XPS原理及分析
XPS原理及分析
XPS原理及分析在现代材料科学和表面分析领域中，X 射线光电子能谱（XPS）是一种极其重要的分析技术。
它能够为我们提供有关材料表面化学组成、元素价态以及化学环境等丰富而关键的信息。
XPS 的基本原理基于爱因斯坦的光电效应。
当一束 X 射线照射到样品表面时，它具有足够的能量将样品中的原子内层电子激发出来，形成光电子。
这些光电子的能量分布与样品中原子的电子结合能直接相关。
电子结合能是指将一个电子从原子的某个能级中移到无穷远处所需的能量。
不同元素的原子，其内层电子的结合能是特定的，而且同一元素在不同化学环境中，其电子结合能也会有所差异。
这就为 XPS 分析元素组成和化学状态提供了基础。
具体来说，通过测量从样品表面发射出的光电子的能量，我们可以确定样品中存在哪些元素。
每种元素都有其独特的一系列结合能特征峰。
比如，碳元素在不同的化学环境中，其结合能可能在 2846 eV 左右（纯碳），但如果与氧形成某些化学键，结合能就会发生偏移。
在进行 XPS 分析时，首先需要将待分析的样品放入高真空的分析室中。
这是因为光电子非常容易与空气中的分子发生碰撞而损失能量，从而影响测量结果的准确性。
X 射线源通常采用铝（Al）或镁（Mg）的靶材，产生的 X 射线具有特定的能量。
这些 X 射线照射到样品表面后，激发出来的光电子经过能量分析器进行分析。
能量分析器可以将不同能量的光电子按照能量大小进行分离，并最终由探测器检测到。
得到的 XPS 谱图中，横坐标通常表示光电子的结合能，纵坐标则表示光电子的相对强度。
通过对谱图中峰的位置、形状和强度的分析，可以获得大量有关样品的信息。
对于元素的定性分析，我们主要依据特征峰的位置来确定样品中存在的元素种类。
而对于定量分析，则需要根据峰的强度来计算各元素的相对含量。
但这并不是简单的比例关系，因为不同元素的光电子发射截面、仪器的传输效率等因素都会对强度产生影响，所以需要采用特定的校正方法来进行准确的定量分析。
xps技术工作原理
xps技术工作原理
XPS（X-射线光电子能谱）技术工作原理是基于光电效应和能级分析的原理。
1. 光电效应：当高能量的光子（通常为X射线或紫外线）照
射到物质表面上时，光子与物质原子发生相互作用，将一部分光子能量转移给物质原子中的价电子。
当光子能量足够大时，价电子可以克服束缚在原子中的电势能，从固体表面逸出，并形成光电子。
2. 能级分析：逸出的光电子带有原子的特征信息，包括能级分布和化学状态。
这些信息可以通过对光电子进行能量分析来获取。
在XPS技术中，光电子通过穿过物质中的磁场和电场的
流线，从而形成一个能量分辨率很高的能谱。
通过测量光电子的能量，可以确定光电子的束缚能级，从而获取原子的价电子能级分布情况，并得到样品的化学成分以及表面化学状态等信息。
具体的XPS分析过程如下：
1. 样品表面被净化和处理，以去除表面污染物和氧化层。
2. 样品表面放置在真空室中，并通过高真空抽气来去除空气。
3. X射线或紫外线束照射到样品表面，使得光电子被激发逸出。
4. 逸出的光电子通过电子能量分析器，根据其能量进行分析和检测。
5. 光电子能谱图被记录和测量，根据光电子的能量和强度，可以获得样品的化学成分、表面化学状态等信息。
综上所述，XPS技术主要通过光电效应和能级分析来获取样品的化学成分和表面化学状态等信息。
关于XPS的原理和应用
关于XPS的原理和应用1. 前言X射线光电子能谱（X-Ray Photoelectron Spectroscopy，简称XPS）是一种广泛应用于材料科学、表面物理和化学研究的表征手段。
本文将介绍XPS的基本原理和其在各个领域中的应用。
2. 基本原理XPS基于光电效应原理，利用固体表面的吸收或发射光子的能量差来研究固体表面的化学组成和元素态。
下面是XPS的基本原理：•X射线入射：在实验中，X射线入射到样品表面，与样品中的原子或分子发生相互作用。
•光电子发射：当入射X射线的能量超过样品中原子的束缚能时，会产生光电子的发射。
•能量分析：发射的光电子经过分析器进行能量分析，得到光电子能谱。
•特征能量：通过分析光电子能谱中的特征能量和峰形，可以得到样品的化学组成、表面电荷状态等信息。
3. 应用领域XPS具有高灵敏度和高分辨率的优势，在各个领域中得到了广泛应用。
以下是几个常见的应用领域：3.1. 表面化学分析XPS可以通过分析样品表面的化学组成和化学状态，提供有关表面反应性和化学性质的信息。
在材料科学、催化剂研究和纳米技术等领域中，XPS被广泛用于表面化学分析。
3.2. 材料研究XPS在材料科学中起着至关重要的角色。
通过分析材料的表面元素组成、改变和反应，可以研究材料的结构、性质和性能。
在材料表面改性、材料界面研究等方面，XPS的应用非常广泛。
3.3. 薄膜分析XPS可以用于分析薄膜的物理、化学和电学性质。
通过对不同深度的XPS分析，可以揭示薄膜的结构和成分随深度的变化情况。
薄膜的质量、化学反应和界面效应等方面可以通过XPS得到详细的信息。
3.4. 表面修饰技术XPS可用于评估表面修饰技术的效果和性能。
在金属材料、导电聚合物等方面的研究中，通过分析表面的元素分布和化学组成，可以评估表面修饰技术对材料性能的改善。
3.5. 生物医药领域在生物医药领域，XPS可以用于分析生物材料表面的成分和结构，如药物载体材料、生物传感器等。
