第四章存储子系统半导体存储器1讲解
《半导体存储器》课件
嵌入式系统中的应用
半导体存储器广泛应用于 嵌入式系统,如智能家居、 汽车电子和工业控制。
计算机内存
半导体存储器是计算机主 存储器的重要组成部分, 用于临时存储数据和程序。
智能手机内存
手机内存运行应用程序和 存储数据,半导体存储器 提供了高速和可靠的数据 存取。
未来半导体存储器的发展方向
1 3D垂直存储器
《半导体存储器》PPT课 件
半导体存储器PPT课件大纲
什么是半导体存储器?
半导体存储器定义
半导体存储器是指使用半导体材料制造的存储器,它可以将数据存储在芯片内部的电子元件 中。
存储器的分类
常见的半导体存储器包括静态随机存取存储器(SRAM)、动态随机存取存储器(DRAM)和 闪存存储器。
常见的半导体存储器
通过增加垂直堆叠层数来增加存储容量,提高存储密度和性能。
2 非易失性存储器
开发更加稳定和可靠的非易失性存储器,提供更长久的数据存储和保护。
3 全新器件技术
研发新型的器件结构和材料,以满足不断增长的存储需求和更高的速度要求。
总结
半导体存储器的重要性
半导体存储器在现代计算和通信领域发挥着关键作用,对技术和社会的发展产生积极影响。
静态随机存取存储器 (SRAM)
SRAM具有快速读写速度和较 短的访问时间,适用于高性 能的应用。
动态随机存取存储器 (DRAM)
DRAM具有较大的存储容量和 较低的成本,广泛应用于个 人电脑和服务器。
闪存存储器
闪存存储器具有非易失性和 较高的耐用性,适用于便携 设备的存储需求。
半导体存储器的工作原理
1
SRAM的工作原理
SRAM使用触发器实现数据的存储和读取,具有较快的访问速度和数据保持能力。
《存储子系统》课件
云存储服务
云存储服务是一种基于云计算的存储服务,可以 01 提供灵活、可扩展和高可用的数据存储和管理。
云存储服务通常采用分布式存储架构,将数据分 02 散存储在多个节点上,以提高数据的可靠性和可
用性。
云存储服务还提供了丰富的API和SDK,方便开发 03 人员进行数据存储和管理,同时也提供了完善的
机遇
随着数据安全和隐私保护需求的增长,将促进存储子系统相关技术的创新和发展,为存储 子系统带来更多的发展机遇和市场空间。同时,也将推动相关法规和标准的制定和完善, 为数据安全和隐私保护提供更加有力的法律保障。
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《存储子系统》PPT 课件
目录
• 存储子系统概述 • 存储子系统的构成 • 存储子系统的技术原理 • 存储子系统的应用场景 • 存储子系统的性能评估与优化 • 未来存储子系统的发展趋势
01
存储子系统概述
定义与功能
01
定义
存储子系统是计算机系统中用于存储数据的硬件 和软件的集合。
02
功能
存储子系统负责数据的存储、读取、备份和恢复 ,为计算机系统提供可靠、高效的数据存储支持
负责管理存储空间的分配和卷的创建。
数据迁移软件
用于将数据从旧存储介质迁移到新介质。
存储介质
01 机械硬盘
具有较高的容量和较低的 价格,但性能相对较低。
03 固态硬盘
具有较高的性能和较快的
读写速度,但价格较高。
02 磁带
具有极高的容量和较低的
价格,但访问速度较慢。
04 光盘
适用于长期归档和离线存
储,具有较好的耐久性。
数据备份与恢复原理
1 2
数据备份方式
半导体存储器工作原理和最新技术
半导体存储器工作原理和最新技术随着现代社会的快速发展,信息技术技术的发展也日新月异。
作为信息技术中不可或缺的部分,存储器技术一直在不断地更新发展。
