半导体物理试卷b答案

合集下载

半导体物理复习试题及答案(复习资料)

半导体物理复习试题及答案(复习资料)

半导体物理复习试题及复习资料一、选择题1.与绝缘体相比,半导体的价带电子激发到导带所需要的能量( B )。

A. 比绝缘体的大B.比绝缘体的小C. 和绝缘体的相同2.受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。

A. 电子和空穴B.空穴C. 电子3.对于一定的N型半导体材料,在温度一定时,减小掺杂浓度,费米能级会( B )。

A.上移B.下移C.不变4.在热平衡状态时,P型半导体中的电子浓度和空穴浓度的乘积为常数,它和( B )有关A.杂质浓度和温度B.温度和禁带宽度C.杂质浓度和禁带宽度D.杂质类型和温度5.MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( B )。

A.相同B.不同C.无关6.空穴是( B )。

A.带正电的质量为正的粒子B.带正电的质量为正的准粒子C.带正电的质量为负的准粒子D.带负电的质量为负的准粒子7.砷化稼的能带结构是( A )能隙结构。

A. 直接B. 间接8. 将Si 掺杂入GaAs 中,若Si 取代Ga 则起( A )杂质作用,若Si 取代As 则起( B )杂质作用。

A. 施主B. 受主C. 陷阱D. 复合中心9. 在热力学温度零度时,能量比F E 小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比F E 小的量子态被电子占据的概率为( A )。

A. 大于1/2B. 小于1/2C. 等于1/2D. 等于1E. 等于010. 如图所示的P 型半导体MIS 结构的C -V 特性图中,AB 段代表( A ),CD 段代表(B )。

A. 多子积累B. 多子耗尽C. 少子反型D. 平带状态11. P 型半导体发生强反型的条件( B )。

A. ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛=i A S n N q T k V ln 0B. ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛≥i A S n N q T k V ln 20 C. ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛=i D S n N q T k V ln 0 D. ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛≥i D S n N q T k V ln 20 12. 金属和半导体接触分为:( B )。

半导体物理试卷b答案

半导体物理试卷b答案

一、名词解释(本大题共5题每题4分,共20分)1. 直接复合:导带中的电子越过禁带直接跃迁到价带,与价带中的空穴复合,这样的复合过程称为直接复合。

2.本征半导体:不含任何杂质的纯净半导体称为本征半导体,它的电子和空穴数量相同。

3.简并半导体:半导体中电子分布不符合波尔兹满分布的半导体称为简并半导体。

过剩载流子:在光注入、电注入、高能辐射注入等条件下,半导体材料中会产生高于热平衡时浓度的电子和空穴,超过热平衡浓度的电子△n=n-n0和空穴△p=p-p0称为过剩载流子。

4. 有效质量、纵向有效质量与横向有效质量答:有效质量:由于半导体中载流子既受到外场力作用,又受到半导体内部周期性势场作用。

有效概括了半导体内部周期性势场的作用,使外场力和载流子加速度直接联系起来。

在直接由实验测得的有效质量后,可以很方便的解决电子的运动规律。

5. 等电子复合中心等电子复合中心:在III- V族化合物半导体中掺入一定量与主原子等价的某种杂质原子,取代格点上的原子。

由于杂质原子与主原子之间电性上的差别,中性杂质原子可以束缚电子或空穴而成为带电中心。

带电中心吸引与被束缚载流子符号相反的载流子,形成一个激子束缚态。

这种激子束缚态叫做等电子复合中心。

二、选择题(本大题共5题每题3分,共15分)1.对于大注入下的直接辐射复合,非平衡载流子的寿命与(D )A. 平衡载流子浓度成正比B. 非平衡载流子浓度成正比C. 平衡载流子浓度成反比D. 非平衡载流子浓度成反比2.有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲.含铝1×10-15cm-3乙.含硼和磷各1×10-17cm-3丙.含镓1×10-17cm-3室温下,这些样品的电子迁移率由高到低的顺序是(C )甲乙丙 B. 甲丙乙 C. 乙甲丙 D. 丙甲乙3.有效复合中心的能级必靠近( A )A.禁带中部B.导带C.价带D.费米能级4.当一种n 型半导体的少子寿命由直接辐射复合决定时,其小注入下的少子寿命正比于(C )A.1/n 0B.1/△nC.1/p 0D.1/△p5.半导体中载流子的扩散系数决定于其中的( A )A.散射机构B. 复合机构C.杂质浓变梯度D.表面复合速度6.以下4种半导体中最适合于制作高温器件的是( D )A. SiB. GeC. GaAsD. GaN三、简答题(20分)1.请描述小注入条件正向偏置和反向偏置下的pn 结中载流子的运动情况,写出其电流密度方程,请解释为什么pn 结具有单向导电性? (10分)解:在p-n 结两端加正向偏压V F , V F 基本全落在势垒区上,由于正向偏压产生的电场与内建电场方向相反,势垒区的电场强度减弱,势垒高度由平衡时的qV D 下降到q(V D -V F ),耗尽区变窄,因而扩散电流大于漂移电流,产生正向注入。

半导体物理期末试卷(含部分答案

半导体物理期末试卷(含部分答案

半导体物理期末试卷(含部分答案半导体物理,考试,复习,试卷一、填空题1.纯净半导体Si中掺错误!未找到引用源。

族元素的杂质,当杂质电离时释放电子。

这种杂质称施主杂质;相应的半导体称N 型半导体。

2.当半导体中载流子浓度的分布不均匀时,载流子将做扩散运动;在半导体存在外加电压情况下,载流子将做漂移运动。

3.nopo=ni2标志着半导体处于平衡状态,当半导体掺入的杂质含量改变时,乘积nopo改变否?不变;当温度变化时,nopo改变否?改变。

4.非平衡载流子通过复合作用而消失,非平衡载流子的平均生存时间叫做寿命τ,寿命τ与复合中心在禁带中的位置密切相关,对于强p型和强n型材料,小注入时寿命τn为,寿命τp为5.迁移率是反映载流子在电场作用下运动难易程度的物理量,扩散系数是反映有浓度梯度时载n爱因斯坦关系式。