XPS数据分析方法
XPS数据分析方法XPS数据分析方法指的是通过使用X射线光电子能谱（XPS）来研究材料表面元素的组成、化学状态、分布以及电荷状态等信息的一种分析方法。
XPS是一种非破坏性的表面分析技术，主要用于材料科学、化学、物理、能源等领域的表面和界面分析。
下面是关于XPS数据分析方法的一些内容。
1.XPS原理XPS是基于光电离现象的一种分析技术。
当实验样品暴露在具有一定能量的X射线束下时，样品表面的原子会被激发，其中部分电子会被激发到费米能级以上，形成X射线光电子。
这些光电子经电场作用会被收集并形成能谱。
通过分析能谱可以得到样品表面元素的信息。
2.XPS数据处理XPS实验获得的原始数据包含了来自不同元素的能量信号，以及其他噪声信号。
数据处理旨在提取出有用的能量信号，并将其定性和定量分析。
常见的数据处理步骤包括信号峰形辨认、能量校正、背景修正和分峰拟合等。
3.峰形辨认峰形辨认是将实验数据中的峰与相应的元素进行匹配的过程。
每个元素具有特定的光电子能量，因此可以通过比较实验获得的能谱与已知元素的能谱进行匹配，确定元素的存在。
4.能量校正能谱中的能量量度需要进行校正，以获得准确的能谱峰位置。
能量校正的常用方法是通过硬币吸收边界（coinicidence absorption edge）或内部参考能谱进行校正。
这样可以消除能量测量中的偏差。
5.背景修正实验信号中常常会包含一些背景信号，如弹性散射信号、底部信号等。
这些背景信号对于准确的数据分析来说是干扰因素，需要进行背景修正。
背景修正的方法可以是线性背景修正或曲线拟合法。
6.分峰拟合分峰拟合是基于已知的能量峰进行曲线拟合，以确定元素在样品中的化学状态和相对丰度。
常见的拟合函数包括高斯函数、洛伦兹函数和Pseudo-Voigt函数等。
7.数据分析通过对能谱的峰进行定量分析，可以获得材料表面元素的组成和相对丰度。
此外，还可以通过分析峰的形状和位置得到元素的化学状态信息。
通过与已知物质的对比，可以推测样品的化学成分，并深入了解材料的特性。
说明xps分析的原理应用及特点
说明XPS分析的原理应用及特点1. 引言X射线光电子能谱（X-ray photoelectron spectroscopy，简称XPS）是一种用于分析材料表面化学成分和化学状态的非破坏性表征技术。
本文将对XPS分析的原理、应用和特点进行说明。
2. 原理XPS利用高能X射线轰击材料表面，通过测量材料表面逸出的光电子能谱来获得有关材料化学成分和化学状态的信息。
其基本原理如下： - X射线入射：高能X 射线束通过X射线源作用在样品表面，激发样品表面原子的束缚电子。
- 光电子逸出：激发的束缚电子获得足够的能量克服束缚力，从样品表面逸出成为自由电子。
- 能谱检测：逸出的光电子根据能量不同形成能谱，通过能量分辨仪进行检测和分析。
- 数据分析：通过对能谱的峰位、峰面积和峰形等进行分析，可以获得样品表面元素的组成和化学状态信息。
3. 应用XPS技术在多个领域有广泛的应用，以下列举几个常见的应用场景：3.1 表面成分分析XPS可以准确测量材料表面的元素组成和化学状态，可以表征材料的成分。
在材料科学、化学、生物医学等领域中，XPS被广泛用于表面成分分析。
3.2 化学反应分析XPS能够跟踪材料表面化学反应的过程和机制，通过观察化学反应前后材料表面的变化，可以获得有关反应的信息。
3.3 材料表面状态研究XPS可以研究材料表面的电荷状态、化学键形成和断裂等变化。
这对于了解样品在化学、电子学等方面的性质具有重要意义。
3.4 腐蚀和污染研究XPS可以追踪材料表面腐蚀和污染的过程，分析腐蚀和污染物的成分和形态。
这对于材料保护、环境保护等方面具有重要意义。
4. 特点XPS作为一种高精准度的表征技术，具有以下特点：4.1 高分辨率XPS能够实现较高的能量分辨率，可以准确测定光电子能谱的峰位和峰形，从而得到更准确的表征数据。
4.2 高灵敏度XPS对材料表面的元素非常敏感，可以检测到较低浓度的元素。
这对于分析痕量元素具有重要意义。
XPS原理及分析
XPS原理及分析X射线光电子能谱（XPS）是一种表面分析技术，利用X射线入射样品表面，通过测量样品表面上逸出的光电子的能谱来确定样品表面元素的化学性质及其表面态的信息。
XPS技术具有高表面敏感性、定性和定量分析的能力，因此在材料科学、化学、地球科学、生物医学和环境科学等领域得到广泛应用。
XPS原理基于“薄物质”理论，即在入射X射线束与物质相互作用时，只有较薄表面层中的电子才能逃逸到空间中并被探测器所接收。
这是由于较低能的光电子受到表面电势井的束缚，而高能电子则受到较深层电势井的束缚，因此只有能量较高的光电子能够逃逸。
通过测量逸出光电子的能谱，可以得到逸出光电子的能量和强度信息，进一步分析可以确定元素的化学状态和表面化学键的信息。
XPS分析的过程包括样品的准备、X射线的入射和光电子的测量。
首先，样品必须准备成纯度较高的固体或薄膜，并且表面应该光滑、洁净，避免杂质和氧化层的影响。
然后，通过X射线源入射样品表面，激发样品表面的光电子，并且通过能量分析器将光电子按能量进行分散。
最后，光电子通过一个探测器接收并进行能谱测量。
XPS技术可以提供多种信息。
首先，通过测量各元素光电子能谱的能量峰位置，可以确定样品表面的元素组成。
其次，通过能峰的形状和峰的宽度，可以得到元素的化学状态和价态信息。