其中,半导体存储器作为一种重要的存储器类型,其工作原理和最新技术备受人们关注。
一、半导体存储器工作原理半导体存储器是一种将位于半导体芯片上的电荷量代表数据的存储器。
半导体存储器主要分为两大类:随机访问存储器(RAM)和只读存储器(ROM)。
1.1 随机访问存储器(RAM)RAM分为动态随机访问存储器(DRAM)和静态随机访问存储器(SRAM)两种。
DRAM的存储单元为电容器,单元大小为1位。
SRAM的存储单元为双稳态触发器,单元大小为1至4位。
DRAM的电容器存储单元会因电容器内部漏载而持续降低,因此需要周期性地重新刷新。
此外,DRAM单元还需要进行复杂的读写时间控制。
SRAM则不需要刷新电容器和时间控制,但存储单元占用面积较大,并需要额外的电源驱动。
1.2 只读存储器(ROM)ROM是一种只可读取而不能修改的存储器。
ROM中存储单元的电荷量是由制成时设置的金属焊点决定,即“掩膜”制造技术,这种存储器能够非常方便地实现电路的控制功能。
二、半导体存储器最新技术半导体存储器技术也在不断更新发展中。
这里将介绍三种最新的半导体存储器技术。
2.1 革命性大规模存储器技术革命性大规模存储器技术是一种新的存储器类型,它能够实现超过TB级别的数据存储。
这种存储器采用叠层非易失存储器和InP HEMT收发器,能够实现一次读取数百Gbits的数据,传输速度极快。
2.2 基于电容器的晶体管门极控制技术基于电容器的晶体管门极控制技术是实现高密度存储的一种方法。
目前的主流半导体存储器采用平面电容器单元,但其占用面积较大。
所以,一种新的基于电容器的晶体管门极控制技术被提出。
这种新技术利用了电容器单元与相邻晶体管的栅极之间的短距离联系,降低了存储单元面积,同时提升了数据存取速度。
2.3 基于氧化硅和二氧化硅的存储器技术基于氧化硅和二氧化硅的存储器技术被广泛应用于普通高密度存储器。
《半导体存储器》课件
制造设备
用于将掺杂剂引入硅片。
用于在硅片上生长单晶层 。
掺杂设备 外延生长设备
用于切割硅片。
晶圆切割机
制造设备
光刻机
用于将电路图形转移到硅片上。
刻蚀机
用于刻蚀硅片表面。
镀膜与去胶设备
用于在硅片表面形成金属层或介质层,并去 除光刻胶。
测试与封装设备
用于对芯片进行电气性能测试和封装成最终 产品。
分类
根据存储方式,半导体存储器可分为随机存取存储器(RAM)和只读存储器( ROM)。
历史与发展
1 2 3
早期阶段
20世纪50年代,半导体存储器开始出现,以晶 体管为基础。
发展阶段
随着技术的进步,20世纪70年代出现了动态随 机存取存储器(DRAM)和静态随机存取存储器 (SRAM)。
当前状况
现代半导体存储器已经广泛应用于计算机、移动 设备、数据中心等领域。
物联网和边缘计算
在物联网和边缘计算领域应用半导体存储器,实现高 效的数据存储和传输。
CHAPTER
05
案例分析:不同类型半导体存 储器的应用场景
DRAM的应用场景
01
DRAM(动态随机存取存储器)是一种常用的半导体存储器,广泛应 用于计算机和服务器等领域。
02
由于其高速读写性能和低成本,DRAM被用作主内存,为CPU提供快 速的数据存取。
外延生长
在硅片上生长一层或多 层所需材料的单晶层。
掺杂
通过扩散或离子注入等 方法,将掺杂剂引入硅 片。
制造流程
01
光刻
利用光刻胶将电路图形转移到硅片 上。
镀膜与去胶
在硅片表面形成金属层或介质层, 并去除光刻胶。
半导体存储器
一、静态RAM
(一)六管静态存 储电路
Q7
Q8
图6-2 静态RAM存储单元电路
(二)静态RAM器件的组成
静态RAM器 件可分成三个部 分,分别是存储 单元阵列、地址 译码器和读/写控 制与数据驱动/缓 冲。一个典型的 静态RAM的示意 图如右图所示。
