氮化硅刻蚀机培训教程

Tel/lam 氮化硅刻蚀机培训教案

一简介：

Tel/lam 氮化硅刻蚀机是一种平板式的干法刻蚀设备，用于氮化硅的干法刻蚀，其工作原理为特种气体SF6,CHF3在RF下电离并与氮化硅发生反应。

二结构组成

它由以下几部分组成：主机部分、电源部分、泵组部分、射频部分和气体供给部分部分。

1主机部分：它是氮化硅刻蚀机的主体部分，包括显示器、传递腔、反应腔、传动系统及设备的主要控制系统。

2电源部分：系统供电208V进入，经变压器，继电器等变为所需的电压输出。该设备泵组电源由电源柜控制。

3射频部分：在气体反应时提供的高频电源，以便气体在高真空环境下电离，产生等离子体。

射频匹配系统位于主机上部，用于对射频源所提供的高频通过可变的电感电容进行匹配，以便提供给设备稳定高效的射频。

射频电源为208VAC供电，外接冷却水为本体发热元件降温。

4泵组部分：由机械泵、增压泵和真空管线构成抽反应腔的真空系统，以达到工艺反应时所需的真空度要求。由18泵及配套的真空管线用于抽传递腔的真空。现在我们使用的泵组位于一楼回风区内。

5 气体供给部分：由特气柜、特气瓶和特气管线构成。用于提供反

应所需的特种气体，其中用于提供特气的特气瓶至于一楼回风区内，特气经二次减压提供给设备，并由质量流量计进行控制。

三T el/lam 氮化硅刻蚀机的基本操作

1 当操作本台设备时，应首先检查该设备的动力条件，具体条件如下：

压缩空气：±氮气: ±用于射频冷却的冷却水是否有，反应所用的特气是否有，设备面板的电极温度是否和设定的温度相符，排风是否正常。

2操作：按照设备操作流程进行操作

3面板按键：LOAD 用于下载初始化程序 SAVE保存程序 RECIPE 用于编辑反应的程序STATUS 用于观察设备所处的状态PARAMETERS用于设置设备参数 OPTIONS用于设备的手动操作及观察设备运行时的参数变化 START 开始设备开始运行 STOP终止下一片硅片从传片筐传出 FIELD SELECT 用于切换设定状态

设备面板另有四个用于光标移动的按健及一个数字键盘

四 Tel/lam 氮化硅刻蚀机的常见故障及应急故障处理

1真空故障：主要显示为反应腔或者传递腔真空达不到，真空漏率较大。可能引起该故障的主要原因为：真空泵能力下降，真空管线连接不好，设备内部密封件老化，真空监测系统不准确。

传递腔不能达到大气压.其故障原因为用于检测其是否达到大气

压的压力开关松动或损坏、充气的阀门没有打开或者是系统氮气没有供给

2 射频故障：主要为射频信号加不上，反射功率大，射频源温度过高报警。

可能引起该故障的主要原因为：射频电缆连接处接触不好，匹配单元连接不好，射频源控制板故障，温度高(OVER HEAT)是因为冷却水管线堵塞造成。

4传递系统故障：主要表现为硅片在传递皮带上不动作；装载片筐的升降台不动作；机械手传接片子位置不正，其直接的影响会使硅片碎裂，严重时会导致主反应腔内的针（用于托片子）弯曲。

可能引起故障的原因为：传递皮带断裂及带动皮带的电机出现故障；升降台的保险断开，控制系统有故障此时系统复位即可，机械手的限位不正确或气缸(电机)有故障。

5控制系统故障：常见为屏幕出现乱码。产生此故障的原因通常为存储块接触不良或是电源不稳定。

6电极冷却部分故障：主要表现为电极温度升高.其产生的原因为用于冷却的系统无氟利昂，热交换器水箱温度设置过低导致水冷凝，传递水的管线堵塞，用于转换水路的电磁阀不能正常动作。