AR真空镀膜机学习

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《真空镀膜基础知识》PPT课件

技术部技术员培训
☆☆☆涂装真空镀膜基础知识培训
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1
培训的五个阶段
真空镀膜的应用范围及应用现状真空镀膜机原理真空镀膜机设备图示车灯镀膜基础流程真空行业专业术语解释
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2
真空镀膜应用之范围：
光学
• 反射镜、增透膜、濾光片 • 天文望远镜、建筑玻璃、相机、灯具
电子电路显示器元件
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5
真空镀膜的原理
真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜的产品，将被镀薄膜基材装在真空蒸镀机中，用真空泵抽真空，使镀膜中的真空度达到 1.3×10－2～1.3×10-3Pa,加热坩锅使高纯度的铝丝（纯度99.99%）在 1200℃～ 1400℃的温度下溶化并蒸发成气态铝。气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、经冷却还原即形成一层连续而光亮的金属铝层。具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片或基材，镀的材料（金属材料可以是金、银、铜、锌、铬、铝等，其
• 导电膜、绝缘膜、保护膜 • 逻辑元件、运算器、磁片、CCD • 透明导电膜、摄像管导电膜 • LCD、录像磁头 • 蒸发镍、铝、金属陶瓷 • 电阻、电容、影印机硒鼓
纺织品
• 装饰膜 • 金属花纹、金丝银丝线
模具消费用品
• 刀具超硬膜
• 级面板、扶手、栏杆、不锈钢薄板、手机外壳、香烟纸
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镀SIO保护膜
离子轰击
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10
来料检验
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11
净化除油
净化除油：使用特殊的除油剂对塑料制品进行除油。
使用方法：将适量的除油剂注入容器内，先浸泡 1-3min，然后使用干净除尘布对塑料制品擦拭，擦拭时间是产品大小而定

