实验二 晶体管的伏安特性及温度特性
二极管电学特性和温度特性

绘制含有三条曲线的二极管正向特性如下:
66.767 2.6
80.733 2.8
2. 测绘二极管的反向特性: U(V) 1.0 2.0 3.0 4.0 5.0 6.0 I 16.90 18.60 19.80 21.80 22.60 23.70
U(V) 7.0 8.0 9.0 10.0 11.0 12.0 I 24.80 25.40 26.30 27.20 27.80 28.20 绘制二极管反向特性如下图所示:
半导体二极管的伏安特性及温度特性测绘
【实验目的】
1、 学习伏安法测量电阻的正确接线方法; 2、 掌握测量半导体二极管的正、反特性电表内接与外接的方法和意 义; 3、 通过作P-N结的伏安特性曲线,学会正确的作图方法,特别是坐标轴 比例的正确选取。
【实验原理】 半导体二极管的伏安特性:
对于某种电子元件,在温度不变的情况下,若改变其加在两端的电 压值U大小,电流值I也会随之而变化。以电压U为横坐标,电流I为纵坐 标,可得到一条曲线,此即这种电子元件的“伏安特性曲线”。对于通 常的金属导体而言,伏安特性曲线是一条直线,这一类元件我们称之 为“线性元件”。还有就是像我们实验中用到的半导体二极管一样,其
U(V) 1.8
2
2.2
2.4 2.6
2.8
I(mA) 数字式 16.88 仪表
19.88
23.20 27.00 31.90 37.20
I(mA) 磁电式 32.55 40.00 46.30 58.50 68.50 82.60 仪表 实验用的指针式电压表所用挡的内阻:,而此时采用的是电流表外接 法,修正方法如下:
2、 测绘二极管的反向特性: 电源15V,保护电阻2KΩ,采用指针式电压表,不要超过管子的最大反 向电压值,只要电流突变为较大即可,并且注意控制电流在80以内,
晶体管共射极接法的伏安特性曲线

i 饱和区 4 C / mA
a. UCE ≤ UBE
3
b. IC<βIB
2
c. UCE 增大Байду номын сангаас IC 增大。
1 (2) 截止区
a. UBE<死区电压
0
b. IB ≈ 0 c. IC ≈ 0
24 截止区
iB= 100 μA
80 60
40 20 0
6 8 uCE / V
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2. 晶体管及放大电路基础
硅管0.7 V 锗管0.3V
(3) 锗管的 ICBO 比硅管大
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谢 谢!
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2. 晶体管及放大电路基础
2.1 晶体管
2.1.1 晶体管的结构 2.1.2 晶体管的放大状态及工作原理 2.1.3 晶体管共射极接法的伏安特性曲线
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2. 晶体管及放大电路基础
2.1.3 晶体管共射极接法的伏安特性曲线
三极管共射极接法
iB
uBE
iC
iE
uCE
共射极输入特性
iB μA
2. 晶体管及放大电路基础
NPN管与PNP型管的区别
NPN管电路
iB
iC
uBE
iE
uCE
PNP管电路
iB
iC
uBE
iE
uCE
iB、uBE、iC、 iE 、uCE 的极性二者相反
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2. 晶体管及放大电路基础
硅管与锗管的区别: (1) 死区电压约为
硅管0.5 V 锗管0.1V
(2) 导通压降|uBE|
(3) 放大区
i 饱和区 4 C / mA
iB= 100 μA
晶体管的伏安特性及主要电参数

晶体管的伏安特性及主要电参数晶体管是一种半导体元件,其具有非线性伏安特性。
在晶体管中,电流与电压之间的关系不是简单的线性关系,而是由晶体管的结构和材料特性所决定的复杂关系。
晶体管的主要电参数包括饱和电流、增益和输出电阻等。
晶体管的伏安特性是指晶体管输入电流与输出电压之间的关系。
晶体管一般有三个电极,即发射极(Emitter)、基极(Base)和集电极(Collector)。
当输入电流施加在基极时,会导致发射极-基极结区域的电流增加,从而导致集电极-基极结区域的电流也增加。
因此,晶体管的输出电压与输入电流之间存在着非线性关系。
晶体管的伏安特性可分为直流伏安特性和交流伏安特性。
直流伏安特性是指基极电压为直流电压时,发射极和集电极之间的电流与电压之间的关系。
交流伏安特性则是指基极电压为交流电压时,晶体管的输出电流与输出电压之间的关系。
晶体管的主要电参数包括:1.饱和电流:即基极电压较低时,当发射极-基极结区域的电流最大时的电流值。
饱和电流决定了晶体管的最大电流承受能力。
2.增益:即晶体管的电流放大能力。
晶体管的增益指的是集电极电流与发射极电流之间的比值,一般用hFE表示。
3.输出电阻:即集电极与发射极之间的总电阻。
输出电阻决定了晶体管的输出电压与输出电流之间的关系。
晶体管的主要电参数对于电路的设计和应用具有重要意义。
例如,在放大电路中,通过选择合适的晶体管,可以实现对输入信号的放大;而在开关电路中,通过控制晶体管的饱和电流,可以实现对开关状态的控制。
总之,晶体管的伏安特性及主要电参数对于理解晶体管的工作原理和应用具有重要意义,它们为电路的设计和分析提供了基础和参考。
光电二三极管特性测试实验报告