右图是一个1K×1 位的静态RAM器件的组 成框图。该器件总共可 以寻址1024个单元,每 个单元只存储一位数据。
数据(字操作,使用AD0~AD15),也可以只 传送8位数据(字节操作,使用AD0~AD7或 AD8~AD15)。
仅A0为低电平时,CPU使用AD0~AD7, 这是偶地址字节操作;仅为低电平时,CPU使用 AD8~AD15,这是奇地址字节操作。
若和A0同时为低电平时,CPU对AD0~ AD15操作,即从偶地址读写一个字,是字操作; 如果字地址为奇地址,则需要两次访问存储器。 如下表所示
2、Intel 2114是一个容量为1024×4位的静态 RAM ,Intel 2114是一个容量为1024×4位的静 态RAM其引脚和逻辑符号如下图所示。
引脚图
逻辑符号
(四)静态RAM与CPU的连接
进行静态RAM存储器模块与CPU的连接电路 设计时,需要考虑下面几个问题:
1、CPU总线的负载能力 2、时序匹配问题 3、存储器的地址分配和片选问题 4、控制信号的连接
若存储容量较小,可以 将该RAM芯片的单元阵 列直接排成所需要位数
的形式,每一条行选择 线(X选择线)代表一 个字节,每一条列选择 线(Y选择线)代表字 节的一个位,故通常把
行选择线称为字线,而 列选择线称为位线。
(三)静态RAM的例子
1、Intel 6116是CMOS静态RAM芯片,属双列直 插式、24引脚封装。它的存储容量为2K×8位,其 引脚及功能框图如下图所示。
半导体存储器原理
半导体存储器原理半导体存储器是一种利用半导体材料来存储数据的设备,它广泛应用于计算机、通讯设备、消费电子产品等领域。
半导体存储器具有体积小、速度快、功耗低等优点,因此在现代电子设备中占据着重要的地位。
要深入了解半导体存储器的原理,首先需要了解半导体存储器的基本结构和工作原理。
半导体存储器主要分为RAM(随机存储器)和ROM(只读存储器)两大类。
RAM主要用于临时存储数据,其特点是读写速度快,但断电后数据会丢失;而ROM主要用于存储固定数据,其特点是数据不易丢失。
这两种存储器都是基于半导体材料制造而成的,其工作原理是利用半导体材料的导电特性来实现数据的存储和读取。
半导体存储器的基本单元是存储单元,每个存储单元可以存储一个数据位。
在RAM中,存储单元通常由一个存储电容和一个存储晶体管组成。
当需要向存储单元写入数据时,控制电路会向存储电容充放电,从而改变存储单元的电荷状态;当需要读取数据时,控制电路会根据存储单元的电荷状态来判断数据位的数值。
而在ROM中,存储单元通常由一个存储晶体管和一个存储栅组成,其工作原理类似于RAM,只是数据的写入是一次性的,无法修改。
半导体存储器的工作原理可以简单概括为存储单元的电荷状态代表数据的数值,通过控制电路来实现数据的写入和读取。
半导体存储器的读写速度快、功耗低、体积小等优点使其成为现代电子设备中不可或缺的部分。
随着科技的不断进步,半导体存储器的容量不断增加,速度不断提高,功耗不断降低,将会为人类带来更多便利和可能性。
总之,半导体存储器是一种基于半导体材料制造的存储设备,其工作原理是利用半导体材料的导电特性来实现数据的存储和读取。
通过对半导体存储器的工作原理的深入了解,可以更好地理解现代电子设备的工作原理,为相关领域的研究和应用提供理论基础。
随着科技的不断进步,相信半导体存储器将会在未来发展中发挥越来越重要的作用。
《半导体存储器》课件
以上是半导体存储器的相关介绍
半导体存储器是计算机科学中至关重要的一部分,对于数据存储和访问具有重要意义。谢谢您的观看!