真空磁控镀膜设备构造讲义培训

真空磁控镀膜设备构造讲义培训1. 设备概述真空磁控镀膜设备是一种利用真空技术和磁控技术进行表面涂层处理的专用设备。

它广泛应用于电子、光学、玻璃、金属等领域，可以对材料表面进行镀膜、薄膜沉积、表面改性等工艺处理。

2. 主要构造真空磁控镀膜设备主要由真空腔体、磁控电源、靶材、镀膜物料、真空泵、加热电源、控制系统等组成。

3. 真空腔体真空腔体是整个设备的主体部分，用于容纳镀膜物料、靶材等，并提供真空环境。

其结构通常包括上、下真空室、衬底台、靶架等部分。

4. 真空泵真空泵是用于抽取腔体内气体，创建高真空环境的关键设备。

常见的真空泵包括机械泵、分子泵、离心泵等。

5. 磁控电源磁控电源是真空磁控镀膜设备的核心部件，用于提供磁场，控制镀膜材料的喷射和沉积。

其原理是通过电磁感应和电子束轰击使靶材产生等离子体，进行镀膜作业。

6. 靶材靶材是用于镀膜的材料，通常是金属或合金材料。

在真空腔体内，靶材受到电子束轰击后，产生等离子体，并通过磁场控制其喷射方向和沉积位置。

7. 加热电源加热电源用于在镀膜过程中对腔体内部进行加热或对靶材进行加热，以控制材料的沉积温度和均匀性。

8. 控制系统控制系统用于对整个设备进行温度、真空度、电源参数等方面的控制和监测，保证设备正常稳定运行。

以上就是真空磁控镀膜设备的主要构造讲义，通过对设备构造的理解，可以更好地掌握设备的使用和维护技能。

真空磁控镀膜设备构造讲义9. 镀膜物料镀膜物料是指需要进行表面处理的材料，可以是塑料、玻璃、金属等。

在真空磁控镀膜设备中，镀膜物料被放置在腔体中，通过真空环境和磁控技术进行表面涂层处理。

10. 工作原理真空磁控镀膜设备的工作原理主要包括以下几个步骤：a. 开始工作前，先将腔体内的空气抽空，创造高真空环境。

b. 加热物料和靶材，使其达到需要的温度。

c. 施加磁场，并通过磁控电源产生高能量电子束，轰击靶材，产生等离子体。

d. 控制等离子体的喷射方向和沉积位置，对物料表面进行镀膜处理。

ar镀膜工艺技术

ar镀膜工艺技术AR镀膜工艺技术是一种在光学器件表面上应用薄膜层的技术，用于提高光学器件的透光率、增强对特定波长的反射和防反射效果。

AR镀膜工艺技术广泛应用于眼镜、相机镜头、光学仪器等领域，提升了用户使用体验和产品性能。

AR镀膜工艺技术的基本原理是通过在光学器件表面上沉积不同折射率的薄膜层，达到控制光学器件表面的反射和透射光线的目的。

常用的薄膜材料有氟化镁、氧化钛等。

AR镀膜工艺技术的关键步骤主要包括基片预处理、膜层形成和后处理三个阶段。

基片预处理是指在开始进行镀膜之前对光学器件的基片进行清洗和表面处理。

清洗可以使用溶剂、超声波清洗等方法去除基片表面的污垢和有机物质，确保基片表面的洁净度。

表面处理可以通过机械研磨、酸洗等方法改善基片表面的平整度和粗糙度，为后续的膜层形成提供良好的基础。

膜层形成是AR镀膜工艺技术的核心步骤。

一般采用物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）两种方法。

PVD方法主要通过真空蒸发和溅射技术，将薄膜材料的固态材料在真空环境下加热或击打，使其蒸发或溅射，并在基片表面沉积。

CVD方法则是通过化学反应生成薄膜材料并沉积在基片表面。

两种方法都具有高度控制膜层厚度、均匀性和成膜速度快的优点。

后处理是对膜层进行加工和改性的步骤。

常用的后处理方法有烧结、退火和离子束处理等。

烧结可以提高膜层的致密度和结晶度，使其具有更好的光学性能。

退火可以消除膜层内部的应力和缺陷，提高膜层的稳定性和耐久性。

离子束处理可以通过辅助离子轰击，进一步改善膜层的致密性和结晶度，提高其抗介质击穿和耐腐蚀性能。

AR镀膜工艺技术的应用范围广泛。

在眼镜领域，AR镀膜能够有效降低镜片的反射光，增强用户的透视体验，减少眩光，提高视野清晰度。

在相机镜头和光学仪器领域，AR镀膜可以提高镜头的透光率和对特定波长的反射效果，提高成像质量。

此外，在光学显示器、光纤通信和激光技术等领域，AR镀膜技术都有着广泛的应用和发展。

总而言之，AR镀膜工艺技术是一种在光学器件上应用薄膜层的技术，通过控制膜层的折射率和厚度，实现对光学器件表面的反射和透射光线的控制。

培训系列之真空镀膜技术基础

真空镀膜技术的材料
金属材料：如金、银、铜等，具有良好的导电性和反射性
非金属材料：如碳、氮、氧等，可以用于制造各种薄膜
陶瓷材料：如氧化铝、氧化硅等，具有较高的硬度和耐腐蚀性
玻璃材料：如硼硅酸盐玻璃、石英玻璃等，具有较好的透过性和化学稳定性
高分子材料：如聚乙烯、聚四氟乙烯等，具有较好的柔韧性和耐候性
真空镀膜技术的基本原理是利用物理或化学方法，将材料从蒸发源或溅射源中蒸发或溅射出来，然后在真空中沉积到基底表面。
空镀膜技术的应用领域
光学应用：提高光学元件的透过率和反射率
电子应用：提高电子元件的导电性和绝缘性
装饰应用：为金属表面赋予美丽的外观和耐腐蚀性
机械应用：提高机械零件的硬度和耐磨性
薄膜质量高：真空镀膜技术可以获得高质量的薄膜，具有高纯度、高密度和良好的均匀性。
适用范围广：真空镀膜技术可以应用于各种材料表面，如金属、陶瓷、玻璃等，并且可以制备多种功能的薄膜，如金属膜、介质膜、半导体膜等。
操作简便：真空镀膜技术操作简单，易于控制，可以连续稳定地生产高质量的薄膜。
环保性好：真空镀膜技术是一种环保型的生产技术，不会产生有害物质，对环境和人体健康没有负面影响。
真空技术：真空镀膜技术的基本原理是利用真空技术，在真空环境下进行薄膜的沉积。
薄膜沉积：在真空环境下，通过蒸发、溅射、化学气相沉积等方法，将材料沉积在基底表面形成薄膜。
物理过程：薄膜的沉积过程涉及物理和化学过程，如分子运动、表面吸附、化学反应等。
薄膜特性：真空镀膜技术可以制备出具有优异性能的薄膜，如高硬度、高耐磨性、高耐腐蚀性等。
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真空镀膜技术基础
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真空镀膜基础知识培训

