化学镀铜后，铜镀层的导电性能可以增强信号传输能力，提高通信设备的稳定性和可靠性。
结论焊丝化学镀铜是一种有效的表面处理技术，可以提高焊丝的导电性能和耐腐蚀性，广泛应用于电子产业、汽车制造和通信设备等领域。
镀铜的工艺
镀铜工艺一、概述镀铜工艺是一种常用的表面处理技术，广泛应用于各种领域，如电子、电力、通讯、航空航天等。
铜具有良好的导电性、导热性、耐腐蚀性和延展性，因此在各种环境中具有优良的稳定性和可靠性。
本篇文章将介绍镀铜工艺的原理、应用和影响因素。
二、镀铜工艺原理镀铜工艺是一种电化学过程，通过电解液中的铜离子在基材表面还原成铜金属，形成一层铜镀层。
电解液中的铜离子通过电解作用被还原成铜单质，并在基材表面沉积形成铜镀层。
镀铜过程中，电流的通过是关键，它促进了铜离子的还原反应。
三、镀铜工艺应用1.通讯领域：在通讯领域中，镀铜工艺广泛应用于通信线路的连接器和插孔的制作。
由于铜具有良好的导电性和导热性，能够保证信号传输的质量和稳定性。
2.电力领域：在电力领域中，镀铜工艺被用于制造电线、电缆和变压器等电气设备。
铜镀层能够提高设备的导电性能和耐腐蚀性，延长设备的使用寿命。
3.航空航天领域：在航空航天领域中，镀铜工艺被用于制造飞机和卫星等高精度和高可靠性要求的设备。
铜镀层能够提高设备的导电性能和耐腐蚀性，保证设备的可靠性和安全性。
4.电子领域：在电子领域中，镀铜工艺被广泛应用于制造集成电路、电子元件和印刷电路板等。
铜镀层能够提高电子元件的导电性能和散热性能，保证电子设备的稳定性和可靠性。
四、影响因素1.电解液的成分和浓度：电解液的成分和浓度对镀铜层的结构和性能有重要影响。
合适的电解液成分和浓度能够获得致密的铜镀层，提高铜镀层的硬度和耐磨性。
2.电镀参数的控制：电镀参数的控制对铜镀层的结构和性能也有重要影响。
电流密度、电镀时间和温度等参数的控制能够影响铜离子的还原速度和镀层的结构，从而影响铜镀层的硬度和附着力等性能。
3.基材的表面处理：基材的表面处理对铜镀层的附着力有重要影响。
在电镀前对基材进行适当的表面处理，如清洁、粗化、敏化和活化等，能够提高铜镀层与基材之间的结合力。
电镀铜配方
电镀铜配方电镀铜是一种将铜沉积在其他金属表面的电化学过程。
它广泛应用于电子、电气、汽车、航空航天等行业，用于提高金属表面的导电性、耐蚀性和美观性。
本文将介绍电镀铜的配方、工艺及其应用。
一、电镀铜的配方电镀铜的配方是指用于电镀铜的电解液的成分和比例。
一般来说，电解液包括铜盐、酸和添加剂三个主要组分。
1. 铜盐：电镀铜的主要来源是铜盐，常用的铜盐有硫酸铜、氯化铜和醋酸铜等。
硫酸铜是最常用的铜盐，因其价格便宜、溶解度大而被广泛应用。
2. 酸：酸用于调节电解液的pH值，常用的酸有硫酸、氯化氢和硝酸等。
硫酸是最常用的调节剂，能够提供足够的氢离子，维持电解液的酸性。
3. 添加剂：添加剂主要用于改善电镀铜的性能和工艺特性。
常用的添加剂有增效剂、缓冲剂和抑制剂等。
增效剂能够提高电镀速度和均匀性，缓冲剂用于稳定电解液的pH值，抑制剂则用于抑制杂质的沉积。
二、电镀铜的工艺电镀铜的工艺包括表面处理、电解液配置、电镀设备选择和电镀参数控制等步骤。
1. 表面处理：在进行电镀铜之前，需要对金属表面进行处理，以去除氧化物、油脂和杂质等。
常用的表面处理方法有酸洗、溶剂清洗和机械抛光等。
2. 电解液配置：根据所需镀层的厚度和性能要求，合理配置电解液的成分和比例。
通过控制铜盐和酸的浓度、添加剂的种类和浓度等参数，可以调节电镀铜的性能。
3. 电镀设备选择：根据电镀对象的尺寸和形状，选择合适的电镀设备。
常用的电镀设备有槽式电镀槽、滚筒电镀槽和喷涂电镀设备等。
4. 电镀参数控制：通过控制电镀时间、电流密度和温度等参数，实现对电镀过程的控制。
合理的电镀参数可以确保镀层的均匀性和附着力。
三、电镀铜的应用电镀铜广泛应用于各个领域，以下是几个常见的应用领域：1. 电子行业：电镀铜用于制造电路板，提高电路板的导电性和耐蚀性。
电路板是电子产品的重要组成部分，电镀铜的优良性能能够保障电子产品的可靠性和性能。
2. 电气行业：电镀铜用于制造电线电缆，提高电线电缆的导电性和耐腐蚀性。
铜电镀工艺(3篇)
第1篇一、引言电镀作为一种表面处理技术，广泛应用于金属材料的表面处理领域。
铜电镀工艺作为电镀技术的重要组成部分，具有广泛的应用前景。
本文将详细介绍铜电镀工艺的基本原理、工艺流程、影响因素及应用领域。