原理
DRAM存储器使用电容器存储每个位的电荷来表示数据,电荷需要定期刷新以保持数据的有 效性。
优缺点
DRAM存储器的优点是高容量和较低成本,但缺点是速度较慢且需定期刷新。
应用
DRAM存储器广泛应用于个人电脑、服务器和移动设备等场景,提供了大容量的内存存储。
SRAM存储器
原理
SRAM存储器使用触发器电路作 为存储单元,通过电流控制来保 持数据的稳定性。
1
原理
MOS存储器使用金属氧化物半导体场效应管作为存储单元,通过充电和放电来表 示数据的0和1。
2
分类
MOS存储器包括EPROM、EEPROM和闪存等不同类型,每种类型都有不同的读写 特性。
3
应用
MOS存储器被广泛应用于微处理器、存储卡和嵌入式系统等领域中,提供了非易 失性和高集成度。
DRAM存储器
存储器的作用
存储器用于储存和访问数据, 包括指令和数据,以供计算 机进行处理和操作。
TTL存储器
原理
TTL存储器使用晶体管和逻辑门 电路来储存和读取数据。
优缺点
TTL存储器的优点是速度快且稳 定可靠,但缺点是功耗较高。
应用
TTL存储器常用于高速缓存和存 储器芯片中,提供快速的数据 读写能力。
MOS存储器
优缺点
SRAM存储器的优点是速度快且 无需刷新,但缺点是占用空间较 大。
应用
SRAM存储器常用于高速缓存、 寄存器和高性能处理器等场景, 提供了快速的数据存取能力。
FLASH存储器
1
原理
精品课件-微型计算机原理及应用(第二版)-第4章
第4章 存储系统
图4.2 6264全地址译码器
第4章 存储系统
图4.3 另一种译码电路
第4章 存储系统
2) 部分地址译码 部分地址译码就是只用部分地址线译码控制片选来决定 存储器地址。一种部分地址译码的连接电路原理图如图4.4 所示。
第4章 存储系统
图4.4 6264部分地址译码连接
第4章 存储系统
第4章 存储系统
2) 金属氧化物(MOS)RAM 用MOS器件构成的RAM又可分为静态读写存储器(SRAM)和 动态读写存储器(DRAM)。当前的微型计算机中均采用这种类 型的金属氧化物(MOS)RAM。 静态RAM的主要特点是,其存取时间为几到几百纳秒 (ns),集成度比较高。目前经常使用的静态存储器每片的容 量为几十字节到几十兆字节。SRAM的功耗比双极型RAM低, 价格也比较便宜。
第4章 存储系统
CS1、CS2为两条片选信号引线。当两个片选信号同时有 效时,即 C=S01、CS2=1时,才能选中该芯片。不同类型的芯 片,其片选信号多少不一,但要选中芯片,只有使芯片上所有 片选信号同时有效才行。一台微型计算机的内存空间要比一块 芯片的容量大。在使用中,通过对高位地址信号和控制信号的 译码产生(或形成)片选信号,把芯片的存储容量放在设计者所 希望的内存空间上。简言之,就是利用片选信号将芯片放在所 需要的地址范围上。这一点,在下面的叙述中将会看到。
第4章 存储系统
2.存取时间 存取时间就是存取芯片中某一个单元的数据所需要的时 间。 当拿到一块存储器芯片的时候,可以从其手册上得到它的存 取时间。CPU在读写RAM时,它所提供给RAM芯片的读写时间 必须比RAM芯片所要求的存取时间长。如果不能满足这一点, 微型机则无法正常工作。 3.可靠性 微型计算机要正确地运行,必然要求存储器系统具有很 高的可靠性。内存的任何错误都足以使计算机无法工作。而 存储器的可靠性直接与构成它的芯片有关。目前所用的半导 体存储器芯片的平均故障间隔时间(MTBF)大概为5×106~ 1×108 h左右。
半导体存储器概述
半导体存储器概述半导体存储器是一种电子设备,用于存储计算机和其他电子设备中的数据。
它是一种非易失性存储器,意味着即使断电也可以保持存储的数据。
本文将对半导体存储器进行概述,包括其基本工作原理、不同类型的半导体存储器以及其在计算机和其他应用中的主要用途。
半导体存储器的基本工作原理是根据半导体上存储器细胞的电荷状态来存储和检索数据。
在半导体存储器中,每个存储器单元称为位(bit)。
位是最小的存储单元,由一个晶体管和一个电容器组成。