真空镀膜基础知识培训
沈阳法雷奥车灯有限公司
工艺工程师：孙成志
July 2013 I 1
July 2013
目录:
为什么需要真空？实现加工的目的需要实现不同的工艺
真空的基础什么是真空？如何获得真空？
真空蒸发镀膜原理真空蒸镀物理气相沉积离子清洗与离子轰击
机器的设计单个腔体的多个腔体的
July 2013 I 2
立式双腔体
July 2013 I 27
镀膜质量
质量检测：薄膜性能附着力：划格实验（百格）在铝层表面划1mm*1mm 100个小方格，深至基材粘贴3M810胶带压实，等待5分钟，胶带沿90°向上迅速剥离。结果无脱落耐腐蚀性：1%NaOH溶液在常温下15分钟结果铝层无变化
July 2013 I 28
July 2013 I 38
镀铝笼架
1，不同类型有不同的设计要求：
卧式笼架
立式笼架
July 2013 I 39
镀铝笼架
2，不同类型有不同的设计要求：
→ 通过改变产品定位，改善产品质量
July 2013 I 40
镀膜常见缺陷
缺陷
原因
解决措施
附着力NG
对产品进行前处理（酒精擦拭、清理磨产品表面油污
可以提供一个清洁的表面
July 2013 I 7
真空基础知识
真空量度单位
1标准大气压=760mmHg=760(Torr) 1标准大气压=1.013x105 Pa 1Torr=133.3Pa 1mbar=100Pa
水银柱， 1N/M2=1Pa
July 2013 I 8
真空基础知识
工业上把压力低于大气压的气体空间称为真空，习惯上又把真空分为低真空、中真空、高真空、超高真空、极高真空。

真空镀膜机开关机方法20110823

二.AS和R鍍膜機關機步驟2
使用手指點擊機台主電櫃POWER字樣下的“OFF”鍵。此時機台會自動關閉控制回路。正常時機台顯示屏幕會關閉。
二.AS和AR鍍膜機關機步驟3
AS鍍膜機需先將機台電櫃總電源開關逆時針方向，從 ON位置擰向OFF位置，并確認電源關閉。
二.AS和AR鍍膜機關機步驟4
AS和AR鍍膜機需將機台主電櫃總電源開關逆時針方向，從ON位置擰向OFF位置，并確認電源關閉。
一.AS和AR鍍膜機開機步驟3
鬆開紅色急停開關。右手按住左邊POWER位置”ON”鍵，按鍵啟動正常時鍵背光燈會亮。
一.AS和AR鍍膜機開機步驟4
鍍膜機剛啟動時會有報警聲，這時用手指點動面板“RESET” 鍵進行自動恢復。如果能夠消除報警就為假報警，不能消除報警可能是真報警。例如：冷卻水異常；IB(離子源)啟動異常；原點復歸異常等。
二.AS和AR鍍膜機關機步驟5
Key 急停開關
備註：EB(電子槍)控制器在主機正常開關機時，控制器Key 一直向Remote(遠程)位置，急停開關不能壓住。
Thanks!
SHZBG-iPGM設備維護
AS和AR真空鍍膜機開關機方法
模具設備維護三部製作
一.AS和AR鍍膜機開機步驟1
AS和AR鍍膜機在機台主操作面板位置紅色總電源開關處，從“OFF” 狀態順時針方向擰向右邊“ON”后，電源指示燈亮，開機正常。
一.AS和AR鍍膜機開機步驟2
AS鍍膜機後面機械手控制電櫃。開機時將電源開關從綠色順時針方向擰向紅色“ON”位置，這時黃色電源指示燈亮，總電源開機正常(AR鍍膜機只有前面一個電櫃)。
一.AS和AR鍍膜機開機步驟5
3分鐘左右時間機台面板啟動到正常顯示畫面時。用手指點擊面板 “啟動”字樣。正常確認時字塊背景會由灰色變為綠色，60分鐘左右時間機台進行自動預熱啟動中。啟動正常時面板RP泵,MBP泵和DP 泵指示變綠色時，設備才可以開倉裝料工作。

