全功能气体分析仪CPM%20Brochure_chs

1 至 100amu
Biblioteka Baidu
1 至 200amu
1 至 300amu
< 1 amu
封闭型离子源
5E-7 至 1E-3 乇 (6.6E-7 至 1.3E-3 毫巴)
±25% 1E-6 至 1E-3 乇(1.3E-6 至 1.3E-3 毫巴)
1E-3 乇(1.3E-3 毫巴)
2E-4 乇(2.6E-4 毫巴)
1E-8 乇(1.3E-8 毫巴)至 2 大气压
HexBlock (带阀和小孔) 过程侧的视图
小孔
铜垫圈
校准腔室
吸枪 连接件
旁通
高通导 注入口
旁通管 与 CDG
减小尺寸(长度从 18 厘米减小至 7.1 厘米) CDG 真空计口监测过程压强, 确定哪一个注入 口用于取样和提供真空联锁. 校准口可连接可选的参考气源, 用于调谐与灵敏 度参考. 吸枪结构可达到与实际反应过程接近的取样. 各种工艺连接件(CF40,KF40 和 KF25).
全功能气体分析仪
1
用于监测最新过程的 全功能气体分析仪
INFICON Transpector CPM 的下列性能可在低成本 下实现现场早期报警:
测量气相反应; 验证真空的完整性; 鉴别痕量污染物; 测量过程与本底的组分; 定性气体纯度.
单组合件 HexBlock 注入口,并配用抗腐蚀泵. 检测器 采用封闭型的,以及在苛刻的应用与在亚 ppm 量级鉴 别污染物条件下能保持长寿命的离子源(CIS).
为适应某些复杂应用,如刻蚀和 CVD 中存在腐蚀性极 高的气体, 我们采用化学惰性优等的 316 不锈钢加工
INFICON CPM 小型过程监测器将提供您所预期的， 来自 INFICON 公司的卓越性能,多功能性和价值，一 个小型仪器提供的全功能与牢靠性，可用于 7 天 24 小 时的连续生产监测和基础实验室的科研应用.
2
CPM 的构成
1 CPM 电子学件 2 CPM 传感器 3 传感器连通管和加热器 4 校准参考源, 选件 5 HexBlock 注入口 6 工艺连接件
(CF40,KF40 或 KF25) 7 过程真空计(CDG) 8 级际连接件,用于高压强 9 UHV 复合泵 10 内置前级管道组件 11 电磁阀 12 氮调节器(用于氮冲洗和阀
1 带 EM 的 NDPP 在 10,000 增益和 1-秒停留时间下 2 质量数 40 对 41amu 的贡献 3 零 blast 对 2amu 的贡献 4 最小可检浓度,氪在空气中在 1-秒停留时间下 5 低发射下的线性,在 0.1 至 2 倍常规小孔压强下
尺寸
4
内置电容薄膜真空计(CDG)精确地监测过程压强,并 可真空联锁, 备有用于调谐和气体参考的校准参考源 选件.
CPM 的特点
用于监测复杂过程的四极气体分析系统. 允许 7 天 24 小时连续监测,达到最大的产额和产量, 从而将成本降至最低. 足够的小型和性能,可安装在压强很高的真空室内. HexBlock 取样系统的最佳性能. 内置 CDG, 用于过程压强监测和真空联锁. 备有可选的校准参考源, 用于调谐和气体参考. 封闭的长寿命离子源可在阻挡大多数腐蚀性和反应性气体的同时,检测亚 ppm 量级的 污染物. 重量轻,易搬运.
> 4.0E-6 安/乇 (>3E-6 安/毫巴) > 2.0E-5 安/乇
(>1.5E-5 安/毫巴)
1.0E-13 乇 (1.3E-13 毫巴)
> 2.0E-6 安/乇 (>1.5E-6 安/毫巴) > 1.0E-5 安/乇
(>7.6E-6 安/毫巴)
2.0E-13 乇 (2.6E-13 毫巴)
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技术规范
质量范围 峰宽,在 10%峰最大值处 离子源类型 总压强范围 1 总压强精度 2 离子源最大工作压强 3 离子源常规工作压强 4 系统工作压强 (带小孔/毛细管) 倍增器增益,1225 伏 5
灵敏度: 低发射,FC 模式
高发射,FC 模式
最小可检分压强 6
同位素灵敏度 7 零 Blast8 检测值限 9 线性 10 最小本底压强 传感器和注入口的最工作温度
全力支持
作为半导体市场 RGA 产品的 领先者, INFICON 具有发展创 新与可靠的,增长产量的监测 系统资源,加上全球应用网络, 需要时可随时随地提供专家支 持与协助.
INFICON CPM 小型过程监测器是一台全功能、轻便、 高性能气体分析仪，理想地用于现场监测复杂的过程. 其干式抽空系统采用 INFICON Transpector 2 气体分 析系统的验证技术,并达到新的性能水平.
驱动)
注入口
在各种环境中 最高性能
灵活的过程监测对气体分析 仪有特殊的要求. 它们必须 能处理在生产周期各个阶段 发生的很宽的压强范围;必 须能耐受腐蚀性气体; 体积 必须足够小,以便装配于密集的工具或真空室中. 我 们开发的创新型 HexBlock 注入口能满足以上要求, 并达到最佳性能. 4 个阀门可高真空取样,两差分过程压强取样,和 高压强旁通取样—均无需更换小孔. 可切换的小孔使 CPM 可用于监测各种过程. 用化学惰性的 316 不锈钢加工,可耐受苛刻的气 体条件,性能优于 304 不锈钢. 单组合件结构, 表面积小使表面反应降至最小和 加快反应时间. 表面抛光, 进一步使表面反应最小化.
> 1.0E-6 安/乇 (>7.6E-7 安/毫巴) > 5.0E-6 安/乇
(>3.8E-7 安/毫巴)
4.0E-13 乇 (5.3E-13 毫巴)
6 使用总压强规管在低发射下的压强调值 7 低发射下的总压强精度 8 低发射下离子源最大工作压强(灯丝关断阈值) 9 在封闭型离子源中 2E-4 乇,在四极场范围中将产生约 1E-5 乇 10 最小 EM 增益在最大 EM 电压下
CPM 良好的适配性
空间是可贵的,我们的 CPM 占空间小,可灵活安装.为对 被分析气体影响最小和在宽压强范围内快速提供结果, 我们开发了多功能的 HexBlock 注入口. 为确保最高的 性 能 与 可 靠 性 , 我 们 采 用 已 在 12,000 台 以 上 Transpector 2 气体分析系统上得到验证的四极传感 器.