晶体管可用于控制电荷的读取和写入,而电容器可用于储存电荷,从而表示存储的数据。
RAM 是一种易失性存储器,意味着当断电时,其中存储的数据将丢失。
然而,RAM 具有快速和随机访问数据的能力,适用于计算机内存。
RAM 可以分为静态RAM(Static RAM,SRAM)和动态RAM(Dynamic RAM,DRAM)两类。
SRAM使用了多个晶体管来构成每个存储单元,能够存储数据的时间更长,但相应地也需要更多的面积。
因此,SRAM内存更快但价格更昂贵,通常用于高速缓存和寄存器文件等需要快速访问的应用。
DRAM使用一个传输线和一个电容来存储一个位。
传输线用于读取和写入数据,电容用于存储电荷。
由于电容器电荷会逐渐泄漏,DRAM需要经常刷新来保持存储的数据,所以在功耗和速度上相对较差。
然而,DRAM的密度更高,价格更低,通常用于计算机的主存储器。
ROM是一种只能读取的存储器,用于存储程序和数据,无法修改。
ROM是非易失性存储器,意味着断电后其中存储的数据不会丢失。
几种常见的ROM包括PROM、EPROM和EEPROM。
PROM(Programmable Read Only Memory)是一种在制造时没有写入数据的 ROM,可以通过电气操作编程或擦除。
EPROM(Erasable Programmable Read Only Memory)是一种可以擦除和重新编程的 ROM,需要 UV 紫外线擦除器来擦除数据。
半导体存储器概述
半导体存储器概述半导体存储器(Semiconductor Memory)是一种用于存储和读取数字信息的电子设备,广泛应用于计算机、通信设备、嵌入式系统等各种电子设备中。
相比于传统的磁性存储器,半导体存储器具有速度快、功耗低以及体积小等优点,因此在现代电子设备中得到广泛使用。
半导体存储器的基本构成单元是存储单元,它是由一个或多个存储单元组成,每个存储单元可以存储一个或多个二进制位的信息。
存储单元可以分为静态存储单元(Static Random Access Memory,SRAM)和动态存储单元(Dynamic Random Access Memory,DRAM)两类。
静态存储单元由6个晶体管组成,其中包括两个交叉连接的反相非门(Inverter),一个传输门(Transfer Gate)和两个位线连接器(Bit Line)。
SRAM主要用于高速缓存等需要快速访问和读写的场景中,速度快、性能好,但是价格昂贵且功耗较高。
动态存储单元则由一个电容和一个开关管组成,电容用于存储信息,开关管用于控制读写操作。
DRAM的存储单元面积小,功耗低,但是随着时间的推移,电容中存储的电荷会逐渐泄漏导致信息丧失,因此需要定期刷新。
DRAM被广泛应用于主存储器(Main Memory)中。
除了SRAM和DRAM之外,还有一些其他的半导体存储器类型,如闪存(Flash Memory)、EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory)和EPROM(Erasable Programmable Read-Only Memory)等。
闪存是一种非易失性存储器,主要用于嵌入式系统和便携设备中。
它通过划分为多个块并使用电荷来存储信息,可以被分别擦除和写入。
闪存的特点是存储密度高、功耗低、可擦写次数有限。
EEPROM是可以通过电压改编信息的一种可擦写存储器,通常用于存储配置参数、固件等不需要频繁修改的数据,具有很高的擦写次数和可靠性。
半导体存储器的工作原理1
• 写入时,在T3、T4开始导通的同时,将待 写信息加到W2上。 • 写1:W2加高平,将被选电路的存储电容 充电为有电荷,实现写1。 • 写0:W2为低电平,使被选电路的存储电 容放电为无电荷,实现写0。
4116芯片的读、写周期时序
• 在读周期中,行地址必须在RAS有效前有效, 列地址必须在CAS有效前有效,并且在CAS 到来之前,WE必须为高电平,并保持到CAS 结束之后。 • 在写周期中,当WE有效之后,所加的DIN信 号必须保持到CAS变为低电平之后,RAS、 CAS和WE全部有效时,将DIN数据写入被选的 存储单元。