6.半导体中的载流子主要受到两种散射,它们分别是电离杂质散射和晶格振动散射。

前者在电离施主或电离受主形成的库伦势场下起主要作用,后者在温度高下起主要作用。

7.半导体中浅能级杂质的主要作用是影响半导体中载流子浓度和导电类型;深能级杂质所起的主要作用对载流子进行复合作用。

8、有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲含铝1015cm-3 乙. 含硼和磷各1017 cm-3 丙含镓1017 cm-3 室温下,这些样品的电阻率由高到低的顺序是乙甲丙。

样品的电子迁移率由高到低的顺序是甲丙乙。

费米能级由高到低的顺序是乙甲丙。

9.对n型半导体,如果以EF和EC的相对位置作为衡量简并化与非简并化的标准,那么EC EF 2k0T为非简并条件;0 EC EF 2k0T为弱简并条件;EC EF 010.当P-N结施加反向偏压增大到某一数值时,反向电流密度突然开始迅速增大的现象称为PN结击穿,其种类为:雪崩击穿、和齐纳击穿(或隧道击穿)。

11.指出下图各表示的是什么类型半导体?12. 以长声学波为主要散射机构时,电子迁移率μn与温度的-3/2 次方成正比13 半导体中载流子的扩散系数决定于其中的载流子的浓度梯度。

电子科技大学2009半导体物理期末考试试题答卷B试题参考答案

电子科技大学2009半导体物理期末考试试题答卷B试题参考答案

电子科技大学二零九至二零一零学年第一学期期末考试半导体物理课程考试题B卷(120分钟)考试形式:闭卷考试日期2010年元月18日课程成绩构成:平时10 分,期中 5 分,实验15 分,期末70 分9.有效质量概括了晶体内部势场对载流子的作用,可通过回旋共振实验来测量。

10.某N型Si半导体的功函数W S是4.3eV,金属Al的功函数W m是4.2 eV,该半导体和金属接触时的界面将会形成反阻挡层接触/欧姆接触。

11. 有效复合中心的能级位置靠近禁带中心能级/本征费米能级/E i。

12. MIS结构中半导体表面处于临界强反型时,表面少子浓度等于内部多子浓度,表面反型13. 金属和n 型半导体接触形成肖特基势垒,若外加正向偏压于金属,则半导体表面电子势二、选择题(共15分,每题1 分)导体 5. 空间实验室中失重状态下生长的GaAs 与地面生长的GaAs 相比,载流子迁移率要高,这A. 无杂质污染B. 晶体生长更完整C. 化学配比更合理 A. 复合机构B. 散射机构C. 禁带宽度D. 晶体结构7. 若某材料电阻率随温度升高而单调下降,该材料是 A 。

A. 本征半导体B. 杂质半导体C. 金属导体A. 上升c) 掺入浓度1016 cm-3的P原子,浓度为1015 cm-3的B原子;d) 纯净硅。

A. abcdB. cdbaC. adcbD. dabc12. 以下4种不同掺杂情况的半导体,热平衡时室温下少子浓度最高的是 D 。

A. 掺入浓度1015 cm-3 P原子的Si半导体;B. 掺入浓度1014 cm -3 B 原子的Si 半导体;C. 掺入浓度1015 cm -3 P 原子Ge 半导体;D. 掺入浓度1014 cm -3 B 原子Ge 半导体。

(已知室温时:Si 的本征载流子浓度310105.1-⨯=cm n i ,Ge 的本征载流子浓度313104.2-⨯=cm n i )13. 直接复合时,小注入的P 型半导体的非平衡载流子寿命 τd 决定于 B 。

最新电子科技大学半导体物理期末考试试卷b试题答案

最新电子科技大学半导体物理期末考试试卷b试题答案

电子科技大学二零 九 至二零 一零 学年第 一 学期期 末 考试半导体物理 课程考试题 B 卷 ( 120分钟) 考试形式: 闭卷 考试日期 2010年 元月 18日课程成绩构成:平时 10 分, 期中 5 分, 实验 15 分, 期末 70 分一、填空题: (共16分,每空1 分)1. 简并半导体一般是 重 掺杂半导体,忽略。

3.5. 在半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,它们具有 杂质补偿 的作用,在制造各种半导体器件时,往往利用这种作用改变半导体的导电性能。

6. ZnO 是一种宽禁带半导体,真空制备过程中通常会导致材料缺氧形成氧空位,存在氧空位的ZnO 半导体为 N/电子 型半导体。

9. 有效质量 概括了晶体内部势场对载流子的作用,可通过回旋共振实验来测量。

10. 某N 型Si 半导体的功函数W S 是4.3eV ,金属Al 的功函数W m 是4.2 eV , 该半导体和金属接触时的界面将会形成 反阻挡层接触/欧姆接触 。

11. 有效复合中心的能级位置靠近 禁带中心能级/本征费米能级/E i。

12. MIS 结构中半导体表面处于临界强反型时,表面少子浓度等于内部多子浓度,表面13. 金属和n 型半导体接触形成肖特基势垒,若外加正向偏压于金属,则半导体表面电二、选择题(共15分,每题1 分)1. 如果对半导体进行重掺杂,会出现的现象是 D 。