此外，还可以测量光电子的相对强度，用于定量分析元素的表面含量。
最后，通过X射线光电子能谱成像技术，可以获得样品表面的化学状态和形貌分布信息。
XPS技术具有许多优点。
首先，具有高表面敏感性，能够测量样品表面几个纳米的深度范围。
其次，可以进行原位和无损分析，不需要对样品进行特殊处理或破坏性操作。
此外，具有化学态信息和定量分析的能力，可以提供元素和化学键的详细信息。
最后，XPS技术还可以进行X射线光电子能谱成像，可以获得元素和化学状态的空间分布图像。
总之，XPS技术是一种强大的表面分析技术，具有高表面敏感性、定性和定量分析的能力，已经在多个领域得到广泛应用。
xps的原理及其应用
XPS的原理及其应用1. XPS的概述XPS（X-ray Photoelectron Spectroscopy）是一种表面分析技术，它通过入射X射线照射样品，测量材料中逸出的电子能谱来分析样品的元素组成和化学状态。
XPS主要基于光电效应原理和荷电屏蔽效应原理进行分析。
2. XPS的基本原理XPS利用入射X射线激发样品表面的原子，使其逸出的电子被收集和分析。
电子逸出的能量与样品中原子的化学状态密切相关，通过测量电子能谱，可以了解样品的元素组成、化学状态、氧化还原状态等信息。
具体而言，XPS的基本原理如下： - X射线源：XPS使用具有高能量的X射线作为激发源，常用的是具有镓或铝阳极的X射线源。
- 入射X射线：X射线通过X射线源发出，并照射到样品的表面。
- 光电子逸出：入射X射线与样品原子发生相互作用，使电子从原子的内层轨道逸出，逸出的电子称为光电子。
- 荷电屏蔽效应：逸出的光电子在穿越样品表面时，会受到其他原子的屏蔽作用，从而发生能量损失。
- 检测和分析：逸出的光电子根据能量进行分析和检测，得到电子能谱图，通过分析电子能谱，可以确定样品的化学成分和状态。
3. XPS的应用领域XPS具有非常广泛的应用领域，以下列举了几个典型的应用场景：3.1 表面化学分析XPS可以用于对材料表面的化学成分进行分析，从而了解材料的表面组成、含量和化学状态。
这对于材料研究、表面处理和质量控制非常重要。
3.2 薄膜研究XPS可以评估和分析薄膜材料的表面成分和溢出问题，帮助研究人员更好地理解薄膜的性能和稳定性。
3.3 界面分析XPS可以揭示材料的界面特性，例如界面反应、沉积物和缺陷等。
这对于理解材料的界面性质、界面失效和界面反应具有重要意义。
3.4 催化剂研究XPS可以用于催化剂的表征和性能评估，帮助研究人员了解催化剂的表面组成、氧化状态和反应机制。
3.5 生物材料研究XPS可以用于分析生物材料的表面化学成分和功能基团，帮助研究人员了解生物材料的表面性质和相互作用机制。
XPS原理及分析
XPS原理及分析X射线光电子能谱（XPS）是一种用于研究固体表面化学性质的表面分析方法。
它利用X射线照射样品表面，通过测量样品表面光电子的能谱，来获得样品表面元素的化学状态、化学成分以及化学性质的信息。
XPS的基本原理是根据光电效应：当X射线通过样品表面时，部分X射线会被样品上的原子吸收，从而使得原子的内层电子被激发出来。
这些激发出的电子称为光电子。
光电子的能量与原子的内层电子能级相关，不同元素的光电子能谱特征能量不同。
通过测量光电子的能量分布，可以推断出样品表面元素的化学状态和化学成分。
XPS分析的步骤如下：1.准备样品：样品必须是固体，并且表面必须是光滑、干净、无杂质的。
样品可以是块状、薄膜或粉末。
2.X射线照射：样品放在真空室中，通过X射线照射样品表面。
X射线能量通常在200-1500eV之间。
3.光电子发射：被照射的样品会发射出光电子。
光电子的能量与原子的内层电子能级有关。
4.能谱测量：收集并测量光电子的能量分布。
能谱中的光电子峰表示不同元素的化学状态和存在量。
5.数据分析：根据能谱中的光电子峰的位置和峰面积，可以推断出样品表面元素的化学状态和存在量。
XPS的主要应用领域包括固体表面成分分析、材料表面效应研究、化学反应在表面的过程研究等。
XPS可以提供关于固体材料的表面化学性质、形态结构以及表面反应过程的有关信息，因此被广泛应用于材料科学、化学、表面物理等领域。
总结而言，XPS是一种非常有用的表面分析技术，可以提供有关固体表面化学性质和化学成分的信息。
通过测量光电子的能量分布，可以推断出样品表面元素的化学状态和存在量。
XPS原理及使用分析
3.深度剖面分析
用离子束溅射剥蚀表面,用X射线 光电子谱进行分析,两者交替进行, 可以得到元素及其化学状态的深 度分布。
4.光电子能量损失机制
光电子在射出表面的同时，可能激发 固体中某些过程从而自身能量发生损 失： （1）声子激发或点阵振动
一、概述
2.仪器功能与特点： （1）定性分析--根据测得的光电子动能可以确定表面存在哪
些元素。灵敏度约0.1at%。 （2）定量分析--根据具有某种能量的光电子的强度可知某种
元素在表面的含量。误差约20%。 （3）根据某元素光电子动能的位移可了解该元素所处的化学
状态，有很强的化学状态分析功能。 （4）由于只有距离表面几个纳米范围的光电子可逸出表面，
平衡时，有关系 Ek = Ek’ -(Φsp- Φs) 因此可得（忽略反冲能）
Hν = Eb+Φsp+ Ek
或
Ek = hν – Eb – Φsp
紫外光电子能谱分析 UPS—Ultra-violet photoelectron Spectroscopy
