显示玻璃简介

素玻璃基板
目前，玻璃基板的供应商主要是美国康宁 （Corning）、 日本旭硝子（Ashahi glass）、日本电气硝子 （NEG）以及日本 板硝子（Avanstracte）四家。 目前常用的玻璃基板生产工艺主要有3 种：溢流法、浮法、 槽口下引法。
溢流熔融法
前段工序是经过特别配料的石英砂、硼酸氧化铝等原料经过熔化炉、马弗炉溶 化后，形成的玻璃膏以输送管输送到溢流槽的凹槽中，当玻璃膏充满溢流槽 凹槽后就由顶部溢满流出，从两侧分流成两股，分别流向溢流槽底端，并在 底端处融合成单片的玻璃薄板，然后继续延续着垂直方向进行引板、退火、 切割。
ITO玻璃分类
按电阻分，分为高电阻玻璃（电阻在150~500欧 姆）、普通玻璃（电阻在60~150欧姆）、低电阻 玻璃（电阻小于60欧姆）。高电阻玻璃一般用于 静电防护、触控屏幕制作用；普通玻璃一般用于 TN类液晶显示器和电子抗干扰；低电阻玻璃一般 用于STN液晶显示器和透明线路板。 按厚度分，有2.0mm、1.1mm、0.7mm、 0.55mm、0.4mm、0.3mm等规格，厚度在 0.5mm以下的主要用于STN液晶显示器产品。 ITO导电玻璃按平整度分，分为抛光玻璃 (STN)和普通玻璃(TN)。
浮式法
玻璃坯料在熔炉中熔融成玻璃膏后，经由管道并利用垂直的隔板来控制 流入充满液态锡金属浮式床的玻璃膏量。当均质的玻璃膏经由流料口 流入充满液态锡的浮式床室后，会扩展成具有一定宽度的玻璃带，而 这玻璃带将沿着水平方向被拉引并逐步冷却，然后从液态锡床室中被 拉引出来，退火切割。
槽口下拉法
该法系以低黏度的均质玻璃膏导入铂合金所制成的 流孔漏板（ Slot Bushing ）槽中，利用重力和下 拉的力量及模具开孔的大小来控制玻璃之厚度， 其中温度和流孔开孔大小共同决定玻璃产量，而 流孔开孔大小和下引速度则共同决定玻璃厚度， 温度分布则决定玻璃之翘曲。 因槽口在承受外力时流孔常会变形，导致厚 度不均匀及表面平坦度无法符合规格需求。
ITO玻璃
ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基板玻璃的 基础上，利用磁控溅射的方法镀上一层氧 化铟锡（俗称ITO）膜加工制作成的。其中 氧化铟透过率高，氧化锡导电能力强，一 般铟和锡的比例为1:9。 液晶显示器专用ITO导电玻璃，还会在 镀ITO层之前，镀上一层二氧化硅阻挡层， 以阻止基片玻璃上的钠离子向盒内液晶里 扩散。
镀膜工艺
镀膜的方法有：喷雾法、涂覆法、浸渍法、化学气相沉积法、 真空蒸发法、溅射法。目前工业化最有效的方法是磁控溅 射法。 其中磁控溅射原理如下： 电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发 生碰撞，使其电离产生出Ar离子和新的电子；Ar离子在电 场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶 材发生溅射，使铟、锡等以原子和离子形式溅射出来，沉 积在基板上，同时被氧化，形成氧化物薄膜。二次电子在 加速飞向基片的过程中受到磁场的影响，被束缚在靠近靶 面的等离子体区域内作圆周运动，在运动过程中不断的与 氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材。
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TCO（Transparent conducting oxide）玻璃
TCO（Transparent conducting oxide）玻璃，即透明导电氧 化物镀膜玻璃，是在平板玻璃表面通过物理或者 化学镀膜的方法均匀镀上一层透明的导电氧化物 薄膜，主要包括In、Sn、Zn和Cd的氧化物及其复 合多元氧化物薄膜材料。 TCO玻璃主要分为ITO（Indium tin oxide)氧化铟锡 玻璃、FTO(Fluorine doped Tin Oxide )氟掺杂氧化锡玻璃、 AZO（Aluminum Doped Zinc Oxide ）铝掺杂氧化锌玻璃. 此外还有BZO（硼掺杂ZnO），GZO（镓掺 杂ZnO）等等。
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