真空磁控镀膜设备构造讲义培训

真空磁控镀膜设备构造讲义培训一、概述真空磁控镀膜设备是一种先进的表面处理技术，通过在真空环境下利用磁场和电场对材料表面进行镀膜，可以改善材料的表面性能。

本文档将介绍真空磁控镀膜设备的构造和操作原理，帮助读者了解该设备的基本原理和使用方法。

二、设备构造真空磁控镀膜设备由以下几个主要部分组成：1. 真空室真空室是整个设备的核心部分，用于创造和维持一个低压、高真空的环境。

它通常由不锈钢制成，具有良好的密封性能。

真空室内部设有不同功能的连接口，用于连接其他设备和通入所需的气体。

2. 真空泵系统真空泵系统用于抽取真空室内的气体，以创建和维持高真空环境。

常见的真空泵包括机械泵、扩散泵和分子泵等。

不同类型的真空泵可根据需要组合使用，以达到所需的真空度。

3. 反应腔体反应腔体是放置待处理材料的空间，通常由不锈钢制成。

在镀膜过程中，材料将被放置在反应腔体内，并通过外部的电极连接到高频电源。

4. 高频电源高频电源用于提供镀膜过程中所需的工作电场。

它产生高频电场，使待处理材料表面上的离子得到加速，从而实现镀膜效果。

高频电源通常由高频发生器、匹配箱和功率放大器等组成。

5. 磁控系统磁控系统通过施加外部磁场，对待处理材料表面上的离子进行控制。

它通常由可调磁铁和磁场感应探针等组成。

磁控系统的调节可以影响镀膜过程中的离子运动轨迹，从而调节镀膜膜层的均匀性和性能。

6. 控制系统控制系统用于监测和控制整个设备的运行状态，通常由计算机和相关软件组成。

操作人员可以通过控制系统对设备进行操作、参数设定和数据记录等操作。

三、操作原理真空磁控镀膜设备的操作原理如下：1.将待处理的材料放置在反应腔体内，关闭真空室。

2.打开真空泵系统，抽取真空室内的气体。

3.当达到所需的真空度后，打开高频电源，产生工作电场。

4.同时打开磁控系统，施加外部磁场。

5.离子在电场和磁场的作用下，被加速并聚集到材料表面上，形成薄膜。

6.控制系统监测镀膜过程中的各项参数，并实时显示和记录数据。

真空镀膜技术教育训练

五、蒸鍍與濺鍍製程上運用之差異
素材形狀:平面:濺鍍立體複雜:蒸鍍
鍍膜材質之要求:皆多樣化半透光均勻度:平面:濺鍍
立體複雜:蒸鍍鍍膜方向:單方向性:濺鍍
立體複雜:蒸鍍
六、常見的外觀裝飾性PVD之製程
配合噴塗之鍍膜(Base coat+VM+Top coat)
素材直接鍍膜(RF+VM+Top coat) 其他
1 torr≈133.322 Pa
3.2 蒸鍍(Evaporation)原理
關於鍍膜的形成，首先利用強大電流將鍍膜源 (鎢絲) 加熱，然後把掛在鎢絲上的鍍材(鋁片或鋁線)熔解。鋁材從而蒸發、飛散到各方面並附著於被鍍件上。熔解的鋁為鋁原子，以不定形或液體狀態存在並附著於被鍍件上，經冷卻結晶後從而變為鋁薄膜。
2.銘版 3.數位相機自拍鏡 4.半透光燈罩
七、蒸鍍配合其他製程之運用
搭配印刷(移印/熱轉印) 搭配雷雕(Laser Etching) EMI(防電磁波)
Any Questions
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
蒸鍍(Evaporation)
Substrate Cloud Material Vacuum chamber
Heater
3.1 真空度定義
1.1真空度:
在一大氣壓的狀態下,一莫爾之氣體佔有22.4公升的空間,
相當於1cm3的空間內有1019氣體分子,氣體對氣壁碰撞會產生壓力 .當密閉空間內氣體殘留越少時,真空度越高,氣體金屬原子和離子運動的速度越快,撞擊或沉積於工件上的原子越多.真空度單位以torr為單位.
1.2真空度的分類:
1.2.1低真空度:760torr~1*10-2torr
1.2.1中真空度:1*10-2torr~1*10-4torr

真空镀膜机工作原理学习心得

真空镀膜机工作原理学习心得镀膜分类个人总结镀膜作用我们的产品根据特性要求在生产过程中需要经过两次不同的镀膜，其镀上去的药品不一样，所以所起到的功能也是不一样的，但是值得提一点的是同样的药品同样的机台参数设置不同的情况下镀出来的效果和其作用也是不一样的。