XPS分析使用的光源阳极是Mg或Al，其能量分别是 1487和1254eV。
因此信息反映材料表面几个纳米厚度层的状态。 （5）结合离子溅射可以进行深度分析。 （6）对材料无破坏性。 （7）由于X射线不易聚焦, 照射面积大,不适于微区分析。
二、XPS的测量原理
1.XPS的产生
当单色的X射线照射样品,具有一定能量 的入பைடு நூலகம்光子同样品原子相互作用： （1）光致电离产生光电子； （2）电子从产生之处迁移到表面； （3）电子克服逸出功而发射。
XPS原理数据分析方法讲解
XPS原理数据分析方法讲解XPS（X射线光电子能谱）是一种用于表面分析的常用方法，可以用于确定样品中元素的化学状态和测量元素的相对丰度。
本文将讲解XPS的原理和数据分析方法。
1.XPS原理：XPS利用物质表面发射的光电子来研究元素的化学状态和相对丰度。
其原理基于以下两个过程：-光电子发射：当一束X射线照射到样品表面时，光子通过光电效应将电子从样品表面的原子中解离出来。
这些光电子的动能与其所来自的原子的束缚能有关，因此可以通过测量光电子的动能来确定原子的化学状态。
-表面分析：通过测量不同能量的X射线和测量发射光电子的能量和强度，可以得到元素的谱图。
X射线的能量可以调节，从而选取特定能量的X射线与特定元素相互作用，进一步确定元素的化学状态和相对丰度。
2.数据分析方法：XPS谱图包括两个主要部分：能级谱和分析谱。
能级谱用于确定元素的化学状态，分析谱用于计算元素的相对丰度。
-能级谱分析：1）首先，将能级谱分为两个区域：高分辨率核电子谱（Valence Band）和低分辨率核电子谱（Core Level）。
2）高分辨率核电子谱用于确定元素的键合状态和价态。
通过观察能级峰的位置和形状，可以判断原子是否在化合物中。
3）低分辨率核电子谱用于确定元素的元素组成。
通过测量特定能级的光电子峰的相对强度，可以计算元素的相对丰度。
-分析谱分析：1）利用分析谱可以计算元素的相对丰度。
分析谱根据元素的主要光电子峰的能量和强度来建立。
通过测量每个元素的主要光电子峰的峰强和标准物质的峰强，可以计算元素的相对丰度。
2）校正数据。
由于光电子的逃逸深度和电子的信号衰减，测量到的峰强可能与真实丰度有所偏差。
因此，需要进行校正，建立校正曲线，将峰强转换为相对丰度。
3.XPS仪器：XPS仪器由以下几部分构成：-X射线源：提供特定能量的X射线，用于激发样品释放光电子。
-能谱仪：包括投射能量分辨部分和检测器，用于测量发射光电子的能量和强度。
-样品台：用于固定和聚焦样品，可控制样品在X射线照射下的角度和位置。
XPS分析方法与原理
XPS分析方法与原理X射线光电子谱（X-ray photoelectron spectroscopy，XPS）是一种用于表征固体表面和界面化学组成及化学状态的表征技术。
它是一种基于光电效应的非破坏性表征方法，利用高能量的X射线激发样品，将表面的电子从原子轨道中解离出来，并通过测量解离出的电子的能量来确定样品表面元素的原子态和化学价态。
XPS分析方法的原理基于电子能量损失（EELS）、电子荧光（ESCA）和光电效应原理。
当X射线射入样品表面时，它会与样品表面的原子发生相互作用，其中一部分X射线会被电子散射或吸收，导致电子从内层壳层被挤出。
这些抛射的电子称为光电子，其动能（或能量）与光电效应的出发原理，即光子的能量与电子的结合能之差成正比。
XPS仪器主要由以下部分组成：一个射线源，一套高真空环境系统，一个能量分辨光电子能谱仪，一个探测器和一个数据处理系统。
在XPS分析中，常用的光源是镓（AlKα，能量1486.6eV）或镉（CdLα，能量3464.9eV）的X射线源。
这些X射线通过一系列准直和磁透镜系统后聚焦在样品表面上，从而激发样品表面的电子。
光电子离开样品表面后，通过电子能谱仪，能够根据电子的能量、角度和起飞位置来测量电子的能谱。
一般来说，高分辨率光电子能谱仪是由一个行程舞台、一个能量分辨系统和一个多通道探测器组成的。
行程舞台用于定位所感兴趣的区域，能量分辨系统用于提供所需的能量分辨率，多通道探测器用于收集并记录光电子能谱。
最后，通过对收集到的电子能谱数据进行分析处理，可以得到关于样品表面元素的化学状态和含量信息。
通过比较实验得到的光电子能谱与标准能谱数据库中的数据进行匹配，可以确定样品中不同元素的化学状态。
XPS方法可以提供丰富的信息，如元素的化学价态、元素的化学环境和表面化学组成等。
它具有高灵敏度、高表面分辨率和化学态分辨率、化学信息的定性和定量分析能力等特点，因此在材料科学、表面科学、催化剂研究、固体界面分析等领域得到广泛应用。
XPS原理及分析
XPS原理及分析在材料科学、化学、物理学等众多领域，X 射线光电子能谱（XPS）是一种极为重要的分析技术。
它能够为我们提供关于材料表面元素组成、化学态以及电子结构等方面的丰富信息。
那么，什么是 XPS 呢？简单来说，XPS 是基于光电效应的原理。
当一束 X 射线照射到样品表面时，会将样品中的原子内层电子激发出来，形成光电子。
这些光电子具有特定的能量，通过测量它们的能量和数量，就可以获得样品表面的各种信息。
我们先来了解一下 XPS 的基本原理。
X 射线光子具有足够高的能量，可以使样品中的原子内层电子克服其结合能而被激发出来。
不同元素的原子，其内层电子的结合能是特定的，就像每个人都有独特的指纹一样。