光敏二极管特性测试实验一、实验目的1.学习光电器件的光电特性、伏安特性的测试方法;2.掌握光电器件的工作原理、适用范围和应用基础。
二、实验内容1、光电二极管暗电流测试实验2、光电二极管光电流测试实验3、光电二极管伏安特性测试实验4、光电二极管光电特性测试实验5、光电二极管时间特性测试实验6、光电二极管光谱特性测试实验7、光电三极管光电流测试实验8、光电三极管伏安特性测试实验9、光电三极管光电特性测试实验10、光电三极管时间特性测试实验11、光电三极管光谱特性测试实验三、实验仪器1、光电二三极管综合实验仪 1个2、光通路组件 1套3、光照度计 1个4、电源线 1根5、2#迭插头对(红色,50cm) 10根6、2#迭插头对(黑色,50cm) 10根7、三相电源线 1根8、实验指导书 1本四、实验原理1、概述随着光电子技术的发发展,光电检测在灵敏度、光谱响应范围及频率我等技术方面要求越来越高,为此,近年来出现了许多性能优良的光伏检测器,如硅锗光电二极管、PIN光电二极管和雪崩光电二极管(APD)等。
光敏晶体管通常指光电二极管和光电三极管,通常又称光敏二极管和三敏三极管。
光敏二极管的种类很多,就材料来分,有锗、硅制作的光敏二极管,也有III-V族化合物及其他化合物制作的二极管。
从结构我来分,有PN结、PIN结、异质结、肖特基势垒及点接触型等。
从对光的响应来分,有用于紫外光、红外光等种类。
不同种类的光敏二极管,具胡不同的光电特性和检测性能。
例如,锗光敏二极管与硅光敏二极管相比,它在红外光区域有很大的灵敏度,如图所示。
这是由于锗材料的禁带宽度较硅小,它的本征吸收限处于红外区域,因此在近红外光区域应用;再一方面,锗光敏二极管有较大的电流输出,但它比硅光敏二极管有较大的反向暗电流,因此,它的噪声较大。
又如,PIN型或雪崩型光敏二极管与扩散型PN结光敏二极管相比具有很短的时间响应。
因此,在使用光敏二极管进要了解其类型及性能是非常重要的。
pn结的伏安特性与温度特性测量(精)

PN结的伏安特性与温度特性测量半导体PN结的物理特性是物理学和电子学的重要基础内容之一。
使用本实验的仪器用物理实验方法,测量PN结扩散电流与电压关系,证明此关系遵循指数分布规律,并较精确地测出玻尔兹曼常数(物理学重要常数之一),使学生学会测量弱电流的一种新方法。
本实验的仪器同时提供干井变温恒温器和铂金电阻测温U与热力学温度T关系,求得该传感器的灵敏度,并电桥,测量PN结结电压be近似求得0K时硅材料的禁带宽度。
【实验目的】1、在室温时,测量PN结扩散电流与结电压关系,通过数据处理证明此关系遵循指数分布规律。
2、在不同温度条件下,测量玻尔兹曼常数。
3、学习用运算放大器组成I-V变换器测量10-6A至10-8A的弱电流。
U与温度关系,求出结电压随温度变化的灵敏度。
4、测量PN结结电压be5、计算在0K时半导体(硅)材料的禁带宽度。
6、学会用铂电阻测量温度的实验方法和直流电桥测电阻的方法。
【实验仪器】FD-PN-4型PN结物理特性综合实验仪(如下图),TIP31c型三极管(带三根引线)一只,长连接导线11根(6黑5红),手枪式连接导线10根,3DG6(基极与集电极已短接,有二根引线)一只,铂电阻一只。
【实验原理】1、PN 结伏安特性及玻尔兹曼常数测量由半导体物理学可知,PN 结的正向电流-电压关系满足:[]1/0-=KT eU e I I (1)式(1)中I 是通过PN 结的正向电流,I 0是反向饱和电流,在温度恒定是为常数,T 是热力学温度,e 是电子的电荷量,U 为PN 结正向压降。
由于在常温(300K)时,kT /e ≈0.026v ,而PN 结正向压降约为十分之几伏,则KT eU e />>1,(1)式括号内-1项完全可以忽略,于是有:KT eU e I I /0= (2)也即PN 结正向电流随正向电压按指数规律变化。
若测得PN 结I-U 关系值,则利用(1)式可以求出e /kT 。
晶体管伏安特性与开关特性图文说明

晶体管伏安特性与开关特性图文说明1. 晶体管伏安特性曲线⑴输入特性曲线输入特性曲线是指当集电极与发射极之间电压U CE 为常数时, 输入回路中加在晶体管基极与发射极之间的发射结电压u BE 和基极电流i B 之间的关系曲线,如图2.7所示。
用函数关系式表示为:常数==CE BE B u u f i |)(⑵输出特性曲线输出特性曲线是在基极电流i B 一定的情况下,晶体管的集电极输出回路中,集电极与发射极之间的管压降u CE 和集电极电流i C 之间的关系曲线,如图2.8所示。
用函数式表示为常数==B CE C i u f i |)(图2.7 晶体管的输入特性曲线 图2.7输出特性曲线①截止区习惯上把i B ≤0的区域称为截止区,即i B =0的输出特性曲线和横坐标轴之间的区域。
若要使i B ≤0,晶体管的发射结就必须在死区以内或反偏,为了使晶体管能够可靠截止,通常给晶体管的发射结加反偏电压。
②放大区在这个区域内,发射结正偏,集电结反偏i C 与i B 之间满足电流分配关系i C =βi B +I CEO , 输出特性曲线近似为水平线。
③饱和区如果发射结正偏时,出现管压降u CE <0.7V (对于硅管来说),也就是u CB <0 的情况,称晶体管进入饱和区。
所以饱和区的发射结和集电结均处于正偏状态。
饱和区中的i B 对i C 的影响较小,放大区的β也不再适用于饱和区。
2.晶体管的开关特性从上述可知,当U C >U B >U E 时,三极管集的电极电流与基极电流成C B I I β=关系,而且调整RX1电阻(集电极电阻),使U CE 从0-5V 变化,此时的I C 值已最大。
即:当U C >U B >U E 时,集电极电流I C 最大值。
所谓晶体管的开关特性是指,当U C >U B >U E 时,集电极到发射极相当于有大电流流过,U CE =0V ,电源电压全部作用于集电极电阻上;当U C >U B =U E 时(或U C >U E >U B )时,集电极无电流流过,即I C =0A ,相当于晶体管的集电极与发射极断开,U CE 等于电源电压。
非线性元件伏安特性的测量实验报告-基本模板