A. 禁带变宽B. 少子迁移率增大C. 多子浓度减小D.简并化2. 已知室温下Si 的本征载流子浓度为310105.1-⨯=cm n i 。

处于稳态的某掺杂Si 半导体中电子浓度315105.1-⨯=cm n ,空穴浓度为312105.1-⨯=cm p ,则该半导体 A 。

A.存在小注入的非平衡载流子 B. 存在大注入的非平衡载流子 C. 处于热平衡态 D. 是简并半导体3. 下面说法错误的是 D 。

A. 若半导体导带中发现电子的几率为0,则该半导体必定处于绝对零度B. 计算简并半导体载流子浓度时不能用波尔兹曼统计代替费米统计C. 处于低温弱电离区的半导体,其迁移率和电导率都随温度升高而增大D. 半导体中,导带电子都处于导带底E c 能级位置4. 下面说法正确的是 D 。

半导体物理试卷b答案教学文案

半导体物理试卷b答案教学文案

半导体物理试卷b答案一、名词解释(本大题共5题每题4分,共20分)1. 直接复合:导带中的电子越过禁带直接跃迁到价带,与价带中的空穴复合,这样的复合过程称为直接复合。

2.本征半导体:不含任何杂质的纯净半导体称为本征半导体,它的电子和空穴数量相同。

3.简并半导体:半导体中电子分布不符合波尔兹满分布的半导体称为简并半导体。

过剩载流子:在光注入、电注入、高能辐射注入等条件下,半导体材料中会产生高于热平衡时浓度的电子和空穴,超过热平衡浓度的电子△n=n-n0和空穴△p=p-p0称为过剩载流子。

4. 有效质量、纵向有效质量与横向有效质量答:有效质量:由于半导体中载流子既受到外场力作用,又受到半导体内部周期性势场作用。

有效概括了半导体内部周期性势场的作用,使外场力和载流子加速度直接联系起来。

在直接由实验测得的有效质量后,可以很方便的解决电子的运动规律。

5. 等电子复合中心等电子复合中心:在III- V族化合物半导体中掺入一定量与主原子等价的某种杂质原子,取代格点上的原子。

由于杂质原子与主原子之间电性上的差别,中性杂质原子可以束缚电子或空穴而成为带电中心。

带电中心吸引与被束缚载流子符号相反的载流子,形成一个激子束缚态。

这种激子束缚态叫做等电子复合中心。

二、选择题(本大题共5题每题3分,共15分)1.对于大注入下的直接辐射复合,非平衡载流子的寿命与(D )A. 平衡载流子浓度成正比B. 非平衡载流子浓度成正比C. 平衡载流子浓度成反比D. 非平衡载流子浓度成反比2.有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲.含铝1×10-15cm-3乙.含硼和磷各1×10-17cm-3丙.含镓1×10-17cm-3室温下,这些样品的电子迁移率由高到低的顺序是(C )甲乙丙 B. 甲丙乙 C. 乙甲丙D. 丙甲乙3.有效复合中心的能级必靠近( A )A.禁带中部B.导带C.价带D.费米能级4.当一种n型半导体的少子寿命由直接辐射复合决定时,其小注入下的少子寿命正比于(C )A.1/n0B.1/△nC.1/p0D.1/△p5.半导体中载流子的扩散系数决定于其中的( A )A.散射机构B. 复合机构C.杂质浓变梯度D.表面复合速度6.以下4种半导体中最适合于制作高温器件的是( D )A. SiB. GeC. GaAsD. GaN三、简答题(20分)1.请描述小注入条件正向偏置和反向偏置下的pn结中载流子的运动情况,写出其电流密度方程,请解释为什么pn结具有单向导电性?(10分)解:在p-n结两端加正向偏压V F, V F基本全落在势垒区上,由于正向偏压产生的电场与内建电场方向相反,势垒区的电场强度减弱,势垒高度由平衡时的qV D下降到q(V D-V F),耗尽区变窄,因而扩散电流大于漂移电流,产生正向注入。

半导体物理期末考试试卷及答案解析

半导体物理期末考试试卷及答案解析

安徽大学20 09—20 10学年第 一 学期《 半导体物理学 》考试试卷(B 卷)(闭卷 时间120分钟)一、选择题(每小题2分,共20分) 1.本征半导体是指( )的半导体。

A. 不含杂质和缺陷 B. 电子浓度和空穴浓度相等 C. 电阻率高D. 电子浓度与本征载流子浓度相等2.关于Si 的能带特征,以下描述错误的是( )。

A. 导带底位于六个等效的<100>方向B. 价带顶位于布里渊区中心C. Si 是直接带隙半导体D. 导带底附件的等能面是旋转椭球面3.导带底附件的状态密度为()c g E ,电子占据能级E 的几率为()B f E ,则导带电子浓度为( )。

A. ()()c B g E f EB. ()()c B g E f E dEC.()cEc c E g E dE ′∫D.()()cEc c B E g E f E dE′∫4.简并半导体是指( )的半导体。

A. (E c -E F )或(E F -E v )≤0 B. (E c -E F )或(E F -E v )≥0C. 能使用玻尔兹曼近似计算载流子浓度D. 导带底和价带顶能容纳多个状态相同的电子5.对于n 型非简并半导体,在饱和区,电阻率随温度上升而增加,可能的原因是( )。

A. 电离杂质的散射增强 B. 晶格振动散射增强题 号一二三四五六七总分得 分阅卷人院/系 年级 专业 姓名 学号答 题 勿 超 装 订 线 ------------------------------装---------------------------------------------订----------------------------------------线----------------------------------------得分C. 载流子浓度减少D. 杂质没有完全电离6.对于小注入的n 型半导体,电子和空穴的准费米能级分别为n FE 和pF E 。

半导体器件物理习题答案

半导体器件物理习题答案

1、简要的回答并说明理由:①p+-n结的势垒宽度主要决定于n型一边、还是p型一边的掺杂浓度?②p+-n结的势垒宽度与温度的关系怎样?③p+-n结的势垒宽度与外加电压的关系怎样?④Schottky势垒的宽度与半导体掺杂浓度和温度分别有关吗?【解答】①p+-n结是单边突变结,其势垒厚度主要是在n型半导体一边,所以p+-n结的势垒宽度主要决定于n型一边的掺杂浓度;而与p型一边的掺杂浓度关系不大。