因此，通过测量光电子的能量，我们就能够确定样品表面存在哪些元素。
而且，不仅能确定元素种类，还能得到元素的含量。
这是因为光电子的强度与元素的含量成正比。
在 XPS 分析中，化学态的分析也是非常重要的一个方面。
同一元素处于不同的化学环境中时，其内层电子的结合能会发生微小的变化。
这种变化虽然很小，但通过高分辨率的 XPS 仪器可以精确测量出来。
比如，氧化态的变化、化学键的形成等都会导致结合能的改变。
通过对这些微小变化的分析，我们能够了解元素在样品中的化学价态和化学结构。
为了更好地理解 XPS 的原理，我们可以想象一下这样的场景：X 射线就像是一把钥匙，打开了原子内部的“宝箱”，将内层电子“释放”出来成为光电子。
而我们通过检测这些光电子，就如同读取了“宝箱”中的密码，从而揭开样品表面的神秘面纱。
接下来，我们谈谈 XPS 仪器的主要组成部分。
XPS 系统通常包括X 射线源、样品室、能量分析器和探测器等。
X 射线源产生的 X 射线要具有足够的强度和稳定性，以保证能够激发足够数量的光电子。
样品室要能够保持高真空环境，避免空气中的成分对测量结果产生干扰。
能量分析器则负责对光电子的能量进行精确测量和筛选，就像是一个精细的筛子，只让特定能量的光电子通过。
XPS方法原理与仪器分析
合能，EK 是被入射光子所激发出的光电子的动 能。实际的X射线光电子能谱仪中的能量关系。
其中以真空能级算起的结合能即
E
V B
h
EK
( SP
S)
EBV与以Fermi能级算起的结合能EBF间有
E
V B
E
F B
S
因此有：E
F B
h
EK
SP
SP和S分别是谱仪和样品的功函数
二、仪器分辨率：X射线源的自然线宽、能量分析器的线宽、受激样品原 子的能级线宽；
一、X射线激发源：要求强度大、单色性好—激发源做单色化处理； 大面积源-Al/Mg双阳极靶；微聚焦源—单色源Al靶；
二、快速进样室：气体隔离室技术—预处理室：加热、蒸镀、刻蚀；
三、能量分析器： 电子传输率；能量分辨率；CMA /SDA—在高分辨 下有较高的灵敏度；减速—聚焦透镜→加大多功能能谱仪空间； 浸入式磁透镜；
5、拟合：选好所需拟合的峰个数及大致参数后，点 Optimise region进行拟合，观察拟合后总峰与原始峰 的重合情况，如不好，可以多次点Optimise region。
6、参数查看：拟合完成后，分别点另一个窗口中的 Rigion Peaks下方的0、1、2等可看每个峰的参数， 此时XPS峰中变红的为被选中的峰。如对拟合结果不 region满意，可改变这些峰的参数，然后再点 Optimise。
4、加峰：
点Add peak，出现小框，在Peak Type处选择s、p、d、 f等峰类型（一般选s），在Position处选择希望的峰位，需 固定时则点fix前小方框，同法还可选半峰宽（FWHM）、 峰面积等。各项中的constraints可用来固定此峰与另一峰 的关系，如Pt4f7/2和Pt4f5/2的峰位间距可固定为3.45，峰面 积比可固定为4:3等。点Delete peak可去掉此峰。然后再 点Add peak选第二个峰，如此重复。
xps的分析原理及应用
xps的分析原理及应用1. 什么是XPSX射线光电子能谱（X-ray Photoelectron Spectroscopy，简称XPS）是一种常用的表面分析技术，它基于光电子在物质内产生和逃逸过程中的能量变化来分析样品的组成和化学状态。
XPS主要应用于固体表面化学成分的研究，广泛应用于材料科学、化学、表面科学等领域。
2. XPS的原理2.1. 光电子逸出XPS使用硬X射线作为激发源，将X射线照射到样品表面，激发物质内部的光电子逸出。
光电子逸出是指物质吸收X射线能量后，束缚电子获得足够的动能，克服束缚力逃离物质表面。
2.2. 能谱测量逸出的光电子具有与逸出源相同的能量，通过测量光电子的能量以及逃逸角度，可以得到能谱图。
能谱图中的能量和强度信息反映了样品中各元素的存在以及物质的化学状态。
2.3. 元素识别和化学状态分析通过比对能谱图中的峰位和峰形特征，可以准确地识别样品中的元素。
在XPS 中，元素的峰位对应着其电离能。
同时，通过分析能谱峰的形状和位置，可以推断样品中元素的化学状态。
3. XPS的应用XPS广泛应用于各种领域，以下列出了一些主要的应用：3.1. 表面成分分析通过XPS可以对样品表面的组成进行分析。
这对于材料科学、电子学、光电子学等领域中的表面处理和功能材料的研究具有重要意义。
XPS可以非常准确地分析出各元素的相对含量及其化学状态。
3.2. 元素分布分析XPS还可以用于研究材料表面元素的分布情况。
通过XPS扫描，可以得到不同部位的元素分布图像，从而了解材料内部的化学成分分布情况。
3.3. 化学反应和催化机理研究XPS可以用于研究化学反应和催化机理。
通过在反应过程中进行XPS测量，可以观察化学的变化和新生成物的形成。
这对于研究催化剂的特性和反应机理具有重要意义。
3.4. 表面态分析XPS可以通过对能谱峰的形状和位置进行分析，研究物质表面的化学状态。
这对于研究表面化学反应、表面吸附、表面离子交换等有关表面性质的问题具有重要意义。
xps分析的基本原理及其应用
XPS分析的基本原理及其应用概述XPS（X-ray Photoelectron Spectroscopy）是一种常用于表面分析的技术，它可以提供关于样品表面元素组成、化学状态和物理性质的信息。
