光学零件工艺学练习题

一、选择题

1. QK是什么牌号的玻璃（）

A •重火石玻璃

B •轻冕玻璃

C •重冕玻璃

D •轻火石玻璃

2. 下列氧化物哪种是玻璃网络体氧化物（）

A. PbO B . BaO C. CaO D. SiO2

3. 石英玻璃的透过光谱范围是下列的哪一个（）

A . 0.2 卩mr-4.7 卩m

B . 1.35 卩nn- 5.5 卩m

C . 0.38 卩m—0.78 卩m

D . 0.4 卩m—0.8 卩m

4. 关于光学玻璃的光学均匀性定义，下列哪种说法正确（）

A. 两块玻璃中折射率的差值

B. 两块玻璃中折射率的变化的不均匀程度

C. 同一块玻璃中各部分折射率变化的不均匀程度

D. 同一块玻璃中各部分应力的不均匀程度

5. 晶体按用途分几类（）

A.1类B . 2类C. 3类种D . 4类

6. 指出最常用的一种热固型光学塑料（）

A . PMMA

B P

C C . PS

D . CR-39

7. 在光学零件图中，对零件要求一栏内的N代表什么意义（）

A .零件数量

B .光圈数量C.光学表面数D .局部光圈数

8. 在光学零件图中，△ R代表什么意义（）

A.曲率半径误差

B.光圈误差

C.样板精度等级

D.中心偏差

9. 对望远物镜的中心偏差要求为（）

A.0.01 〜0.02mm

B.0.02 〜0.03mm

C.0.02 〜0.04mm D0.03〜0.04mm

10. 热压成型毛坯退火的目的（）

A.消除内应力

B.消除光学常数的不均匀性

C.消除内应力和各部分光学不均匀性

D.消除应力双折射

11. 球面金刚石精磨磨具理想磨耗规律的数学表式为（）

A .占h i =^h tg日B.也h =4 sin。C.人h i = A h cos。D.也h =^h ctg日

12. 金刚石磨具不包括以下那部分（）

A.金刚石层

B.过渡层

C.基体

D.冷却液

13. 国内精磨片结合剂特性参数常采用（）

A青铜结合剂B.树脂结合剂C.钢结合剂D.陶瓷结合剂

14 .金刚石精磨片的浓度，在国内常选的范围为（）

A. 20% 〜40% B . 40% 〜60% C . 30% 〜50% D.40 %〜50%

15 .关于光学玻璃抛光机理有几种代表性学说（）

A . l种

B . 2种

C . 3种

D . 4种

16.高速抛光液的PH值最佳控制范围为（）

A. PH 5.5〜PH 7.0

B. PH 7.0 : PH 8.0

C. PH 6.0 : PH 8.0

D. PH 3.0 ： PH 5.0

17 .下列哪种氧化物可用作抛粉使用（）

A. Na2O

B. CeO2

C. CaO

D. BaO

18.从粗磨、精磨到抛光三道工序中，凹球面的曲率半径变化趋势是下列的哪一种（）

A.曲率半径由大变小

B.曲率半径由小变大

C.曲率半径不变

D.无规律

19•相临光圈间的空气隙厚度差为（）

A— B.，C. — D.-

2 4 8

20. 用小样板检验大口径零件时，小样板的口径为10mm零件的口径为20mm规定的光圈为3道圈，那么看到的光圈最多应是多少（）

A.0.75道圈

B.1道圈

C.2道圈

D.0.5 道圈

21. 机械定心时，透镜的Z值必须在哪个范围（）

A. Z ::: 0.15

B. Z . 0.15

C. Z . 0.25

D. Z . 0.35

22. 加拿大胶是指哪一种胶（）

A.甲醇胶

B.冷杉树脂胶

C.光敏胶

D.环氧树脂胶

23. 高精度光学零件加工时，对工房温度和湿度的要求范围为（）

A . 200C _10C，湿度为60%-70% B. 250C _10C，湿度为70%-80%

C . 220C _1°C，湿度为60%-70% D. 28°C _1°C，湿度为70%-80%

24. 工作样板用于检验（）

A.球面样板

B.工件

C.标准样板

D.复制样板

25. 常用光学样板按形状分几种（）

A.1种

B.2种

C.3种

D.4种

26. 二次凹非球面与其最接近比较球面的最大偏离量位置在（）

A . y =0.618h 和y =0.707h B. y = h 和y = 0

C. y =0.707h 和y 二0.5h

D. y 二0.5h 和y 二h

27. 现国内普通光学车间最常用的非球面检测方法（）

A.数字干涉仪检验

B.全息法检验

C.阴影法D轮廓仪法

28. y2=566.9x-0.41x2是哪种二次非球面（）

A .抛物面B.双曲面C.椭圆面D .球面

29. 超光滑表面表面的粗糙度应该小于多少（）

A.10纳米

B.1个微米

C.1纳米

D.0.1 微米

30. 光学玻璃研磨表面的破坏层深度主要与下列哪个因素有关（）

A.模具材料

B.冷却液流量

C.磨料化学活性

D.磨料粒度

二、名词解释

1. 玻璃的光学均匀性

2. 金刚石磨具的硬度

3. 光学晶体的均一性

4. 加工余量