因为势垒区中的空间电荷主要是电离杂质中心所提供的电荷(耗尽层近似),则掺杂浓度越大,空间电荷的密度就越大,所以势垒厚度就越薄。

②因为在掺杂浓度一定时,势垒宽度与势垒高度成正比,而势垒高度随着温度的升高是降低的,所以p+-n结的势垒宽度将随着温度的升高而减薄;当温度升高到本征激发起作用时,p-n结即不复存在,则势垒高度和势垒宽度就都将变为0。

③外加正向电压时,势垒区中的电场减弱,则势垒高度降低,相应地势垒宽度也减薄;外加反向电压时,势垒区中的电场增强,则势垒高度升高,相应地势垒宽度也增大。

④Schottky势垒区主要是在半导体一边,所以其势垒宽度与半导体掺杂浓度和温度都有关(掺杂浓度越大,势垒宽度越小;温度越高,势垒宽度也越小)。

2、简要的回答并说明理由:①p-n结的势垒高度与掺杂浓度的关系怎样?②p-n结的势垒高度与温度的关系怎样?③p-n结的势垒高度与外加电压的关系怎样?【解答】①因为平衡时p-n结势垒(内建电场区)是起着阻挡多数载流子往对方扩散的作用,势垒高度就反映了这种阻挡作用的强弱,即势垒高度表征着内建电场的大小;当掺杂浓度提高时,多数载流子浓度增大,则往对方扩散的作用增强,从而为了达到平衡,就需要更强的内建电场、即需要更高的势垒,所以势垒高度随着掺杂浓度的提高而升高(从Fermi 能级的概念出发也可说明这种关系:因为平衡时p-n结的势垒高度等于两边半导体的Fermi 能级的差,当掺杂浓度提高时,则Fermi能级更加靠近能带极值[n型半导体的更靠近导带底,p型半导体的更靠近价带顶],使得两边Fermi能级的差变得更大,所以势垒高度增大)。

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案半导体物理学试题及答案(一) 一、选择题1、如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以( A )导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以( E )导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以( C )导电为主。

A、本征B、受主C、空穴D、施主E、电子2、受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。

A、电子和空穴B、空穴C、电子3、电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子。

A、正B、负C、零D、准粒子E、粒子4、当Au掺入Si中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当B掺入Si中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用。

A、受主B、深C、浅D、复合中心E、陷阱5、 MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )。

A、相同B、不同C、无关6、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )。

A、变大,变小 ;B、变小,变大;C、变小,变小;D、变大,变大。

7、砷有效的陷阱中心位置(B )A、靠近禁带中央B、靠近费米能级8、在热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( A )。

A、大于1/2B、小于1/2C、等于1/2D、等于1E、等于09、如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表( A),CD段代表( B )。

A、多子积累B、多子耗尽C、少子反型D、平带状态10、金属和半导体接触分为:( B )。

A、整流的肖特基接触和整流的欧姆接触B、整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C、非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D、非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触11、一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t??后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A )。

半导体试题及答案

半导体试题及答案

半导体试题及答案一、单项选择题(每题2分,共20分)1. 半导体材料的导电性介于金属和绝缘体之间,这是因为:A. 半导体材料内部存在大量的自由电子B. 半导体材料内部存在大量的空穴C. 半导体材料的能带结构D. 半导体材料的晶格结构答案:C2. 下列哪种掺杂方式可以增加半导体的导电性?A. N型掺杂B. P型掺杂C. 同时进行N型和P型掺杂D. 不进行任何掺杂答案:A3. 半导体的PN结在正向偏置时,其导通的原因是:A. 电子从P区注入N区B. 空穴从N区注入P区C. 电子和空穴的复合D. 电子和空穴的注入答案:D4. 半导体器件中,晶体管的放大作用主要依赖于:A. 基极电流B. 发射极电流C. 集电极电流D. 所有电流的总和5. 下列哪种材料不适合作为半导体材料?A. 硅B. 锗C. 铜D. 砷化镓答案:C6. 半导体器件的最小特征尺寸缩小,可以带来以下哪些好处?A. 降低成本B. 提高速度C. 减少功耗D. 所有以上答案:D7. 在半导体工艺中,光刻技术主要用于:A. 制造晶体管B. 制造集成电路C. 制造绝缘体D. 制造导线答案:B8. 半导体的能带理论中,价带和导带之间的区域被称为:A. 能隙B. 能级C. 能带D. 能区答案:A9. 下列哪种半导体器件具有记忆功能?B. 晶体管C. 存储器D. 逻辑门答案:C10. 半导体器件的热稳定性主要取决于:A. 材料的热导率B. 器件的散热设计C. 器件的制造工艺D. 所有以上答案:D二、多项选择题(每题3分,共15分)1. 半导体材料的特性包括:A. 导电性B. 绝缘性C. 半导体性D. 磁性答案:AC2. 下列哪些因素会影响半导体器件的性能?A. 温度B. 湿度C. 光照D. 电压答案:ABC3. 半导体器件的类型包括:A. 二极管B. 晶体管C. 集成电路D. 电阻答案:ABC4. 下列哪些是半导体材料的掺杂元素?A. 硼B. 磷C. 铜D. 锗答案:AB5. 在半导体工艺中,下列哪些步骤是必要的?A. 清洗B. 氧化C. 蒸发D. 抛光答案:ABC三、填空题(每题2分,共20分)1. 半导体材料的导电性主要依赖于______。