如果把镀膜分类可以分为以下几类蒸发镀膜定义:在高真空中用加热蒸发的方法使镀料转化为气相，然后凝聚在基体表面的方法称蒸发镀膜(简称蒸镀)。

蒸发镀膜的三个过程:A)固相或液相气相B)气化原子或分子在蒸发源与基片之间的运输 C) 蒸发源子或分子在基片表面上的沉积过程优点: 1)设备比较简单，容易操作;2)制成的薄膜纯度高，质量好，厚度可以较准确控制;3) 成膜速率快，效率高，用掩膜可以获得清晰的图形;4)薄膜的生长机理比较简单;缺点:1)不容易获得结晶结构的薄膜; 2)附着力较小;3)工艺重复性不好;蒸镀方法(1)电阻加热蒸镀加热器材料常使用钨、钼、钽等高熔点金属，按照蒸发材料的不同，可制成丝状、带状和板状。

(2)电子束加热蒸镀 Mo利用电子束加热可以使钨(熔点3380?)、钼(熔点2610?)和钽(熔点3100?)等高熔点金属熔化。

( 所要提到的是电子枪束蒸发过程中会产生软X射线对人体有害，所以在此过程最好不要趴在透视窗上观看)溅射镀膜溅射镀膜:是指在真空室中，利用荷能粒子轰击镀料表面，使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。

定义用一定能量的离子轰击靶材使靶材分子脱离其表面，并使靶材分子输运到衬底上成膜的方法优点? ? ? ? ? ? ?任何物质均可用沉积薄膜与衬底的附着力好溅射镀膜密度高，针孔少，且膜层的纯度较高膜厚可控性和重复性好需要高纯溅射气体典型工作气压为0.1mTorr-10mTorr 较短的平均自由程缺点设备复杂，需要高压装置，沉积速率较低离子镀膜离子镀就是在镀膜的同时，采用带能离子轰击基片表面和膜层的镀膜技术。

离子轰击的目的在于改善膜层的性能。

培训系列之真空镀膜技术基础

蒸发温度取决于镀膜材料的性质和所需的薄膜厚度形成高质量的薄膜，需要采用适当的蒸发源和控制技术。
在真空环境中，凝结在基材表面的镀膜材料分子通过聚集形成连续的薄膜。
薄膜的形成是一个动态过程，受到镀膜材料的性质、基材的温度和表面特性、蒸发速率等因素的影响。
用于制造集成电路、太阳能电池等，具有半导体特性。
半导体薄膜
用于散热、隔热等，具有良好的导热性能。
导热膜
用于生物医疗领域，如人工关节、生物传感器等。
生物薄膜
彩色膜
通过镀制不同颜色的薄膜，实现装饰和美化的效果。
THANKS
感谢您的观看。
真空镀膜技术的起源可以追溯到20世纪初，当时主要是为了解决光学仪器的表面处理问题。
随着科技的不断进步，真空镀膜技术逐渐发展成为一种广泛应用的表面处理技术，涉及的领域也日益扩大。
目前，真空镀膜技术已经成为了新材料、新能源、电子信息等领域的核心技术之一。
光学领域
装饰领域
半导体制造领域
新能源领域
01
02
与先进制造技术的结合
02
真空镀膜技术在先进制造领域如航空航天、汽车、电子等领域的应用越来越广泛，与其他制造技术的结合可以进一步提高产品的性能和可靠性。
与新材料技术的结合
03
新材料技术的发展为真空镀膜提供了更多的选择和应用空间，如新型陶瓷、高分子材料等。
05
CHAPTER
真空镀膜技术的应用实例
通过在光学元件表面镀制一层特定厚度的薄膜，减少光的反射，提高透射率。
减反射膜
增透膜
滤光片
增加光学元件的透光率，减少反射损失。
通过镀制不同材料和厚度的多层薄膜，实现特定波段的透射和反射。
03
02