• 存储体中共有64个字,每个字为8位,排成 64×8的阵列。 • 存储芯片共需6根地址线,8根数据线,一次可 读出一个字节。 • 存储体中所有存储单元的相同位组成一列,一 列中所有单元电路的两根位线分别连在一起, 并使用一个读/写放大电路。读/写放大电路与 双向数据线相连。
• • •
读/写控制线 R/W :控制存储芯片的读/写操作。 R/ W 片选控制线 CS: CS CS CS 为低电平时,选中芯片工作; CS 为高电平时,芯片不被选中。 CS
• 存储器的读出 • 行地址经行地址译码选中某一根行线有效,接 通此行上的128个存储电路中的MOS管,使电容 所存信息分别送到128个读出再生放大器放大。 同时,经放大后的信息又回送到原电路进行重 写,使信息再生。 • 列地址经列地址译码选中某根列线有效,接通 相应的列控制门,将该列上读出放大器输出的 信息送入I/O缓冲器,经数据输出寄存器输出到 数据总线上。 • 存储器的写入 • 首先将要写入的信息由数据输入寄存器经I/O缓 冲器送入被选列的读出再生放大器中,然后再 写入行、列同时被选中的存储单元。
• 若选中存储电路原存“1”,则W2电位高于W1的 电位。使T1导通,T2截止,因而W2端输出高电 平,经I/O缓冲器输出“1”信息,并且W2的高 电平使被选存储电路的电容充电,实现信息 再生。 • 若选中存储电路原存“0”,则W2电位低于W1的 电位。使T1截止,T2导通,因而W2端输出低电 平,经I/O缓冲器输出“0”信息,并回送到原 电路,使信息再生。
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(2)先扩展单元数,再扩展位数。 4片1K×4 4K×4 8片 4K×8 2组4K×4 2.地址分配与片选逻辑 芯片内的寻址系统(二级译码) 存储器寻址逻辑 芯片外的地址分配与片选逻辑 为芯片分配哪几位地址, 以便寻找片内的存储单 元 由哪几位地址形 成芯片选择逻辑, 以便寻找芯片
2.单管单元
C1:漏极电容 C’: 分布电容 (1)定义
C’ “0”:C无电荷,电平V0(低) “1”:C有电荷,电平V1(高)
W V
Z
C
(2)写数据 字线加高电平,W加高、低电平则写入1/0
(3)读数据 先对C’进行预充电,使C’电位为: Vm=V1+V0/2 其中:V1为C中存数据“1”的电位,V0为存“0”的电位。 然后对字线加高电平。
2.字扩展方式
增加存储器中字的数量,而位的数量保持不变;当主存 储器的字长与单个存储芯片的字长相同,而字数不同时, 可采用字扩展方式。 由m1kn的存储器芯片组成m2kn的存储器,需要 m2/m1片m1kn的存储器芯片。 3.字位同时扩展方式 由m1kn1的存储器芯片组成m2kn2的存储器,需要 (m2/m1) (n2/n1)片m1kn1的存储器芯片。
W
W
写入:在W、W上分别加 高、低电平,写1/0。
读出:W、W先预充电至 高电平,断开充电回路, 再根据W、W上有无电流, 读0/1。
T3
T1
C1 C2
T4
T2
Z
(4)保持
Z:加低电平,T3、T4截止,该单元未选中,保持原状态。 需定期向电容补充电荷(动态刷新),∴称动态。 四管单元是非破坏性读出,读出过程即实现刷新。
2.存储芯片
例.SRAM芯片2114(1K×4位)
(1)外特性
Vcc A7 A8 A9 D0 D1 D2 D3 WE 18 1
2114(1K×4)
10 9
A6 A5 A4 A3 A0 A1 A2 CS GND
地址端: A9~A0(入) 数据端: D3~D0(入/出) 片选CS = 0 选中芯片 控制端: = 1 未选中芯片
4.2
双极型
半导体存储器
TTL型 ECL型