电子科技大学半导体物理期末考试试卷B试题答案

电子科技大学半导体物理期末考试试卷B试题答案

电子科技大学二零 九 至二零 一零 学年第 一 学期期 末 考试半导体物理 课程考试题 B 卷 ( 120分钟) 考试形式: 闭卷 考试日期 2010年 元月 18日一、 填空题: (共16分,每空1 分)简并半导体一般是 重 掺杂半导体,忽略。

3.5. 在半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质,它们具有 杂质补偿 的作用,在制造各种半导体器件时,往往利用这种作用改变半导体的导电性能。

6. ZnO 是一种宽禁带半导体,真空制备过程中通常会导致材料缺氧形成氧空位,存在氧空位的ZnO 半导体为 N/电子 型半导体。

9. 有效质量 概括了晶体内部势场对载流子的作用,可通过回旋共振实验来测量。

10. 某N 型Si 半导体的功函数W S 是4.3eV ,金属Al 的功函数W m 是4.2 eV , 该半导体和金属接触时的界面将会形成 反阻挡层接触/欧姆接触 。

11. 有效复合中心的能级位置靠近 禁带中心能级/本征费米能级/E i 。

12. MIS 结构中半导体表面处于临界强反型时,表面少子浓度等于内部多子浓度,表面13. 金属和n 型半导体接触形成肖特基势垒,若外加正向偏压于金属,则半导体表面电二、 选择题(共15分,每题1 分)如果对半导体进行重掺杂,会出现的现象是 D 。

A. 禁带变宽B. 少子迁移率增大C. 多子浓度减小D.简并化2. 已知室温下Si 的本征载流子浓度为310105.1-⨯=cm n i 。

处于稳态的某掺杂Si 半导体中电子浓度315105.1-⨯=cm n ,空穴浓度为312105.1-⨯=cm p ,则该半导体 A 。

A.存在小注入的非平衡载流子 B. 存在大注入的非平衡载流子 C. 处于热平衡态 D.是简并半导体3. 下面说法错误的是 D 。

A. 若半导体导带中发现电子的几率为0,则该半导体必定处于绝对零度B. 计算简并半导体载流子浓度时不能用波尔兹曼统计代替费米统计C. 处于低温弱电离区的半导体,其迁移率和电导率都随温度升高而增大D.半导体中,导带电子都处于导带底E c 能级位置4. 下面说法正确的是 D 。

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案半导体物理学试题及答案半导体物理学试题及答案(一) 一、选择题1、如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以( A )导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以( E )导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以( C )导电为主。

A、本征B、受主C、空穴D、施主E、电子2、受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。

A、电子和空穴B、空穴C、电子3、电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子。

A、正B、负C、零D、准粒子E、粒子4、当Au掺入Si中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当B掺入Si中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用。

A、受主B、深C、浅D、复合中心E、陷阱5、MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )。

A、相同B、不同C、无关6、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )。

A、变大,变小 ;B、变小,变大;C、变小,变小;D、变大,变大。

7、砷有效的陷阱中心位置(B )A、靠近禁带中央B、靠近费米能级8、在热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( A )。

A、大于1/2B、小于1/2C、等于1/2D、等于1E、等于09、如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表( A),CD段代表( B )。

A、多子积累B、多子耗尽C、少子反型D、平带状态10、金属和半导体接触分为:( B )。

A、整流的肖特基接触和整流的欧姆接触B、整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C、非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D、非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触11、一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t??后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A )。

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案半导体物理学试题及答案(一) 一、选择题1、如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以( A )导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以( E )导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以( C )导电为主。

A、本征B、受主C、空穴D、施主E、电子2、受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。

A、电子和空穴B、空穴C、电子3、电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子。

A、正B、负C、零D、准粒子E、粒子4、当Au掺入Si中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当B掺入Si中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用。

A、受主B、深C、浅D、复合中心E、陷阱5、 MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )。

A、相同B、不同C、无关6、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )。

A、变大,变小 ;B、变小,变大;C、变小,变小;D、变大,变大。

7、砷有效的陷阱中心位置(B )A、靠近禁带中央B、靠近费米能级8、在热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( A )。

A、大于1/2B、小于1/2C、等于1/2D、等于1E、等于09、如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表( A),CD段代表( B )。

A、多子积累B、多子耗尽C、少子反型D、平带状态10、金属和半导体接触分为:( B )。

A、整流的肖特基接触和整流的欧姆接触B、整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C、非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D、非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触11、一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t??后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A )。

电子科技大学半导体物理B考试试题与参考答案

电子科技大学半导体物理B考试试题与参考答案

电⼦科技⼤学半导体物理B考试试题与参考答案电⼦科⼤2005-2006年第⼀学期⼀、选择填空(含多选题)(18分)1、重空⽳是指( C )A 、质量较⼤的原⼦组成的半导体中的空⽳B 、价带顶附近曲率较⼤的等能⾯上的空⽳C 、价带顶附近曲率较⼩的等能⾯上的空⽳D 、⾃旋-轨道耦合分裂出来的能带上的空⽳2、硅的晶格结构和能带结构分别是( C )A. ⾦刚⽯型和直接禁带型B. 闪锌矿型和直接禁带型C. ⾦刚⽯型和间接禁带型D. 闪锌矿型和间接禁带型3、电⼦在晶体中的共有化运动指的是电⼦在晶体( C )。

A 、各处出现的⼏率相同B 、各处的相位相同C 、各元胞对应点出现的⼏率相同D 、各元胞对应点的相位相同4、本征半导体是指( A )的半导体。

A 、不含杂质与缺陷;B 、电⼦密度与空⽳密度相等;C 、电阻率最⾼; C 、电⼦密度与本征载流⼦密度相等。

5、简并半导体是指( A )的半导体A 、(E C -E F )或(E F -E V )≤0B 、(EC -E F )或(E F -E V )≥0C 、能使⽤玻⽿兹曼近似计算载流⼦浓度D 、导带底和价带顶能容纳多个状态相同的电⼦6、当Au 掺⼊Si 中时,它引⼊的杂质能级是( A )能级,在半导体中起的是( C )的作⽤;当B 掺⼊Si 中时,它引⼊的杂质能级是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作⽤。