本文将介绍XPS分析的基本原理，并探讨其在材料科学、化学、生物医学等领域的应用。
XPS分析的基本原理1.XPS基本原理–XPS利用X射线照射样品表面，通过分析样品表面上逃逸的光电子的能量和强度，来获得样品的表面组成信息。
–样品上的光电子由于与X射线的相互作用而被激发，随后逸出样品表面，并进入能量分析器进行分析。
–光电子逸出时的能量与其原子的电子壳层结构和化学环境有关，从而可以获得关于元素的化学状态和表面组成的信息。
2.XPS仪器–XPS分析仪主要由X射线源、样品台、能量分析器和检测器组成。
–X射线源通常使用专门的X射线源，如铝Kα线源或镁Kα线源。
–样品台上放置待分析的样品，样品可以是固体、液体或气体。
–能量分析器通常采用柱状会聚能量分析器或球面能量分析器，用于分析逃逸光电子的能量。
–检测器用于接收和记录逃逸光电子的强度和能量信息。
XPS分析的应用领域1.材料科学–XPS分析在材料科学中的应用广泛，用于研究材料的表面组成、薄膜厚度、界面反应等。
–通过XPS分析，可以研究材料的氧化状态、表面功能化修饰以及材料与环境的相互作用。
–XPS还可以用于研究薄膜的生长动力学、晶格缺陷和电荷传输机制等方面。
2.化学–XPS分析在化学领域中的应用主要用于表面催化研究、聚合物化学和电化学等方面。
–可通过XPS分析，了解催化剂表面上的化学组成和反应活性位点。
–XPS还可以用于聚合物的表面改性、电荷传输性能研究以及电极材料的表面修饰等。
3.生物医学–XPS分析在生物医学领域中可用于研究生物材料的表面性质和相互作用。
–可通过XPS分析，了解生物界面的化学组成、分子吸附和细胞-材料相互作用等。
–XPS还可以用于研究生物材料的表面功能化修饰和药物释放性能等方面。
简述XPS的分析原理及应用
简述XPS的分析原理及应用1. XPS（X-ray Photoelectron Spectroscopy）的分析原理XPS是一种表面分析技术，通过获取样品表面电子的能量分布信息来分析样品的化学成分和电子结构。
XPS原理基于电子的光电效应，即当光子照射到样品表面时，会使样品表面的原子和分子中的某些电子获得足够的能量而被抛射出来。
通过测量被抛射出来的电子的能量，可以推断出样品中各种元素的化学状态和电子结构。
主要的原理包括：经典电子学原理、光电效应，以及波长可以达到1nm乃至更短的X射线源。
在测量时，通过将样品表面置于真空环境中，使用一个X射线源照射样品。
被抛射电子的能量通过电子能量分析器进行分析和测量，得到电子能谱图。
这样就可以得到样品的元素组成和化学状态等信息。
2. XPS的应用2.1 表面元素分析XPS可以用于表面元素分析，可以对样品中的元素进行定性和定量分析。
通过测量样品的电子能谱，可以确定样品中包含的元素以及元素的化学状态。
XPS可以发现低浓度元素，并且可以对合金、陶瓷、涂层等材料的表面元素进行分析。
2.2 化学状态分析XPS可以分析样品中元素的化学状态。
元素的化学状态可以通过测量电子的束缚能来确定。
不同的化学状态会导致不同的束缚能，通过测量束缚能，可以分析样品中元素的化学状态。
例如，在催化剂研究中，可以通过XPS来研究催化剂表面活性位点的化学状态。
2.3 表面电子能级结构分析X射线光电子能谱可以提供有关样品表面电子能级结构的信息。
通过测量电子的能量分布，可以分析样品表面的电子能级结构，包括电子能带结构和表面态等信息。
这对于材料表面的电子结构研究非常重要，尤其是在材料表面物理、材料电子学和催化剂研究中有广泛的应用。
2.4 化学计量分析利用XPS技术，可以实现样品中元素的定量分析，可以对元素的相对含量进行测量，达到定量分析的目的。
通过测量样品电子能谱中每个元素的峰强度，可以计算出元素的相对含量。
xps表征方法
xps表征方法XPS表征方法引言：XPS（X射线光电子能谱）是一种常用的表征材料表面化学组成和电子结构的技术。
它通过照射材料表面的X射线来激发材料中的电子，然后测量被激发电子的能量和数量来获得有关材料表面性质的信息。
本文将介绍XPS的原理、样品制备、实验条件和数据分析等方面的内容。
一、XPS原理XPS是基于光电效应原理的一种表征方法。
当材料表面受到X射线的照射时，X射线光子会与材料表面的原子发生相互作用，将材料表面的电子激发到较高能级。
这些激发电子的能量与原子的价带结构和化学键性质有关，因此可以通过测量这些电子的能量来推断材料的化学组成和电子结构。
二、样品制备在进行XPS实验之前，需要对待测材料进行适当的制备。
首先，材料表面应该光洁无污染，可以通过机械抛光、化学清洗等方法来实现。
其次，为了避免样品表面被氧化，可以在实验前进行真空处理或者使用惰性气体（如氩气）保护样品表面。
三、实验条件XPS实验的关键参数包括X射线源的能量、束斑大小、入射角度，以及电子能谱仪的能量分辨率等。
X射线源的能量通常选择能够激发材料表面电子的能量范围，常见的是10-2000 eV。
束斑大小和入射角度会影响测量的深度和表面灵敏度，需要根据具体的实验要求进行调整。
而电子能谱仪的能量分辨率则决定了测量结果的精确程度，通常要求较高的能量分辨率。
四、数据分析XPS实验得到的电子能谱数据可以通过峰拟合来分析。
一般来说，电子能谱图中的峰对应着不同能级的电子。
通过对峰的位置、形状和峰面积等参数的分析，可以确定元素的化学状态、含量以及化学键的性质等信息。