二、基本原理铜电镀工艺是利用电解原理，在金属工件表面沉积一层铜的过程。
在电镀过程中，阳极（铜棒）溶解，铜离子迁移至阴极（工件）表面，并在工件表面还原沉积，形成均匀、致密的铜层。
电镀原理可用以下公式表示：阳极：Cu → Cu2+ + 2e-阴极：Cu2+ + 2e- → Cu三、工艺流程1. 工件预处理工件预处理是电镀工艺的第一步，主要包括清洗、除油、除锈、活化等步骤。
（1）清洗：去除工件表面的灰尘、油污等杂质，保证电镀质量。
（2）除油：采用有机溶剂或碱性溶液去除工件表面的油脂。
（3）除锈：使用酸液去除工件表面的氧化皮、锈蚀等。
（4）活化：在酸性溶液中，使工件表面形成一层活性膜，有利于铜离子的吸附。
2. 电镀液配制根据工件材料和电镀要求，选择合适的电镀液。
常用的铜电镀液有硫酸铜-硫酸溶液、硫酸铜-硫酸-酒石酸钾钠溶液等。
3. 电镀过程将工件放入电镀槽中，接通电源，调整电流密度、温度、时间等参数，使工件表面沉积一层均匀、致密的铜层。
4. 镀层后处理（1）清洗：去除工件表面的电镀液残留物。
（2）钝化：在酸性溶液中，使镀层表面形成一层钝化膜，提高镀层的耐腐蚀性。
（3）干燥：将工件置于干燥箱中，去除镀层表面的水分。
四、影响因素1. 电流密度：电流密度过高，镀层粗糙、不均匀；电流密度过低，镀层薄，耐腐蚀性差。
2. 温度：温度过高，镀层易产生针孔、气泡；温度过低，镀层沉积速度慢，易产生灰暗色。
3. 搅拌：搅拌速度过快，镀层易产生针孔、气泡；搅拌速度过慢，镀层易产生灰暗色。
4. 电镀液成分：电镀液成分比例不合适，镀层质量差。
五、应用领域1. 电子产品：如电子元器件、接插件、印刷电路板等。
2. 汽车零部件：如汽车发动机、变速箱、制动系统等。
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镀层不连续 镀层发暗，发脆
- 光亮剂浓度高 - 有机物污染 –活性炭处理
有暗点
- 有六价铬 – 以1安培/分米2电介镀出
CUPRALYTE 1545
氰化镀铜工艺 主要应用在铜锌铝合金(zamac)工件 含钾体系 可以负担更高的电流密度 镀层纹理细密 镀层光亮
CUPRALYTE 1545
缺点 温度要求严格 对于许多基础金属要求 预镀沉积底层 镀液有腐蚀性 需要使用含磷的阳极
电镀液组成和操作条件
范围
硫酸铜 (g/L) 硫酸 (g/L) 氯化物 (ppm) 添加剂 阳极电流密度 (A/dm2) 200-220 75-80 80 有 2-8
温度
阳极 搅拌
15-40°C
磷铜 空气
焦磷酸盐镀铜－各成分作用
焦磷酸铜
提供铜离子 42%的铜为金属形式
焦磷酸钾
提高镀液电导率 协助阳极腐蚀 辅助形成致密的镀层
氢氧化铵
调节镀液pH值 帮助添加剂起作用
焦磷酸盐镀铜－问题解决
光亮性差 - 氨水浓度低 - 氰化物污染 – 用H2O2除去 - 光亮剂少
低电流密度区域镀层发暗 - 温度过高 - 氨水过量 – 升高温度 高电流密度区域烧焦 搅拌不足 温度太低 电流密度太高 焦磷酸盐浓度低 铜离子浓度低
阴极电流效率
98-100%
硫酸盐镀铜各成分的作用
硫酸铜
提供铜离子
硫酸
提高镀液电导率, 溶解阳极
氯离子
保证有机添加剂起作用
添加剂
装饰性的 轮转影印 印刷电路
得到光亮、平整、易延展、低内应力的镀层。 得到平整、硬度均一的低内应力镀层。 得到无内应力的镀层，提高分散能力以便在 孔内也能得到平整镀层，同时镀层必需耐热。
乐思化学电镀铜工艺介绍
铜
元素符号 原子量 化合价: Cu 63.54
+1, +2
较软，易延展的红色金属 良好的传导性 (导电和导热) 铜是最常用的电镀金属之一
电镀铜－特点
覆盖能力强，是极好的打底镀层 镀液电流效率高，且具有相当惰性 铜镀层导电性好，用在印刷线路板尤其合适 铜镀层可以吸收热应力，作为热胀阻挡层，对 塑料基材特别有效
电镀铜－应用领域
在装饰上的应用 镀镍的中间层 印刷线路板 电铸 阻止钢铁表面硬化 印刷滚轮和印刷板 拔丝润滑剂 减小电阻 修理和抢救
电镀铜－体系
酸性镀铜 硫酸盐镀铜 氟硼酸盐镀铜
碱性镀铜 氰化物镀铜 焦磷酸盐镀铜
硫酸盐镀铜体系
优点 杂质容忍能力 最简单的化学反应 较宽的操作范围 成本低 良好的微观分散能力
CUPROSTAR 1525
酸性镀铜 应用在塑料镀POP上 整平性好 光亮性好 走位能力好 延展性好
Questions?