真空镀膜基础知识

真空镀膜基础知识
一,镀膜作业步骤:
准备工作
1.镀膜前洗净
2.抽检镜片外观确认(裂边,伤痕,不洁)情况,全检镜片锁板情况(镜片倾斜,
3.确认好准备镀膜的镜片(数量,机种,面别)并做好相应记录
4.上伞,
将镜片从包装盒内装到镀膜机台伞架上(主意带手套拿取镀膜板四周,勿碰到镜片
5.区分需要镀膜镜片种类面别
6.清洁坩埚电子枪周围用铜刷刷,吸,并添加药材
7.确认晶振片,监控片是否OK在新的位置
8.确认机台内无杂物,后关门排气加热
9.镀膜
选取相应的制程
10.人员镀膜过程中进行监控
11.下伞
将镀膜后的镜片从伞架取下,放入包装盒
12.抽检
主要为膜点,雾状,颜色异常,不洁
13.光谱测量
采用奥林巴斯反射测定仪和U4100分光光度计
14.伞架每圈抽1PCS共5圈
15.膜强度测试(采用3M胶带粘拉膜3次)
16.光谱量测OK后可送出
二,镀膜制造需要部分耗材
1.SIO2颗粒或环状(∮300*∮230*T7.5mm,)需要根据机台配置选用
2.TIO2颗粒
3.晶振片Filtex 6MHZ或INFICON6MHZ
4.监控片BK7 Φ142*80*1.8mm,需要根据机台配置选用
5.铜坩埚,需要根据机台配置选用
6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm
7.电子枪灯丝,需要根据机台配置选用
8.离子源,需要根据机台配置选用耗材
三,设备日常维修保养部件需要根据机台型号选用
四,光学镀膜机台品牌分玻璃机和塑胶机配置不一样,尺寸可以选择,900mm,1100mm,1300mm,1350mm, 日本光驰,OPTORUN 台湾龙翩日本昭和德国莱宝新克隆。

真空磁控镀膜设备构造讲义培训(PPT39张)

真空磁控溅射镀膜设备系统的组成
真空磁控磁控镀膜设备
真空系统
传动系统
加热系统
冷却系统
工艺布气系统
溅射镀膜系统
真空系统
• 真空系统设备集中于真空室区域，由抽气设备（机械泵、罗茨泵、分子泵）、检测设备（电阻规、电离规、薄膜规）、安全阀（腔体门阀、分子泵挡板阀、旋片泵罗茨泵间自吸阀、管道阀和破空阀）；通过旋片泵 ->罗茨泵->分子泵接力抽气，将腔室内压力由大气变为真空，并在生产过程中保持适合生产的真空环境。
在很大的量程范围内，薄膜真空规都具有很好的线性度，其探测下限约为10-3Pa，这相当于探测到的薄膜位移只有一个原子尺度大小。
传动系统
传动系统共24台驱动电机，上下片平台各4台，工艺区11台，回传区5台传动电机，除上下片平台各有2台电机可实现双向传动外，其余电机均为单向传动；其中除M3 –M9 可以通过端子通断和模拟量信号协同控制电机转速外，其余电机的传动速度由端子通断直接控制；
1－前端端盖；2－油标；3－压力传感器；4－注油塞； 5－放油塞；6－齿轮侧轴承端盖；7－泵体；8－入口法兰 9－出口法兰；10－转子；11－马达侧轴承盖； 12－中间法兰；13－油封处注油塞；14－油封处放油塞； 15－笼形支架；16－电动机；17－泵底座
分子泵结构
按制造结构分类油润滑脂润滑磁悬浮
1-泵体；2-旋片；3-转子；4-弹簧；5-排气阀
图1 旋片泵工作原理图
两个旋片把转子、定子内腔和定盖所围成的月牙型空间分隔成A、B、C三个部分，当转子按图示方向旋转时，与吸气口相通的空间A的容积不断地增大，A空间的压强不断的降低，当A空间内的压强低于被抽容器内的压强，根据气体压强平衡的原理，被抽的气体不断地被抽进吸气腔A，此时正处于吸气过程。B腔的空间的容积正逐渐减小，压力不断地增大，此时正处于压缩过程。而与排气口相通的空间C的容积进一步地减小，C空间的压强进一步的升高，当气体的压强大于排气压强时，被压缩的气体推开排气阀，被抽的气体不断地穿过油箱内的油层而排至大气中，在泵的连续运转过程中，不断地进行着吸气、压缩、排气过程，从而达到连续抽气的目的。