此外，XPS还可以通过测量样品在不同位置的能谱来获取表面成分的空间分布信息。
五、应用领域XPS广泛应用于材料科学、化学、表面科学等领域。
在材料科学中，XPS可以用于研究纳米材料、薄膜材料以及表面修饰等方面的问题；在化学领域，XPS可以用于分析催化剂、吸附剂等材料的表面化学性质；在表面科学中，XPS可以用于研究表面反应、腐蚀机制等问题。
XPS原理及分析
XPS：定量分析方法－4
• 深度剖析 – 倾转样品法：z深度处发 射的电子要经z/cosq的路 程才能离开表面，逃逸几 率随exp(-z/lm)而减少，∴ 改变倾斜角度可进行深度 剖析
• 深度剖析 – 惰性气体离子束刻蚀法： • 同AES、SIMS
1：Co 2： Al 3： C 4： O
所谓某原子所处化学环境不同，一是指与它结合的元素种 类和数量不同，二是指原子具有不同的价态。
原子内壳层电子的结合能随原子氧化态的增高而增大；氧 化态愈高，化学位移也愈大。
三、XPS装置
• 组成：
– x射线源 – 样品台 – 电子能量分析器 – 电子探测和倍增器 – 数据处理与控制 – 真空系统
核心部件：激发源； 能量分析器；和电子 探测器
Al/Mg Ka1,2射线里混杂 Ka3,4,5,6和Kb射线，它们 分别是阳极材料原子
中的L2和L3能级上的6 个状态不同的电子和
M能级的电子跃迁到K 层上产生的荧光x射线 效应。这些射线统称
XPS卫星线。
Mg Ka射线的卫星峰
• x射线卫星线
Al Ka 、Mg Ka卫星峰离主光电子峰的位移和相对强度
A、光电子线 最强的光电子线常常是谱图中强度最大、峰宽最小、对称性
最好的谱峰，称为xps的主线。每一种元素都有自己最强的、具 有表征作用的光电子线，它是元素定性分析的主要依据。
Ti及TiO2中2p3/2峰的峰位及2p1/2和2p3/2之间的距离
B、俄歇线
– 原子中的一个内层电子光致 电离射出后，内层留下一空 穴，原子处于激发态。激发 态离子要向低能转化而发生 驰豫；驰豫通过辐射跃迁释 放能量。
1、光电效应
XPS原理及分析
XPS原理及分析X射线光电子能谱（X-ray Photoelectron Spectroscopy，简称XPS）是一种常用的表面分析技术，它可以通过测量材料中逸出的光电子能谱，获得关于材料的元素组成、化学状态和电荷状态等信息。
本文将详细介绍XPS的基本原理和在材料分析中的应用。
一、XPS原理简介XPS基于光电效应，利用高能X射线照射样品，当X射线能量足够高时，可以将样品表面的原子或分子的内层电子击出，形成光电子。
这些光电子的能量与原子或分子的电子结构和化学状态相关。
通过测量光电子能量和强度，可以分析样品表面化学成分、原子的化学键性质、表面缺陷等信息。
二、XPS仪器和实验过程XPS实验通常采用准直束X射线源，将高能量的单色X射线照射到样品表面，使样品的表面原子被击出。
击出的光电子经过分析器进行能量分辨，并通过光电倍增管等探测器检测产生的电荷信号。
最后，通过电子学系统进行信号放大和处理，得到光电子能谱。
三、XPS应用领域1. 表面化学分析：XPS可以确定材料的元素组成、化学价态和化学键状态，揭示材料表面的化学变化和物理性质。
广泛应用于催化剂、合金材料和半导体器件等领域的研究和开发。
2. 薄膜表征：通过XPS可以分析薄膜的组成和结构，了解材料的生长机制和质量。
在光电子器件、涂层和导电膜等领域有重要应用。
3. 反应动力学研究：XPS可以实时观察反应过程中表面物种的变化，研究反应机理和动力学性质。
被广泛应用于催化反应、电化学反应等领域。
4. 界面分析：XPS可以研究材料与其他材料之间的界面相互作用，揭示材料的界面化学和电子结构特性。
在纳米材料、生物界面等研究中具有重要价值。
四、XPS的局限性1. 表面敏感性：XPS只能分析样品表面几纳米到十几纳米的深度，对于较厚的材料或易氧化的表面容易受到误差。
2. 低解析度：XPS在能量分辨率和空间分辨率上存在限制，无法观察到低能区域和微小尺度的结构。
3. 非定量分析：由于XPS信号强度与元素的浓度和电子逃逸深度有关，因此XPS分析结果需要进行定量校正。
XPS原理及分析
土壤污染物的XPS分析
XPS技术原理：利用高能电子束激发样品表面， 产生光电子，通过测量光电子的能量和数量，确 定样品表面的元素组成和化学状态。
XPS原理及分析
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目录 /目录
01
XPS原理介绍
02
XPS分析方法
04
XPS在生物学 中的应用
05
XPS在环境科 学中的应用
03
XPS在材料科 学中的应用
06
XPS技术的优 缺点及未来发 展
01 XPS原理介绍
XPS的基本概念
土壤污染物种类：重金属、有机污染物、放射性 物质等。
XPS在土壤污染物分析中的应用：确定污 染物的元素组成、化学形态和分子结构， 有助于了解污染物的来源、迁移转化规律 和生态风险。
XPS与其他分析方法的比较：XPS具有高灵敏度 和高分辨率，可与其他分析方法结合使用，提高 分析精度和可靠性。
放射性物质的XPS分析
陶瓷材料的XPS分析
陶瓷材料的组成元素分析 陶瓷材料的表面化学状态分析 陶瓷材料的物相分析 陶瓷材料的微观结构分析
复合材料的XPS分析