非线性元件伏安特性的测量实验报告-基本模板.docx非线性元件伏安特性的测量实验报告一、实验目的1. 掌握伏安特性测量的基本原理和方法;2. 了解非线性元件的基本特性和使用条件;3. 通过实验观察非线性元件的伏安特性,探究其非线性特性。
二、实验仪器1. 直流稳压电源;2. 电流表、电压表;3. 变阻器;4. 二极管;5. 晶体管等元件。
三、实验原理1. 二极管伏安特性二极管是一种具有非线性电性质的半导体元件,其伏安特性呈现出一定的折线性。
正向电压增加,二极管导通电流增加,其电压降逐渐减小,最终趋近于一个稳定的干接触电压;反向电压增加,二极管截止,几乎无表观电流。
因此,在二极管正向伏安特性曲线上,一段电压范围内表现为导通状态,称为“正导区”;另一段电压范围内表现为截止状态,称为“反向截止区”。
2. 晶体管伏安特性晶体管是一种受控的半导体放大器,其伏安特性是非线性的。
晶体管的输出电流与输入电压及偏置电压有关,而晶体管的输入电阻和输出电阻受到偏置电压的影响,具有较大的变化。
因此,晶体管的伏安特性存在多种类型,如单调式、双调式、S 型等,具有一定的特征。
四、实验步骤1. 准备实验仪器和元件。
2. 组装实验电路,如图所示。
3. 调节直流稳压电源的输出电压为所需电压,如0.1V、0.2V 等。
4. 用电压表测量二极管正反向电压,用电流表测量二极管正向电流。
5. 记录实验数据,绘制二极管正向伏安特性曲线,观察其特性,并测量二极管的大量反向电压。
6. 更换为晶体管等元件重复上述步骤,观察不同类型晶体管的伏安特性曲线,分析其性质。
五、实验结果与分析二极管、晶体管伏安特性曲线如下图所示:通过二极管、晶体管的伏安特性曲线可以看出,二极管在正向电压范围内,其电流随电压增加而增加,直到饱和状态,形成正向电流;而在反向电压范围内,其发生突变,极性反转,电流几乎为0;晶体管的伏安特性曲线则显示出不同类型晶体管的特征,如单调式晶体管的特征为输出电流与输入电压成正比,输出VS输入为线性,而双调式晶体管的电流输出与偏置电压存在双簇,输出与输入有一定的非线性关系。
第二章-晶体管

(1)共基直流放大系数 IC
IE
(2)共基交流放大系数
IC
I E
由于ICBO、ICEO 很小,因此 在以后的计算中,不必区分。
二、极间反向电流
1 ICBO
发射极开路时,集电极—基极间的反向电流,称为集 电极反向饱和电流。
2 ICEO
基极开路时,集电极—发射极间的反向电流,称为集 电极穿透电流。
T
( 0.5 ~ 1) / C
2.3.2 晶体管的主要参数 一、电流放大系数
1.共射电流放大系数
(1) 共射直流放大系数 反映静态时集电极电流与基极电流之比。
(2) 共射交流放大系数 反映动态时的电流放大特性。
由于ICBO、ICEO 很小,因此 在以后的计算中,不必区分。
2. 共基电流放大系数
a. 受控特性:iC 受iB的控制
uCE=uBE 4
放
IB=40μ A
iC iB
饱 和3
30μ A
区
大 20μ A
iC iB
2
区
10μ A
1
b. 恒流特性:当 iB 恒定时,
0
uCE 变化对 iC 的影响很小
0μ A iB=-ICBO
5
10
15
uCE/V
截止区
即iC主要由iB决定,与输出环路的外电路无关。
iC主要由uCE决定 uCE ↑→ iC ↑
iC /mA
=80μA =60μA =40μA
=20μA
25℃
uCE /V
(3)当uCE增加到使集电结反偏电压较大时,运动 到集电结的电子基本上都可以被集电区收集,
此后uCE再增加,电流也没有明显得增加,特 性曲线几乎平行于与uCE轴
第2章双极型晶体管及其特性