A 、施主B 、受主C 、深D 、浅7、在某半导体掺⼊硼的浓度为1014cm -3, 磷为1015 cm -3,则该半导体为( B )半导体;其有效杂质浓度约为( E )。

A. 本征,B. n 型,C. p 型,D. 1.1×1015cm -3,E. 9×1014cm -38、3个硅样品的掺杂情况如下:甲.含镓1×1017cm -3;⼄.含硼和磷各1×1017cm -3;丙.含铝1×1015cm -3这三种样品在室温下的费⽶能级由低到⾼(以E V 为基准)的顺序是( B )A.甲⼄丙;B.甲丙⼄;C.⼄丙甲;D.丙甲⼄9、以长声学波为主要散射机构时,电⼦的迁移率µn 10、公式与温度的( B )。

半导体物理期末试卷(含部分答案

半导体物理期末试卷(含部分答案

一、填空题1.纯净半导体Si 中掺V 族元素的杂质,当杂质电离时释放 电子 。

这种杂质称 施主 杂质;相应的半导体称 N 型半导体。

2.当半导体中载流子浓度的分布不均匀时,载流子将做 扩散 运动;在半导体存在外加电压情况下,载流子将做 漂移 运动。

3.n o p o =n i 2标志着半导体处于 平衡 状态,当半导体掺入的杂质含量改变时,乘积n o p o 改变否?不变 ;当温度变化时,n o p o 改变否? 改变 。

4.非平衡载流子通过 复合作用 而消失, 非平衡载流子的平均生存时间 叫做寿命τ,寿命τ与 复合中心 在 禁带 中的位置密切相关,对于强p 型和 强n 型材料,小注入时寿命τn 为 ,寿命τp 为 .5. 迁移率 是反映载流子在电场作用下运动难易程度的物理量, 扩散系数 是反映有浓度梯度时载 qn n 0=μ ,称为 爱因斯坦 关系式。

6.半导体中的载流子主要受到两种散射,它们分别是电离杂质散射 和 晶格振动散射 。

前者在 电离施主或电离受主形成的库伦势场 下起主要作用,后者在 温度高 下起主要作用。

7.半导体中浅能级杂质的主要作用是 影响半导体中载流子浓度和导电类型 ;深能级杂质所起的主要作用 对载流子进行复合作用 。

8、有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲 含铝1015cm -3 乙. 含硼和磷各1017 cm -3 丙 含镓1017 cm -3 室温下,这些样品的电阻率由高到低的顺序是 乙 甲 丙 。

样品的电子迁移率由高到低的顺序是甲丙乙 。

费米能级由高到低的顺序是 乙> 甲> 丙 。

9.对n 型半导体,如果以E F 和E C 的相对位置作为衡量简并化与非简并化的标准,那么 T k E E F C 02>- 为非简并条件; T k E E F C 020≤-< 为弱简并条件; 0≤-F C E E 为简并条件。

10.当P-N 结施加反向偏压增大到某一数值时,反向电流密度突然开始迅速增大的现象称为 PN 结击穿 ,其种类为: 雪崩击穿 、和 齐纳击穿(或隧道击穿) 。

《半导体物理学》试题与及答案

《半导体物理学》试题与及答案

练习1-课后习题7
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
锑化铟的禁带宽度E g = 0.18 e V ,相对介电常数 εr = 17 ,电子的 有效质量mn∗ = 0.015 m0, m 0为电子的惯性质量,求 ⅰ)施主杂质的电离能, ⅱ)施主的弱束缚电子基态轨道半径。
解:
练习2
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
)
得,Ei
EF
k0T ln
p0 ni
代入数据,计算得 Si1 Ei-EF=0.37eV,即p型半导体的EF在禁带中线下0.37eV处; Si2 Ei-EF=0,位于禁带中心位置 Si3 Ei-EF=0.35eV, 在禁带中线上0.35eV处。
作业-课后习题14
第三章 半导体中载流子的统计分布
1、Ⅲ、Ⅴ族杂质在Si、Ge晶体中为( )能级杂质。
(浅)
2、受主杂质向价带提供()成为()电中心。
(空穴;负)
3、杂质处于两种状态:( )和(
)。
4、空位表现为(
(束缚态/中性态;离化态) )作用,间隙原子表现为( )作用。
(受主;施主)
5、以Si在GaAs中的行为为例,说明Ⅳ族杂质在Ⅲ—Ⅴ化合物中可能出现 的双性行为。
p0=NA-ND=2×1015cm-3 n0=ni2/p0=1.125×105cm-3 NA>ND,
电中性条件:NA=ND+p0, 所以,电中性方程:NA=ND+NVexp[(EV-EF)/KT] 即, EF=Ev-KTln[(NA-ND)/NV] =Ev-KTln[p0/NV]
代入数据,可得EF-EV=0.224eV,即费米能级在价带顶上0.224eV处
解:
(1) 根据载流子浓度乘积公式:n0p0=ni2可以求出n0=ni2/p0

2010半导体物理试卷答案B

2010半导体物理试卷答案B

南京理工大学紫金学院课程考试试卷(学生考试试卷)空穴:当满带顶附近产生P 0个空态时,其余大量电子在外电场作用下所产生的电流,可等效为P 0个具有正电荷q 和正有效质量m p ,速度为v (k )的准经典粒子所产生的电流,这样的准经典粒子称为空穴。