Thank You!
表现卓越的专业化学品公司
预镀 10 10 0.5-1.0 50
50-70
普通 20 15 30 10 0.5-2.5 55
50-70
高效率 25-30 40 50 10 2-3 60
75-80
滚镀 40 25-30 0.1-0.4 55
变化
温和空气搅拌或移动阴极搅拌
氰化物镀铜
各组分作用
氰化铜 自由氰根 提供铜离子 可能是氰化钾或氰化纳 形成可溶的铜的络合物 防止铜的过分沉积 腐蚀阳极 提高镀液电导率
酸性硫酸盐镀铜－问题解决
烧焦 金属离子少 温度低 酸度低 有机污染 氯离子浓度 低(低于 60 ppm) 氯离子浓度高 (高于 130 ppm) 铁离子污染 温度低 阳极不合适 缺少光亮剂
针孔
条纹
阳极极化
镀层发暗
氰化物镀铜
镀液组成和操作条件:
挂镀
金属铜 (g/L) 自由氰化钠 自由氰化钾 酒石酸钾 氢氧化纳或氢氧化钾 阴极电流密度 (A/dm2) 温度(°C) 搅拌 电流效率 (%)
氰化镀铜－镀液污染
有机物 碳酸盐 铬 - 油, 油脂, 抛光物等 - 采用活性炭处理除去 - 能降低阴极电流效率并造成镀层粗糙 - 冷却除去 - 造成针孔、烧焦或部分镀不上 - 采用添加剂络合
氰化铁
- 和没有包覆的铁槽的铁反应得到 - 会导致阳极极化和镀层粗糙 - 冷却除去
- 从铸造模具脱落的锌 - 会导致镀层不连续 - 以0.5安培/分米2电镀除去
酒石酸钾
氢氧化纳或氢氧化钾
辅助腐蚀阳极 辅助形成细密的镀层
提高分散能力 提高镀层光亮度 提高镀液电导率 减小阳极极化 氢氧化钾提高阴极电流效率
氰化ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ铜-问题解决
蓝色或蓝绿色镀液
缺少自由氰根
一般琥珀色但有极化
缺少腐蚀性盐或酒石酸钾
产生气体过多
“自由”氰根浓度过高 铜离子浓度低 温度低
铜浓度低 ► 废水处理成本低 操作温度低 ► 能耗低 维护仅需两种添加剂 ► 控制简单
CUPROSTAR 1560
酸性镀铜 用在POP塑料镀，锌压铸件，铜基材 整平性高 光亮性好 走位能力佳
CUPROSTAR 1560
可以在较高温度操作 消耗率低 可以通过赫尔槽打片，来控制槽液 在镀镍前，该铜镀层可以很容易活化
锌
焦磷酸盐镀铜
碱性镀液
对于钢材和ZBDC需要预镀铜 分散能力非常好
操作成本高
没有氰化物的环境污染问题 不需要特殊的阳极 空气搅拌要求严格
焦磷酸盐镀铜
镀液组成和操作条件:
焦磷酸铜 (Cu2P2O7) 焦磷酸钾 (K4P2O7) 氢氧化铵 添加剂 pH值 温度 阴极电流密度 (安培/分米2) 搅拌 阴极电流效率 75 g/L 250 g/L 3.5 ml/L 选择性 8.6-9.2 50-55°C 3.5-4 强力空气搅拌 100%