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(3)当uCE在0~1V之间时,随着uCE的增加,曲线右 移。特别在0< uCE ≤UCE(sat)的范围内,即工作在饱和区 时,移动量会更大些。
确定了 值之后,由式(2–1)、(2–2)可得
ICIB(1)ICBO IBICEO
(2–3a)
IE(1)IB(1)ICBO (1)IBICEO(2–3b)
IBIEIC
(2–3c)
式中:
ICEO(1)ICBO
(2–4)
称为穿透电流。因ICBO很小,在忽略其影响时,则有
IC IB IE (1 )IB 式(2–5)是今后电路分析中常用的关系式。
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2–1–2 由以上分析可知,晶体管三个电极上的电流与内部
载流子传输形成的电流之间有如下关系:
IE IEN IBN ICN IB ICN ICBO IC ICN ICBO
(2–1a) (2–1b)
(2–1c)
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IC
IE
uB常数
(2–11)
现在你正浏览到当前第三十页,共一百九十九页。
由于ICBO、ICEO都很小,在数值上β≈ ,α≈
应当指出,β值与测量条件有关。一般来说,在iC 很大或很小时,β值较小。只有在iC不大、不小的中间 值范围内,β值才比较大,且基本不随iC而变化。因此, 在查手册时应ห้องสมุดไป่ตู้意β值的测试条件。尤其是大功率管更
。
现在你正浏览到当前第二十三页,共一百九十九页。
电学元件的伏安特性测量

U(V) I(mA)
数据处理要求 (a)按上表数据进行等精度作图(复习等精度作图规则) 。以自变量 U 为横坐标,应变量 I 为纵坐 标,且据等精度原则选取作图比例尺。例如电压表准确度 K=0.5,Um=15V,则△U=15×0.5%=0.075V≈ 0.08V,即测量的电压值中十分之一伏为可信值,而百分之一伏这一位为可疑数,故作图时横轴的比例 尺应为 1mm=0.1V。同理,可定出纵轴 1mm 代表多少 mA。 (b)从 U-I 图上求电阻 R 值。在 U-I 图上选取两点 A 和 B(不要与测量点数据相同,且尽可能相 距远些,为什么?请思考) ,由式 U −U A R= B IB − IA 求出 R 值。 (3)二极管正反向伏安特性曲线测定 测量序数 1 2 3 4 5 6 7 8
1
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端的电压成正比关系变化,即其伏安特性曲线为一直线。这类元件称为线性元件,如图 2-12-3 所示。 至于半导体二极管、稳压管等元件,通过元件的电流与加在元件两端的电压不成线性关系变化,其伏安 特性为一曲线。这类元件称为非线性元件,如图 2-12-4 所示为某非线性元件的伏安特性。 A A
图 2-12-7 测晶体二极管正向特性电路 (2)测晶体二极管正向特性: 因为二极管正向电阻小,可用图 2-12-7 所示的电路,图中 R 为保护电阻,用以限流。接通电源前 应调节电源 E 使其输出电压为 3V 左右,并将分压输出滑动端 C 置于 B 端(这与图 2-12-6 是一样的) 。 然后缓慢增加电压,如取 0.00V、0.10V、0.20V、……(到电流变化大的地方,如硅管约 0.6∼0.8V 可 适当减小测量间隔) ,读出相应电流值,将数据记入相应表格。最后关断电源(此实验硅管电压范围在
第二章例题

【例2-1】电路如图所示,晶体管的β=100,U BE=0.7 V,饱和管压降U CES=0.4 V;稳压管的稳定电压U Z=4V,正向导通电压U D=0.7 V,稳定电流I Z=电流I ZM=25 mA。
试问:(1)当u I为0 V、1.5 V、25 V时u O各为多少?(2)若R c短路,将产生什么现象?晶体管工作状态的判断,稳压管是否工作在稳压状态的判断以及限流电阻的作用。
判断晶体管的工作状态。
稳压管的工作状态判断u O的值。
【解题过程】(1)当u I=0时,晶体管截止;稳压管的电流间,故u O=U Z=4 V。
时,晶体管导通,基极电流工作在放大状态,则集电极电流=0.4 V,说明假设成立,即晶体管工作在放大状态。
是,虽然当u I为0 V和1.5 V时u O均为4 V,但是原因不同;前者因晶体管截止、稳压管区,且稳定电压为4 V,使u O=4 V;后者因晶体管工作在放大区使u O=4 V,此时稳压零而截止。
时,晶体管导通,基极电流工作在放大状态,则集电极电流电的情况下,u O不可能小于零,故假设不成立,说明晶体管工作在饱和状态。
可以假设晶体管工作在饱和状态,求出临界饱和时的基极电流为>I BS,说明假设成立,即晶体管工作在饱和状态。
短路,电源电压将加在稳压管两端,使稳压管损坏。
若稳压管烧断,则u O=V CC=12 V。
成短路,则将电源短路;如果电源没有短路保护措施,则也将因输出电流过大而损坏态的判断:对于NPN型管,若u BE>U on(开启电压),则处于导通状态;若同B>U E,则处于放大状态,I C=βI B;若此时基极电流状态,式中I CS为集电极饱和电流,I BS是使管子临界饱和时的基极电流。
是否工作在稳压状态的判断:稳压管所流过的反向电流大于稳定电流I Z才工作在稳压流小于最大稳定电流I ZM才不会因功耗过大而损坏,因而在稳压管电路中限流电阻必不电路中R c既是晶体管的集电极电阻,又是稳压管的限流电阻。
晶体管的主要电参数及温度特性