本征半导体:不含任何杂质的纯净半导体称为本征半导体,它的电子和空穴数量相同。

非简并半导体:符合波尔兹满分布的半导体称为非简并半导体。

过剩载流子:在光注入、电注入、高能辐射注入等条件下,半导体材料中会产生高于热平衡时浓度的电子和空穴,超过热平衡浓度的电子△n=n-n 0和空穴△p=p-p 0称为过剩载流子。

三、简答题(30分)1)半导体的热电效应主要有塞贝克效应,珀尔帖效应和汤姆逊效应。

请问,何谓帕尔贴效应?请以金属和半导体接触为例,用你所学的半导体物理知识解释帕尔贴效应产生的机理。

(10分)解:帕尔帖效应:当电流由导体(或半导体)A 流向导体(或半导体B)时,在两材料接触处将有吸热(或放热)的现象,称为帕尔帖效应。

(5分)假定金属和半导体的费米能级相同,接触后能带如图所示。

当电子由金属向半导体运动时,遇到的势垒高度为C F E E -。

因此电子至少吸收C F E E -的能量才能进入到半导体。

进入半导体后,电子要在半导体中流动还需要一定的能量,若电子从半导体进入金属时,需要放出相同的能量。

(5分)2)当电子和空穴的浓度是空间和时间的函数时,它们随时间的变化率将由载流子的扩散、漂移及其产生和复合所决定,由电子数、空穴数的守恒原则,试写出载流子随时间的净变化率(pt∂∂)和(n t∂∂),并加以说明。

(10分) 解:载流子随时间的净变化率(pt∂∂)和(n t ∂∂)为A N 所以31069.010ln 1.610⨯⨯所以费米能级在在禁带中线上A N 易知此材料为0 1.610cm =⨯ (3在室温下,本征Ge 的电阻率为本征载流子的浓度,若掺入锑杂质使每个锗原子中有一个杂质原子;计算室温下电子浓度和空穴浓度。

  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

一、名词解释(本大题共5题每题4分,共20分)1. 直接复合:导带中的电子越过禁带直接跃迁到价带,与价带中的空穴复合,这样的复合过程称为直接复合。

2.本征半导体:不含任何杂质的纯净半导体称为本征半导体,它的电子和空穴数量相同。

3.简并半导体:半导体中电子分布不符合波尔兹满分布的半导体称为简并半导体。

过剩载流子:在光注入、电注入、高能辐射注入等条件下,半导体材料中会产生高于热平衡时浓度的电子和空穴,超过热平衡浓度的电子△0和空穴△0称为过剩载流子。

4. 有效质量、纵向有效质量与横向有效质量答:有效质量:由于半导体中载流子既受到外场力作用,又受到半导体内部周期性势场作用。

有效概括了半导体内部周期性势场的作用,使外场力和载流子加速度直接联系起来。

在直接由实验测得的有效质量后,可以很方便的解决电子的运动规律。

5. 等电子复合中心等电子复合中心:在 V族化合物半导体中掺入一定量与主原子等价的某种杂质原子,取代格点上的原子。

由于杂质原子与主原子之间电性上的差别,中性杂质原子可以束缚电子或空穴而成为带电中心。

带电中心吸引与被束缚载流子符号相反的载流子,形成一个激子束缚态。

这种激子束缚态叫做等电子复合中心。

二、选择题(本大题共5题每题3分,共15分)1.对于大注入下的直接辐射复合,非平衡载流子的寿命与(D )A. 平衡载流子浓度成正比B. 非平衡载流子浓度成正比C. 平衡载流子浓度成反比D. 非平衡载流子浓度成反比2.有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲.含铝1×10-153乙.含硼和磷各1×10-173丙.含镓1×10-173室温下,这些样品的电子迁移率由高到低的顺序是(C )甲乙丙 B. 甲丙乙 C. 乙甲丙D. 丙甲乙3.有效复合中心的能级必靠近( A )A.禁带中部B.导带C.价带D.费米能级4.当一种n型半导体的少子寿命由直接辐射复合决定时,其小注入下的少子寿命正比于(C )A.10B.1/△nC.10D.1/△p5.半导体中载流子的扩散系数决定于其中的( A )A.散射机构B. 复合机构C.杂质浓变梯度D.表面复合速度6.以下4种半导体中最适合于制作高温器件的是( D )A. B. C. D.三、简答题(20分)1.请描述小注入条件正向偏置和反向偏置下的结中载流子的运动情况,写出其电流密度方程,请解释为什么结具有单向导电性? (10分)解:在结两端加正向偏压, 基本全落在势垒区上,由于正向偏压产生的电场与内建电场方向相反,势垒区的电场强度减弱,势垒高度由平衡时的下降到q(),耗尽区变窄,因而扩散电流大于漂移电流,产生正向注入。

过剩电子在p 区边界的结累,使-处的电子浓度由热平衡值n 0p 上升并向p 区内部扩散,经过一个扩散长度后,又基本恢复到n 0p 。

在处电子浓度为n(),同理,空穴向n 区注入时,在n 区一侧处的空穴浓度上升到p(),经后,恢复到p 0n 。

反向电压在势垒区产生的电场与内建电场方向一致,因而势垒区的电场增强,空间电荷数量增加,势垒区变宽,势垒高度由增高到q().势垒区电场增强增强,破坏了原来载流子扩散运动和漂移运动的平衡,漂移运动大于扩散运动。

这时,在区边界处的空穴被势垒区电场逐向p 区,p 区边界的电子被逐向n 区。

当这些少数载流子被电场驱走后,内部少子就来补充,形成了反向偏压下的空穴扩散电流和电子扩散电流。

(6分) 电流密度方程:exp 1 D s B qV j j k T ⎡⎤⎛⎫=-⎢⎥ ⎪⎝⎭⎣⎦ (2分)正向偏置时随偏置电压指数上升,反向偏压时,反向扩散电流与V 无关,它正比于少子浓度,数值是很小的,因此可以认为是单向导电。