速度很快、功耗大、 容量小 工艺 PMOS 功耗小、 容量大 电路结构 NMOS MOS型 CMOS (静态MOS除外) 工作方式 静态MOS 动态MOS 静态存储器SRAM (双极型、静态MOS型): 存储信 依靠双稳态电路内部交叉反馈的机 功耗较大,速度快,作Cache。 息原理 制存储信息。 动态存储器DRAM(动态MOS型): 依靠电容存储电荷的原理存储信息。 功耗较小,容量大,速度较快,作主存。
单管单元是破坏性读出,读出后需重写。
GND CAS Do A6
A3 A4 A5
A7 9 8
3.存储芯片
16
例.DRAM芯片2164 (64K×1位)
2164(64K×1)
1
空闲/刷新 Di WE RAS A0 A2 A1 Vcc
地址端: A7~A0(入) 分时复用,提供16位地址。 数据端: Di(入) Do(出) = 0 写 写使能WE 高8位地址 = 1 读 控制端: 行地址选通RAS :=0时A7~A0为行地址 片选 列地址选通CAS :=0时A7~A0为列地址 电源、地 低8位地址 1脚未用,或在新型号中用于片内自动刷新。
4.2.3 半导体存储器逻辑设计
需解决:芯片的Байду номын сангаас用、地址分配与片选逻辑、 信号线的连接。
1.位扩展方式
进行位数扩充(即加大字长);当主存储器的字数与单 个存储芯片的字数相同而位数不同时,可采用位扩展的 方式来构成主存储器。 由mkn1的存储器芯片组成mkn2的存储器,需要n2/n1 片mkn1的存储器芯片。
写使能WE
电源、地
= 0 写 = 1 读
(2)内部寻址逻辑
寻址空间1K,存储矩阵分为4个位平面,每面1K×1位。
每面矩阵排成64行×16列。 6 位 行 地 址 行 译 码 X63
64 × 16 X0
1K
64×16
1K
64×16
1K
64×16
1K
Y0
Y15
列译码
4位列地址 两级 译码
Xi
W
W
W
W
一级: 地址译码, 选择字线、位线。 二级: 一根字线和 一组位线交叉, 选择一位单元。
读/写线路
Yi
4.2.2 动态MOS存储单元与存储芯片
1.四管单元 W W (1)组成 T3 T4 T1、T2:记忆管 T2 T1 C1、C2:柵极电容 C1 C2 T3、T4:控制门管 Z:字线 W、 W:位线 Z (2)定义 “0”:T1导通,T2截止 (C1有电荷,C2无电荷); “1”:T1截止,T2导通 (C1无电荷,C2有电荷)。 (3)工作 Z:加高电平,T3、T4导通,选中该单元。
例1. 用2114(1K×4)SRAM芯片组成容量为4K×8 的存储器。地址总线A15~A0(低),双向数据 总线D7~D0(低),读/写信号线R/W。 给出芯片地址分配与片选逻辑,并画出M框图。 1.计算芯片数 (1)先扩展位数,再扩展单元数。 2片1K×4 1K×8 8片 4组1K×8 4K×8
两种访存地址的译码方式 1.全译码方式 全译码方式是指选片地址部分必须全部有效,在以 下两种情况下,必须用全译码方式。 1)CPU可访问的最大存储空间与实际使用的存储 空间相同 2)如果实际使用的存储空间小于CPU可访问的最 大存储空间,而且对实际使用空间的地址范围有严 格要求。 2.部分译码方式 当实际使用的存储空间比CPU访问的最大存储空间 小,而且对其地址范围没有严格要求,可用部分译 码方式。
(3)工作
Z:加高电平,T5、T6 导通,选中该单元。 写入:在W、W上分别加 高、低电平,写0/1。 读出:根据W、W上有无 电流,读0/1。
W T5 T3
Vcc T4 T6
W
T1
T2 Z
(4)保持
Z:加低电平,T5、T6截止,该单元未选中,保持原状态。 只要电源正常,保证向导通管提供电流,便能维持一管导 通,另一管截止的状态不变,∴称静态。 静态单元是非破坏性读出,读出后不需重写。
4.2.1 静态MOS存储单元与存储芯片
1.六管单元 (1)组成 T1、T3:MOS反相器 T2、T4:MOS反相器
W
Vcc T5
T3 T1 T4 T2 Z
W
T6
T5、T6:控制门管 Z:字线,选择存储单元 W、 W:位线,完成读/写操作 (2)定义 “0”:T1导通,T2截止; “1”:T1截止,T2导通。