IBQ 40μA
iB 60 40
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2. 晶体管及放大电路基础
(3) 极限参数
B (b) C(c) B (b) C(c)
T
T
E(e)
E(e)
(1) 集电极开路时发射极—基极间反向击穿电压 U(BR)EBO
(2) 发射极开路时集电极—基极间反向击穿电压 U(BR)CBO
(3) 基极开路时集电极—发射极间反向击穿电压 U(BR)CEO (4) 集电极最大允许电流 ICM
(2)共射极交流电流放大系数β
β
iC
iE
i C 常数
iB
β值与iC的关
系曲线
iC
0
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2. 晶体管及放大电路基础
iC(mA)
4
2.3 3 IC 1.5 2
100 25 C
80
60
Q 40
IB
iB=20(A)
10 2 4 6 8
uCE(V)
ICQ 1.5mA 37.5 i C 2.3 1.5 40
iB =100μA
80 60
40 20 0
6 8 uCE / V
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谢 谢!
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(1) 直流参数
(1)共基极直流电流放大系数
IC
ICBO 0 IE
(2)共射极直流电流放大系数
IC
IB
ICBO 0
(3)发射极开路,集电极—基极间反向饱和电流 ICBO
(4)基极开路,集电极—发射极间反向饱和电流 ICEO
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2. 晶体管及放大电路基础
(2) 交流参数
(1)共基极交流电流放大系数α
2. 晶体管及放大电路基础
晶体管的开关特性资料

可分为发射结由反偏至正偏和集电极电流形成两个阶段。
1
2
3
4
5
x=0
x=w
N
P
N
QBS
nb(x)
pc(x)
QCS
pe(x)
图3-1-14 晶体三极管基区少子 浓度分布曲线
发射结变为正偏,并逐渐形成集电极电流所需的时间,即为延迟时间td,其长短取决于晶体三极管的结构和电路工作条件。三极管结电容越小, td越短;三极管截止时反偏越大,td越长;正向驱动电流越大,td越短。
发射结正偏后,集电极电流iC不断上升,达到0.9ICS所需时间即为上升时间tr。
tr的大小也取决于晶体三极管的结构和电路工作条件。基区宽度w越小,tr也越小;基极驱动电流越大,tr也越短。
(2) 晶体三极管由饱和状态过渡到截止状态的过程。
可分为驱散基区多余存储电荷及驱散基区存储电荷两个阶段。
图3-1-5中,当vI>VREF1时,二极管导通,vO≈vI;当vI<VREF1时,二极管截止,vO=VREF1。这样就将输入波形中瞬时电位低于VREF1的部分抑制掉,而将高于VREF1的部分波形传送到输出端,实现了下限限幅的功能。
演 示
D1
R2
VREF2
+
-
+
-
vI
(a)
+
-
vO
D2
R1
VREF1
3.1 晶体管的开关特性
3.1.1 晶体二极管开关特性
3.1.2 晶体三极管开关特性
S
R
V
图3-1-1 理想开关
+
-
3.1.1 晶体二极管开关特性
模拟电子技术标准实验报告 实验1-4

w.
ibm
14mV 2 18 A 1.16 K I B 18 A 10 A, 选30 A。
I E I C I B 65 30A 2mA
ju
选管 3DG6C,测量其=65。 为求r be ,设I E 2mA,则
st
26mV 1.16k 2mA
I bm 是U i 产生I B 的最大值。为避免产生截止失真,不应使输入信号工作在输入特性的弯 曲部分。故在设置基极电流时最少加 10A的起始电流。
ibm
rbe 300 1 65
ww
核算I E 与初选值是否吻合:
3)选择偏置电阻R b1 和R b2 欲使I B 稳定应使 I 1 I B ,硅管的 I 1 5 10 I B,I B 30 A , 则I 1 150 300 A . 选 I 1 220 A 。 考虑到设计任务对放大器未提出温度等特殊要求,故设计中可作常温(0--45C)处理。 基极电压可选择低一些,使V B =3V,
ww
w.
四、思考题: 1、示波器荧光屏上的波形不断移动不能稳定,试分析其原因。调节哪些旋钮才能使波形稳 定不变。 答:用示波器观察信号波形,只有当示波器内部的触发信号与所测信号同步时,才能在荧光 屏上观察到稳定的波形。 若荧光屏上的波形不断移动不能稳定, 说明触发信号与所测信号不 同步,即扫描信号(X轴)频率和被测信号(Y轴)频率不成整数倍的关系( x n y ),从而使 每一周期的X、Y轴信号的起扫时间不能固定,因而会使荧光屏上显示的波形不断的移动。 此时,应首先检查“触发源”开关(SOURCE)是否与Y轴方式同步(与信号输入通道保持 一致) ;然后调节“触发电平” (LEVEL) ,直至荧光屏上的信号稳定。 2、在测量中交流毫伏表和示波器荧光屏测同一输入电压时,为什么数据不同?测量直流电压 可否用交流毫伏表,为什么? 答: 交流毫伏表和示波器荧光屏测同一输入电压时数据不同是因为交流毫伏表的读数为正弦 信号的有效值,而示波器荧光屏所显示的是信号的峰峰值。 不能用交流毫伏表测量直流电压。 因为交流毫伏表的检波方式是交流有效值检波, 刻度 值是以正弦信号有效值进行标度的,所以不能用交流毫伏表测量直流电压。
PN结温度特性与伏安特性的研究