(2分)2. 在一维情况下,描写非平衡态半导体中载流子(空穴)运动规律的连续方程为:22p p p p pE p p p p D E p g t x x x μμτ∂∂∂∂∆=---+∂∂∂∂,请说明上述等式两边各个单项所代表的物理意义。

(10分) 答:p t∂∂――在x 处,t 时刻单位时间、单位体积中空穴的增加数;(2分)22p p D x ∂∂――由于扩散,单位时间、单位体积中空穴的积累数;(2分)p p E p E p x x μμ∂∂--∂∂―由于漂移,单位时间、单位体积中空穴的积累数;(2分)p pτ∆-――由于复合,单位时间、单位体积中空穴的消失数;(2分)p g ――由于其他原因,单位时间、单位体积中空穴的产生数。

(2分)四、计算题(共5小题,每题9分,共45分)1.设E - 分别为3k 0T ,分别用费米分布函数和玻尔兹曼分布函数计算电子占据该能级的概率。

解:费米分布函数为,当E -等于3k 0T 时,f =0.047 T k E E F e E f 0/)(11)(-+=玻耳兹曼分布函数为,当E -等于3k 0T 时,f =0.050上述结果显示在费米能级附近费米分布和玻耳兹曼分布有一定的差距。

2. 设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量(k )和价带极大值附近能量(k )分别为:2222100()()3C h k k h k E k m m -=+和22221003()6v h k h k E k m m =-;m 0为电子惯性质量,k 1=1/(2a);a =0.314。

试求:①禁带宽度;②导带底电子有效质量;③价带顶电子有效质量;解:①禁带宽度 根据dk k dEc )(=0232m k h +012)(2m k k h -=0;可求出对应导带能量极小值的k 值:=143k ,由题中式可得:=(K)2104k m h ; 由题中式可看出,对应价带能量极大值的k 值为:=0;并且=(k)=02126m k h ; ∴=-=021212m k h =20248am h =112828227106.1)1014.3(101.948)1062.6(----⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯=0.64②导带底电子有效质量T k E E B o Fe Ef --=)(02020********m h m h m h dk E d C =+=;∴ =022283/m dk E d h C = ③价带顶电子有效质量m’02226m h dk E d V -=,∴0222'61/m dk E d h m V n -== 3、 原子加到材料中,取代原子成为施主杂质或取代原子成为受主杂质。

假定原子浓度为11310cm -,其中5%取代原子,95%取代原子,并在室温下全部离化。

求:①施主和受主杂质浓度;②电子和空穴浓度及费米能级位置;③导电类型及电阻率。

(1.6×106cm -3,μ80002, μ4002 )解:(1)取代的为受主杂质,故受主杂质浓度为1193105%510/A N cm =⨯=⨯ 取代的为施主杂质,故施主杂质浓度为111031095%9.510/D N cm =⨯=⨯(2)施主杂质和受主杂质全部电离,D A N N ?所以10309.010/D A n N N cm =-=⨯ 26230100(1.610)28/9.010i n p cm n ⨯===⨯ 因为 0F iB E E K T i n n e -= 10069.010ln 0.026ln 0.2841.610F i B i n E E K T eV eV n ⨯-===⨯ 所以费米能级在在禁带中线上0.284处(3)D A N N ?易知此材料为n 型半导体 191001181701.61085009.010n cm qu n ρ-===Ω⨯⨯⨯⨯g 4. 在室温下,本征的电阻率为47cm Ω⋅。

试求:1) 本征载流子的浓度,若掺入锑杂质使每610个锗原子中有一个杂质原子;2) 计算室温下电子浓度和空穴浓度。

设杂质全部电离,锗原子的浓度为2234.410cm -⨯;3) 试求该杂质锗材料的电阻率。

(设23600/n u cm V s =⋅,21700/p u cm V s =⋅且不随杂质变化。

) 解:(1)本征半导体的表达式为:1()i n p n q u u ρ=+ 1()i n p n q u u ρ=+()()119133147 1.6021036001700 2.510cm --⎡⎤=⨯⨯⨯+=⨯⎣⎦ 施主杂质原子的浓度为()2261634.41010 4.410D N cm --=⨯⨯=⨯因为杂质全部电离,故()163014.410D n N cm ==⨯ 所以()()21321030160 2.51011.42104.410i n p cm n ⨯===⨯⨯ 其电阻率为116191 4.410 1.602103600n i n n qu ρ--⎡⎤==⨯⨯⨯⨯⎣⎦()23.9410cm -=⨯Ω•5. 由电阻率为4cm .Ω的p 型和0.4cm .Ω的n 型半导体组成一个结,计算在室温(300K )时内建电势和势垒宽度。

已知在上述电阻率下,p 区的空穴迁移率,./16502S V cm p =μ n 区的电子迁移率S V cm n ./30002=μ,的本征载流子浓度313/105.2cm n i ⨯=,真空介电常数.16,/1085.8120=⨯=-s m F εε (10分) 解:15319111 4.34100.4 1.6103600n n n n n nq n cm q σμρρμ--==⇒===⨯⨯⨯⨯(2分)143p 191119.19104 1.6101700p p p p pq p cm q σμρρμ--==⇒===⨯⨯⨯⨯ (2分) ()2315142219131.3810300 4.34109.1910ln ln 0.22671.610 2.510D i KT np V V q n --⨯⨯⨯⨯⨯===⨯⨯ (3分)1/1141512421910514528.8510160.2267 4.34109.19101.610 4.34109.1910 72.2710s DA D DD A cmN N x V q N N εε---⎡⎤⎛⎫⨯⨯⨯⨯⨯+⨯⎢⎥ ⎪⨯⨯⨯⨯⎝⎡⎤⎛⎫+=⎭⎣⎦=⨯=⎢⎥ ⎪⎝⎭⎣⎦(3分)。

相关文档
最新文档