培训系列之7真空镀膜技术基础

培训系列之7真空镀膜技术基础
环形蒸发源
——环形线蒸发源
平面基片的环形线蒸发源
平行于基片的环形线源的膜厚
培训系列之7真空镀膜技术基础
环形蒸发源
——环形平面蒸发源
平行于基片的环形平面蒸发源
培训系列之7真空镀膜技术基础
环形蒸发源
——环形柱面蒸发源
培训系列之7真空镀膜技术基础
环形蒸发源
——环形锥面蒸发源
培训系列之7真空镀膜技术基础
离子轰击固体表面时发生的物理过程
培训系列之7真空镀膜技术基础
与溅射率有关的因素
o 溅射率与靶材有关 o 溅射率与入射正离子的能量有关 o 溅射率与入射离子的种类有关 o 溅射率与离子入射角有关 o 溅射率与靶材温度有关
培训系列之7真空镀膜技术基础
溅射率与离子能量的关系
——HCD枪特性
辅助阳极孔径与主束电压及束流的关系
主束电源与引束电源的匹配
氩气流量与主束电压的关系
培训系列之7真空镀膜技术基础
激光加热式蒸发源
1.玻璃衰减器 2.透镜 3.光圈 4.光电池 5.分光器 6.透镜 7.基片 8.探头 9.靶 10.真空室 11.激光器
培训系列之7真空镀膜技术基础
蒸发源按形状分类：
题热应力、淀积内应力、附加内应力应尽量小 o 基片镀前处理与成膜时对基片加热（烘烤、离子轰击等） o 沉积速率的选择与控制 o 镀前对基片打底膜
培训系列之7真空镀膜技术基础
3. 真空溅射镀膜
培训系列之7真空镀膜技术基础
3.1 溅射镀膜
o 溅射：所谓“溅射”，就是用荷能粒子（通常用气
体正离子）轰击物体，引起物体表面原子从母体中逸出的现象。 o 溅射镀膜：在真空条件下，利用低压等离子体气体放电中的溅射现象制备薄膜，即真空溅射镀膜。

AR镀膜技术

ET Solar R&D Center 窦如凤、王涛1.前言2.AR镀膜玻璃增透原理3.AR镀膜玻璃的加工方法4.AR镀膜玻璃的质量要素5.AR镀膜组件可能会出现的几个问题•AR光伏组件通过在玻璃上增加减反射涂层来提高光线的透过率，从而达到提高组件的发电功率的目的。

•国内外很多光伏企业开始研究并已经使用镀膜玻璃产品。

•作为一种新材料，我公司在研究的过程中测试了其各方面的性能，包括AR玻璃膜层性能测试以及AR组件耐老化性能测试。

•在研究过程中，我们总结了几点心得，希望能与大家共享。

•一般玻璃的透光率影响太阳能玻璃透光率的主要因素吸收损耗：透明系数反射损耗：反射率光线垂直入射时玻璃的反射率为4%。

•AR coating 的折射率n 1< n 2 < n 3 ，且满足• AR coating 的厚度，为透射光谱波峰处的波长。

AR coating 玻璃利用等厚干涉的原理：从同一点发出的光，反射光线a 1 和a 2之间是相干的，发生相干叠加，干涉相消，减少反射光线，增加透射光的能量。

312n n n =24n h λ=λAR镀膜加工方法有以下几种：喷涂滚涂提拉磁控溅射真空蒸发化学腐蚀用太阳能玻璃的大面积的镀膜方法一般是采取喷涂、滚涂和提拉法。