PN结温度特性与伏安特性的研究实验目的1. 在恒定温度条件下,测量正向电压随正向电流的变化关系,绘制伏安特性曲线。
2. 在恒定电流条件下,测绘PN结正向压降随温度的变化曲线,确定其灵敏度,估算被测PN结材料的禁带宽度。
3. 学习指数函数的曲线回归的方法,并计算出玻尔兹曼常数,估算反向饱和电流。
4. 探究:用给定的PN结测量未知温度。
实验仪器温度传感器温度特性测试与研究实验装置包括:PN结正向特性综合实验仪、温度传感实验装置、样品室、Pt100温度传感器、PN结集成温度传感器。
实验原理1. PN结的正向特性图1 PN结温度传感器由半导体物理学可知,理想PN结的正向电流和压降存在如下关系:(1)式中是通过PN结的正向电流,是反向饱和电流(在温度恒定时为常数),T 是热力学温度,q是电子的电荷量,为PN结正向压降。
由于在常温(300K)时,kT/q≈0.026V,而PN结正向压降约为十分之几伏,则,因此括号内-1项完全可以忽略,于是有:(2)Is为反向饱和电流,它是一个和PN结材料的禁带宽度以及温度等有关的系数,可以证明:(3)其中C是与结面积、掺质浓度等有关的常数:r也是常数;为绝对零度时PN结材料的导带底和价带顶的电势差。
将(3)式代入(2)式,两边取对数可得:(4)其中:(5),这就是PN结正向压降作为电流和温度函数的表达式,它是PN结温度传感器的基本方程。
令=常数,则正向压降只随温度而变化,但是在方程(4)中,除线性项外还包含非线性项项所引起的线性误差。
设温度由变为T时,正向电压由变为,由(4)式可得:(6)按理想的线性温度影响,V F应取如下形式:(7)等于温度时的值。
由(6)式可得:(8)所以:(9)即:(10)由理想线性温度响应(9)、(10)式和实际响应(6)式相比较,可得实际响应对线性的理论偏差为:(11)设T1=300°k,T=310°k,取r=3.4,由(11)式可得∆=0.048mV,而相应的的改变量约20mV,相比之下误差甚小。
05-3晶体管的伏安特性

IC IB
iC iB
晶体管的伏安特性
晶体管的伏安特性
晶体管的伏安特性:管子各电极电压与电流的关系曲线 是管子内部载流子运动的外部表现,反映了晶体管的性能。 为什么要研究特性曲线: 1)直观地分析管子的工作状态 2)合理地选择偏置电路的参数,设计性能良好的电路 重点讨论应用最广泛的共发射极接法的特性曲线
晶体管的伏安特性
iC ( mA)
I B 100 A
4
I B 80 A
为什么uCE较小时iC随uCE变 化很大? 为什么uCE增大到一定程度, 曲线几乎是横轴的平行线?
I B 60 A
2
iC
iB I 40 A B
I B 20 A
I B 0 A
0
3
6
9
12
uCE (V )
i B ( A)
80
为什么UCE增大曲线右移? 为什么UCE增大到一定值曲线右 移就不明显了?
uCE 0V
40
uCE 1V
0 0.2 0.4 0.6 0.8
uBE (V )
开启电压
硅 0.5V 硅 0.7V 导通电压 锗 0.1V 锗 0.2V
晶体管的பைடு நூலகம்安特性
(2)输出特性曲线
iC f (uCE ) I B 对应于一个IB就有一条iC随uCE变化的曲线。
测量晶体管特性的实验线路
IC IB
A
3DG100
输入特性
mA
B + V UBE
C E IE + V UCE
iB f (uBE ) u
EC
CE 常数
RB
输出特性
输入回路
二极管伏安特性与温度的关系

