破坏臭氧层物质清单
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破坏臭氧层物质清单
中山凯利电器有限公司
破坏臭氧层物质清单
序号物质名称通常涉及范围我公司使用范
围
坐垫、床垫、汽车内饰、绝热建筑管材、板材等; 汽车、办公室 1. CFC-11 板材发泡剂; 透平式制冷机用制冷剂; 烟丝膨
胀剂; PU 软泡; 箱式PU 软泡
PS 片材、PE 网管、棒等; 制冷剂; 其它空调设办公室 2. CFC-12
备、冷冻冷藏和运输; 冷藏设备用制冷剂; PS/PE
挤出泡沫
清洗剂冷气机 3. CFC-113
低温制冷设备冷气机 4. CFC-114 氯物质(完
食品冻结设备全卤化链5. CFC-115 ,
烷) 电子医疗用低温设备 6. CFC-13 ,
清洗剂 7. 四氯化碳CTC ,
1,1,1-三氯乙烷(甲基氯清洗剂 8. ,
仿,TCA)
HCFC-22 9. ,
HCFC-141b 10. ,
灭火系统生产 11. 哈龙哈龙1301 ,
灭火器生产、灭火系统生产 12. 哈龙1211 ,
CH3Br 13. 溴物质 ,
空气 14. 二氧化碳(C02)
15. C0(一氧化碳) ,
灯泡部 16. 甲烷(CH4) 碳化物
17. 非甲烷烃类物种 ,
18. 氮化物氧化亚氮(N2O) ,
19. 氮氧化物(NOx) ,
20. CH3Cl ,
CHF2Cl(CFC,22) 21. , 氯物质(部
分卤化链CH3CCl3 22. , 烷) CHFCl2(CFC,21) 23. ,
空气 24. 氢物质氢(H2)
生活区 25. 水水(H2?)
编制: 审核:
破坏臭氧层物质特性
(a) 碳物质
一氧化碳(CO)
一氧化碳的重要来源是自然界和人类,据认为对对流层的光化过程有重要的直接作用,对平流层的光化过程则有间接作用。
二氧化碳(CO2)
二氧化碳的重要来源是自然界和人类,通过影响大气的热构造而影响到平流层的臭氧。
甲烷(CH4)
甲烷来自自然界和人类。对平流层和对流层的臭氧都有影响。
非甲烷烃类物种
非甲烷烃类物种含有许多化学物质,来自自然界和人类,对对流层的光化过程有直接作用,对平流层光化过程则有间接作用。
(b) 氮物质
氧化亚氮(N2O)
氧化亚氮主要来自自然界,不过人类来源也变得愈来愈重要。氧化亚氮是平流层NOx的主要来源,NOx对于平流层臭氧充裕的控制有重要作用。
氮氧化物(NOx)
NOx的地平面来源,只对对流层的光化过程有直接的重要作用,对平流层的光化过程则有间接作用,而接近对流层顶的NOx注射可能对上对流层和平流层的臭氧直接引起变化。
(c) 氯物质
完全卤化链烷,例如CCl4,CFCl3(CFC,ll),CF2Cl2(CFC,12),
C2F3Cl3(CFC,113),C2F4Cl2(CFC,114)
完全卤化链烷来自人类,是ClOx的一个来源,对臭氧的光化过程有重要作用,尤其是在海拔30一50公里区域。
部分卤化链烷,例如CH3Cl,CHF2Cl(CFC,22),CH3CCl3,CHFCl2(CFC,21) CH3Cl来自自然界,而上列其他部分卤化链烷则来自人类。这些气体也是平流层ClOx的来源。
(d) 溴物质
全部卤化链烷,例如CF3Br这些气体来自人类,是BrOx的来源,其作用类似ClOx。
(e) 氢物质
氢(H2)
氢是来自自然界和人类,对平流层的光化过程的作用不大。
水(H2?)
水来自自然界,对平流层和对流层的光化过程都有重要作用。平流层水蒸气的本地来源包括甲烷的氧化以及较小程度上氢的氧化。