【CN109777631A】一种电子工业用环保型水基清洗剂及其制备工艺【专利】

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910220253.2

(22)申请日 2019.03.22

(71)申请人 东莞市众禹新材料有限公司

地址 523000 广东省东莞市厚街镇南五社

区南五管理区塘新村2号

(72)发明人 罗照荣　

(74)专利代理机构 北京力量专利代理事务所

(特殊普通合伙) 11504

代理人 宋林清

(51)Int.Cl.

C11D 1/00(2006.01)

C11D 3/20(2006.01)

C11D 3/30(2006.01)

C11D 3/06(2006.01)

C11D 3/08(2006.01)

C11D 3/04(2006.01)C11D 3/38(2006.01)C11D 3/43(2006.01)C11D 3/60(2006.01)

(54)发明名称

一种电子工业用环保型水基清洗剂及其制

备工艺

(57)摘要

本发明公开了一种电子工业用环保型水基

清洗剂，

包括以下重量份的原料：有机胺碱15％、特种无机盐2％、螯合剂2％、表面活性剂8％、醇

醚溶剂10％、工业级去离子水45％。本发明采用

工业级去离子水为主要载体，危险性低，去污作

用强，无氯氟烃成分，环保节能，对大气臭氧层无

污染。权利要求书1页 说明书2页CN 109777631 A 2019.05.21

C N 109777631

A

权　利　要　求　书1/1页CN 109777631 A

1.一种电子工业用环保型水基清洗剂,其特征在于，包括以下重量份的原料：有机胺碱15％-20％、特种无机盐2％-5％、螯合剂2％-5％、表面活性剂8％-10％、醇醚溶剂10％-15％、工业级去离子水45％-65％。

2.根据权利要求1所述的一种电子工业用环保型水基清洗剂,其特征在于，包括以下重量份的原料：有机胺碱15％、特种无机盐2％、螯合剂2％、表面活性剂8％、醇醚溶剂10％、工业级去离子水45％。

3.根据权利要求1所述的一种电子工业用环保型水基清洗剂,其特征在于，包括以下重量份的原料：有机胺碱17％、特种无机盐3％、螯合剂3％、表面活性剂9％、醇醚溶剂12％、工业级去离子水55％。

4.根据权利要求1所述的一种电子工业用环保型水基清洗剂,其特征在于，包括以下重量份的原料：有机胺碱20％、特种无机盐5％、螯合剂5％、表面活性剂10％、醇醚溶剂15％、工业级去离子水65％。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的一种电子工业用环保型水基清洗剂,其特征在于，所述有机胺碱选自单乙醇胺或三乙醇胺的一种或者几种。

6.根据权利要求1-4任意一项所述的一种电子工业用环保型水基清洗剂艺,其特征在于，所述特种无机盐选自无水偏硅酸钠或无水偏硅酸钾的一种或者几种。

7.根据权利要求1-4任意一项所述的一种电子工业用环保型水基清洗剂,其特征在于，所述螯合剂选自柠檬酸钠、EDTA-2NA、EDTA-4NA或三聚磷酸纳的一种或者几种。

8.根据权利要求1-4任意一项所述的一种电子工业用环保型水基清洗剂,其特征在于，所述醇醚溶剂选自乙二醇单丁醚或丙二醇甲醚的一种或者几种。

9.一种电子工业用环保型水基清洗剂制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：

S1、将等量成分的特种无机盐、螯合剂和工业级去离子水倒进化学搅拌机中进行搅拌混合，得混合液；

S2、将等量成分的有机胺碱和表面活性剂依次加入到混合液内，搅拌混合；

S3、将等量成分的醇醚溶剂加入到混合液内，搅拌混合即得一种电子工业用环保型水基清洗剂。

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