•光学性能AR镀膜玻璃要满足一定光谱范围内的透光率，通过调节折射率（n受材料晶体结构及聚集密度影响）和膜层的厚度来调节透射光谱。

•机械性能薄膜不仅要有良好的光学性能，为其有使用价值，还要考虑牢固度和硬度。

附着力:决定了薄膜应用的可能性和可靠性。

热应力：膜层与基片的热膨胀系数不同而引起的应力。

硬度：包括耐压强度，抗张强度和耐磨性。

•环境稳定性决定了薄膜的实用性及价值性，主要表现在湿热稳定性及抗辐射能力上。

•AR玻璃的透射光谱与电池片的响应光谱的匹配•玻璃发霉主要是由于玻璃的材质、生产工艺、玻璃存放的环境决定的。

–最初，水或潮气吸附在玻璃表面。

–随后，水或潮气向玻璃内扩散。

《真空镀膜知识培训》PPT课件

四、真空镀膜分为哪几种：
①蒸发真空镀：在真空条件下，将材料加热并蒸发到基片上，称为真空蒸发镀。
②溅射真空镀：利用各种材料在气相间、气相和固体基体表面间所产生的物理、化学过程而沉积薄膜的方法。它又可以分为物理气相沉积。物理气相沉积可分为利用加热膜材而产生热蒸发沉积、利用气体放电产生的正离子轰击阴极（靶材）所产生的溅射沉积、将蒸发和溅射结合起来的离子镀以及分子束外延。我们称之为溅射真空镀。
八、塑料真空镀膜常见问题分析
真空镀膜技术是一个多学科综合的产物，其工艺过程也必然涉及多方面的技术知识，生产上出现的技术问题也非单纯的涂料技术可以解决的，需进行多学科的综合分析。首先，塑料基材的质量要合乎真空镀膜的要求，基材成型加工不当时，容易出现各种缺陷，直接或间接影响真空镀膜质量。
5、产品做完下班后，关了扩散泵后须待温度降低至60℃后才能关维持泵。
谢谢
富森钛金设备迪通恒业科技
联合出品
感谢下载
镍-铁，铁-钴，金-银-金等。金属化合物型的镀
膜材料有：SiO2 、 Ti3O5 、 SnO2 、MgF2 、 ZnS 等。在众多镀膜材料中，以铝材的应用最多，这是因
为铝在真空条件下，蒸发湿度较低，易操作。铝镀膜
层对塑料的附着力强，富有金属光泽；铝镀膜层还能
够遮蔽紫外线，对气体阻隔性也很好。另外，高纯度
问题及现象基材放气
可能原因
基材离蒸发源太近
真空系统泄漏，可能进入太多氧气
真空镀膜有黯真空泵抽气能力低
淡的杂色，出蒸发源或阴极损坏
现蓝色、黄色或黑色
镀膜时真空镀较低
真空度过高，夹具和基材放气底涂层放气
夹具、挂笼或卷绕机有积垢，或残存

真空磁控镀膜设备构造课件培训共42页

真空磁控镀膜设备构造课件培训
56、极端的法规，就是极端的不公。 ——西塞罗 57、法律一旦成为人们的需要，人们就不再配享受自由了。—— 毕达哥拉斯 58、法律规定的惩罚不是为了私人的利益，而是为了公共的利益；一部分靠有害的强制，一部分靠榜样的效力。 ——格老秀斯 59、假如没有法律他们会更快乐的话，那么法律作为一件无用之物法。— —西塞罗
谢谢
11、越是没有本领的就越加自命不凡。——邓拓 12、越是无能的人，越喜欢挑剔别人的错儿。——爱尔兰 13、知人者智，自知者明。胜人者有力，自胜者强。——老子 14、意志坚强的人能把世界放在手中像泥块一样任意揉捏。——歌德 15、最具挑战性的挑战莫过于提升自我。——迈克尔·F·斯特利

镀膜机教学课程ppt课件

氣的功能。
:
真空系統有以下組成：
•
RP〔機械泵浦）
•
MP〔輔助泵浦）
•
DP〔擴散泵浦）
:
RP〔機械泵浦）
• 工作原理：是靠改變氣缸的體積完成吸氣與排氣工作，氣體被分成兩部分。轉子並非繞着圓心鏇轉，這使吸氣鍴的體積不斷變化。吸氣壓縮與排氣過程是同時進行的，隨着轉子的不斷鏇轉，泵體的兩部分體積的變化。當排氣鍴壓力大于排氣口彈簧的壓力時，空氣分子不斷經RP排到大氣中。 • 是增大兩耑的壓力差使排氣速度加
快。它用于初抽與精抽，最大壓力可達到10－4Torr。泵體內部使兩各8字型的轉子，兩個轉子緊密配閤在一起，轉子與轉子、轉子與泵體之間隻有0.2～ 0.3mm的極小空隙。
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MP:分解图
:
注意：
• 因轉子與轉子、轉子與泵體之間隻有0.2～0.3mm的極小空隙，所以平時要保持泵體內部的清潔度，不能有其它雜質〔物），泵體內部沒有油的，油的主要作用是用來潤滑泵浦體的齒輪及軸承，如果有油機臺可能返油或者機械輔助泵浦體的油封磨損，在加註油之前必須讓機臺停下來，以及泵浦處于大氣狀態下。因為機臺在運轉時泵浦內部處于真空狀態、如果打開頂部油封會造成大量的油洩漏以及嚴重損壞泵浦。當泵浦停止且處于大氣壓狀態時，必須停止冷卻水否則當溫度很高時空氣的水分會凝固在泵浦裏，影響泵浦的極限壓力。
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DP〔扩散泵〕图：
1. 水冷套； 2. 喷油嘴；: 3. 导流管； 2. 4. 泵壳； 5. 加热器
控制系统:
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F1界面：
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F3界面：
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真空计界面：
:
1) 人機畫面顯示鍍膜機首頁，按下首頁鍍膜機桶身任一地方，即進入 Screen1中英文選擇畫面。