由半导体物理学知识我们可知PN结总电流密度:
qV J=J s [exp( ) 1] koT
其中
qDn n p 0 qDP Pn 0 Js Ln LP
上面的公式就是理想PN结模型的电流电压方程 式, 又称为肖克莱方程式。
温度对PN结的电流密度影响很大。对于反 qDn n p 0 qDP Pn 0 向饱和电流密度 Js Ln LP 因为公式中两项的情况相似,所以我们只 需要考虑第一项即可。因为D n Ln n 与温度有关,可设 Dn 与T 成正比, 为一常数 n
用图形表示二极管伏安特性曲线与温度的关系 如下所示:
可以看出在相同的电压下,温度越高电流越大。
二极管作为一种使用非常广泛的晶体管, 研究它的特性曲线具有重要的实践意义。 经过我们以上公式的推导我们可以看出, 温度是影响二极管特性的重要因素,我们 必须深入了解它,这样我们才能利用它。
关于二极管
二极管是当今应用最为广泛的晶体 管之一,由于其特殊的物理结构使其在 当今工业生产当中扮演着不可替代的角 色。 其中PN结是二极管的心脏。研究二 极管的伏安特性与温度的关系重点在于 研究温度对PN结的影响。
PN结的形成
在一块完整的硅片上,用不同的掺杂工艺使 其一边形成N型半导体,另一边形成P型半导体, 在P型半导体和N型半导体结合后,在它们的交界 处就出现了电子和空穴的浓度差别,N型区内电 子很多而空穴很少,P型区内则相反。这样,电子 和空穴都要从浓度高的地方向浓度低的地方扩散。 它们扩散的结果就使P区一边失去空穴,留下了带 负电的杂质离子,N区一边失去电子,留下了带正 电的杂质离子。半导体中的离子它们不能任意移 动,因此并不参与导电,通常称为空间电荷,它们 集中在P和N区交界面附近,形成了一个很薄的空 间电荷区,就是所谓的PN结。又称为耗尽区。扩 散越强,空间电荷区越宽。
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实验二晶体二极管的伏安特性及其温度特性实验目的:1.了解晶体二极管伏安特性曲线及其与温度的关系。
2.掌握V j~T,I r~T以及伏安特性与温度之间关系的测量方法。
3.掌握用图示仪测量各类晶体二极管的特性曲线及各项参数的测量方法。
4.了解晶体管特性图示仪的基本工作原理及使用方法。
一实验原理在同一块P型(或N型)硅半导体中,用扩散或合金方法将其中一部分掺入施主杂质(磷、镓)或受主杂质(硼、铝)使之由P型转变成为N型(或由N型转变成为P 型)半导体,在P型区和N型区的交界处就形成了P—N结,如图一所示。
(a)图一PN结的形成图在P型半导体与N型半导体组合成为P—N结后,在P—N结的交界上就出现了电子和空穴的浓度差;N型区的电子浓度比较高,而P型区的空穴浓度比较高,电子和空穴都要从浓度高的地方向浓度低的地方扩散。
因此有一些电子要从N型区向P型区扩散,也有一些空穴要从P型区向N型区扩散,电子和空穴都是带电的,它们扩散的结果就使P型和N型区中原来的电中性条件破坏了:在P—N结交界面附近,P型一边失去了带正电的空穴和接受了带负电的电子,因而带了负电。
N型一边失去了带负电的电子和接受了带正电的空穴,因而带了正电。
由于正负电荷之间的相互吸引,这些电荷将集中分布在P—N结的交界面附近,形成空间电荷区。
在出现空间电荷以后,电于正负电荷之间的相互作用,在空间电荷区中形成了一个内建电场,其方向是从带正电的N型区指向带负电的P型区的,如图一(b)所示。
在电场出现以后,电子和空穴除了由于浓度不同继续作扩散运动外,还要在电场作用下作漂移运动。
根据电场方向和电子空穴带电符号容易看出,这个电场将使空穴从N向P区漂移,使电子从P区向N区漂移,其作用正好与扩散运动相反,当漂移运动与扩散运动相等时,载流子的扩散作用与漂移作用完全抵消,N区和P区的空间电荷不再继续增多,这就达到P-N结的平衡状态。
在平衡状态状态,内建电位差实际上就是不同半导体接触时的接触电位差。
89由晶体管原理分析可知,对于一个具体的P —N 结,在一定温度下的平衡P —N 结接触电位差V B 可由下式算出:2ln iba B n N N q kT V式中:k 为玻尔兹曼常数,T 为温度,N a 和N b 为受主杂质浓度和施主杂质浓度,n i 为本征载流子浓度。
由上分析可知,P —N 结的势垒区中有内建电场,在这个电场作用下,电子和空穴都被排斥到两边去了,势垒中载流子极少而绝大部分是不能移动的杂质离子,因此P —N 结的势垒区是一个高阻区(又称耗尽层或阻挡层)。
势垒区的高度就等于qV B 。
(一)P —N 结的正向特性P —N 结加正向电压V ,即P 型一边接正,N 型一边接负。
如图二。
这个电压与平衡P —N 结的原来的内建电势差V B 的方向正好相反,势垒高度将由V B 减少为(V B -V ),这样就打破了扩散运动和漂移运动的动态平衡,空间电荷区中载流子的扩散作用,将大于漂移作用,N 区的电子不断扩散至P 区,P 区的空穴不断扩散到N 区,扩散至P 区的电子将在势垒边界处积累起来。
然后这些少数载流子电子由于浓度梯度向P 区纵深方向扩散,在扩散过程中不断与空穴复合。
电子电流逐渐转化为空穴电流,经过一个电子扩散长度的距离后,电子基本上全部与空穴复合完毕。
N 区扩散至P 区的电子电流完全转化为P 区的空穴电流。
同样,扩散至N 区的空穴也在势垒边界处积累起来。
然后这些少数载流子空穴由于浓度梯度向N 区纵深方向扩散,在扩散过程中不断与电子复合,空穴电流逐渐转化为电子电流,经过一个空穴扩散长度的距离后,空穴基本上全部与电子复合完毕,P 区扩散至N 区的空穴电流完全转化为N 区的电子电流,如图三所示。
而总电流为空穴电流和电子电流之和。
显然,随着正向电压的增加,势垒高度将进一步降低,爬过势垒从N 区向P 区运动的电子和从P 区向N 区运动的空穴迅速增多,从而使P —N 结的正向电流迅速增大,因此在正向电压作用下,通过P —N 结的电流很大,表现出小电阻的特性。
这就10 是二极管的正向特性,如图4所示。
根据晶体管原理分析可知:在忽略势垒区复合及小注入),(nO n pO p n P P n <<∆<<∆条件下,得到P —N 结正向电流公式:)1)((00-+=kT qvPP n n n p e L Dp L D n Aq I (1) 其中:A~二极管P-N 结面积,0p n ~P 区平衡少数载流子,n D ~电子扩散系数, n L ~电子扩散长度. 0n p ~N 区平衡少数载流子, p D ~空穴扩散系数,p L ~空穴扩散长度。
由式(1)可知,当P —N 结处于正向偏置时(即v>0时),e q v / KT >>1,则式(1)可改写为:kT qvPP n n n p e L Dp L D n Aq I )(00+= (2) 根据2i n =n n0 p n0 , 2i n =p p0 n n0代入上式则:kTqvPP n i n n p i e L D n n L D p n Aq I )..(0202+= (3)公式(3)中许多因素,如D 、n i 和e qv /KT 等,都是与温度有关的,但它们随温度变化的激烈程度却很不相同,其中决定作用的要算21n 和e qv /KT 两项,故P —N 结正向电流I 与结正向压降V j 的关系为:I ∝2i n kTqv j e/ (4)式中, n i 为本征载流子浓度,它和禁带宽度qv g 及温度T 的关系为:1132T n i ∝kTqv g e/- (5)于是I 和温度关系为: I ∝T 3kTv v q j g e/)(-- (6)在I 不变条件下,对T 求微商。
化简最后得到:)3(qkTV V dTdv jg j +--= (7)从式(7)可见,结正向压降V j 越小,它的温度系数越大,以硅为例, V g =1.2 伏,V j =0.65 伏,T=3000K ,k=k ev 05/1063.8-⨯代入,则)/(2]0001.00016.0[0k mv dTdv j-≈+-=就是说,在室温附近温度每升高一度,V j 就减少2毫伏,如果温度升高100℃,V j 就减少0.3伏,其变化规律如图五所示。
实际测量中,把被测二极管放入恒温装置中,固定二极管正向电流I 为某一值(最好取小电流1~2毫安),然后在不同恒温状态下用直流数字电压表或长余辉示波器测量其二极管的正向压降V j 。
实验装置如图六所示。
(二)P-N 结反向特性P-N 结加反向电压,即P 型一边接负,N 型一边接正,如图七所示。
这个电压与平衡P —N 结中原来的内建电势差V B 方向相同,因此加上反向电压后,势垒中电场将增大。
由于受12 反向P —N 结势垒中强电场作用,势垒边缘的少数载流子都被电场拉走,使得势垒两边扩散区中少数载流子浓度低于平衡时浓度。
此时,扩散区中发生的是复台的逆过程,在N 型一边扩散区中产生的空穴扩散到势垒区,受强电场作用拉入P 型区,与那里扩散区产生的空穴会合在一起向负电极运动。
电子的运动情况也完全类似,P 型一边扩散区中产生的电子扩散到势垒区受强电场作用,漂移过势垒区与N 型一边扩散区中产生的电子会合在一起向正电极运动。
电子电流与空穴电流在势垒区扩散区互相接替转换。
组成由N 到P 的反向电流。
由于从N 区抽出的空穴及从P 区抽出的电子都是少数载流子,势垒两边界处的少数载流子浓度不需用多大的反向电压已经降为零。
电压再大也只不过为零而已,也就是说,少数载流子浓度不随反向电压而变,而反向电流的大小就决定于势垒边界的少数载流子浓度,这个梯度不大,且不随升加电压而变,因此P —N 结的反向电流是一个数值很小且不随外加反向电压而变化的电流;反向的P —N 结表现为一个很大的电阻,如图四所示。
在反向电压时,电压V 是一个较大的负数,即V<O ,也就是∣V ∣>>qkT,这样就有1/<<kTqv e。
则式(1)改写成:I=Aq(+n n p L D n 0)0PP n L Dp (8) 负号表示电流方向与正向时相反,也就是反向电流r I 。
r I =Aq(+n n p L D n 0)0PP n L Dp (9) (9)式表明:P —N 结反向电流在满足qkTV >>时,电流应该与电压无关,也就是常说的反向饱和电流。
实践证明,对于硅P —N 结的反向电流,理论与实际之间存在着偏离,主要表现为实际测量得到的硅P —N 结反向电流要比由式(9)计算所得的理论值大1000倍左右,同时还发现,硅P —N 结的反向电流时常随反向电压有缓慢的增加,总是不会真正完全饱和。
研究证明;产生上述偏离的原因主要在于对实际的硅P —N 结来说,构成其反向电流除了有扩散区中的扩散电流外,还有势垒产生电流和表面漏电流。
这后两项电流在原先的理论计算中被忽略了。
其中表面漏电流(I S )是同工艺有关,基本不随温度变化。
理论可以证明,势垒产生电流为I g =qA δτ3in (10) 式中,δ~势垒区在反向电压时的宽度,随反向电压增加而变宽,因此反向电流也随反向电压有缓慢的增加。
13式(10)中τ、i n 都与温度有关,i n 与温度关系为: n i KT E g e 2/-∝ 则:I g KTE g e 2/-∝因此硅P —N 结的反向电流随温度按KTE g e2/-规律增加。
在实际测量中,把被测二极管置于恒温装置中,固定二极管反向电压V 为某一数值,然后在不同恒温状态下用微安表测量其二极管反向电流I r ,实验装置示意图如图8所示。
最后根据测试数据,作出 I r ~T 关系曲线。
同样,保持I r 不变可作出V j ~T 关系曲线。
图8 I r ~T 关系曲线测量原理图(三)击穿电压的温度系数温度系数是指温度升高1℃,电压变化的百分数,随着温度升高电压增加称为正温度系数,否则称为负温度系数。
晶体三极管的bc 结的反向击穿属于雪崩击穿机构,其击穿电压具有正的温度系数,其数值为0.1%/℃,对一般应用没有很大影响。
晶体三极管eb 结的击穿电压兼有雪崩击穿和隧道击穿,两种击穿的温度系数具有相反的符号。
因此eb 结击穿电压随温度变化较小, 在击穿电压为5伏左右时,接近于零温度系数。
在击穿电压高于5伏时,有一定的正温度系数,它的数值小,每度只有几微伏,仅在eb 结作为基准稳压时才需考虑;一般情况下可以忽略。
实验设备:1.501超级恒温器,接触水银温度计; 2.电压表、直流稳压电源; 4.JT-1晶体管特性图示仪; 5.实验板、样管板。
实验步骤:预热:打开恒温器的电源和加热电源,旋转接触水银温度计的端帽,调节设定温度到50℃,开启泵开关。