XPS在复合材料中的应用：用于分析复合材料的组成和化学状态 XPS在复合材料中的应用：研究复合材料的界面结构和相互作用 XPS在复合材料中的应用：评估复合材料的性能和稳定性 XPS在复合材料中的应用：预测复合材料的未来发展和应用前景
XPS通常使用高能 电子束作为激发源
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5.1
0.8
0.5
2.0
Al靶
11.8eV 20.1eV 23.4eV 69.7eV
3.3 0.42 0.28 2.0
D、能量损失线
– 光电子能量损失谱线是由于光电子在穿过样品表面时发生 非弹性碰撞，能量损失后在谱图上出现的伴峰
– 特征能量损失的大小与样品有关；能量损失峰的强度取决 于：样品特性、穿过样品的电子动能
• 元素灵敏度因子法因受多因素影响，不可能很准确
• 谱线强度的确定 – 几何作图法：
峰面积＝峰高 半峰宽
– 称重法：沿谱线 ACEDBFA剪下，称重 （纸均匀） – 机械积分法： – 电子计算机拟合
XPS：定量分析方法－4
• 深度剖析
– 倾转样品法：z深度处发 射的电子要经z/cosq的路 程才能离开表面，逃逸几 率随exp(-z/lm)而减少，∴ 改变倾斜角度可进行深度 剖析
1. x射线源： • 要求： – 能量足够激发芯电子层； – 强度产生足够的光电子通量； – 线宽（决定XPS峰的半高宽FWHM）尽量窄； • Mg、Al源 – Mg Ka；Al Ka – Mg/Al双阳极x射线源
2. 电子能量分析器：核心部 件
•
–
2种结构：
筒镜分析器CMA：点传输率很 高，有很高信噪比。XPS为提高 分辨率，将2个同轴筒镜串联
光电效应截面s与原子序数Z的关系 Z
元素
3 Li 1.1
4 Be 4.2
5 B 11
6 C 22
7 N 40
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
8 O 64
9
11
12
s
F Na Mg 100 195 266
2、原子能级的划分 • 量子数表示电子运动状态
– 主量子数n : 电子能量主要（并非完全）取决于n; n电子能量
• n ＝1, 2, 3, …；通常以K(n=1), L(n=2),M(n=3)…表示 • 相同的n表示相同的电子壳层
• 若l ＝0，则j ＝ 1/2 ；
• 若l ＝1，则j ＝ l ± 1/2 ＝ 3/2或1/2 ;
• 除s亚壳层不发生自旋分裂外，凡l >0的各亚壳 层都将分裂成两个能级XPS出现双峰
自旋——轨道劈裂
自旋－轨道劈裂
l＝1 l＝3
l＝0
l＝2
3、电子结合能
一个自由原子或离子的结合能，等于将此电子从所在的能 级转移到无限远处所需的能量。
• 辐射出的的射线波长在x射线区 x射线荧光
• 跃迁使另一电子激发成自由电 子俄歇电子
– 多以谱线群方式出现
• 俄歇线
– OKLL、CKLL
– KLL:左边代表起始空穴的电子层，中间代表填补 起始空穴的电子所属的电子层，右边代表发射俄歇 电子的电子层
C、XPS卫星线
– 用来照射样品的单色x 射线并非单色，常规 Al/Mg Ka1,2射线里混杂 Ka3,4,5,6和Kb射线，它们 分别是阳极材料原子 中的L2和L3能级上的6 个状态不同的电子和 M能级的电子跃迁到K 层上产生的荧光x射线 效应。这些射线统称 XPS卫星线。
• 深度剖析 – 惰性气体离子束刻蚀法： • 同AES、SIMS
1：Co 2： Al 3： C 4： O
Co－Ni－Al多层磁带材料
耗时36h
XPS：应用
• 表面全元素分析 （全谱）：
– 存在：Ti, O, Si, C; – Si的来源，可能：
• 涂层太薄（<10nm） • 热处理使基体扩散 →涂层变薄
二、X射线光电子能谱分析的基本原理
电子能谱分析是一种研究物质表层元素组成与离子 状态的表面分析技术，其基本原理是用单色射线照射 样品，使样品中原子或分子的电子受激发射，然后测 量这些电子的能量分布。通过与已知元素的原子或离 子的不同壳层的电子的能量相比较，就可确定未知样 品表层中原子或离子的组成和状态。
• S——元素灵敏度因子 – 对2个元素有：
1 2
( I1 / S1 ) (I 2 / S2 )
(I / S ) • ∴某元素所占原子分数为：C x x ( ) x x (I / S ) i i i
• Q、le 、y、D等对不同试样有相同的变化规律，即S1/S2不变； • S值与材料基体性质无关，一般以氟F1s轨道光电子谱线的灵敏度因 子为1。
– 窗口出来-铝箔
XPS：定性分析方法
• 首先标识那些总是出现的谱线，e.g. C1s, CKLL, O1s, OKLL, O2s, x射线卫星峰和能量损失线；
• 根据结合能数值标识谱图中最强的、代表样品中主体 元素的强光电子线，并且与元素内层电子结合能的标 准值仔细核对，并找出与此匹配的其他弱光电子线和 俄歇线群； • 最后标出余下较弱的谱线，标识方法同上，标识它们 应想到可能来自微量元素或杂质元素的信号，也可能 来自强的Kb x射线等卫星峰的干扰； • 对那些反复核对但没有归属的谱线，可能是鬼线；
• 能量损失线
二氧化硅中O1s的能量损失峰
Al的2s的能量损失峰 a：清洁表面；b：氧化表面
E、电子的振激（Shake up）线和振离线（Shake off）
– 在光电发射中，由于内壳层形成空位，原子中心电位发生突 变引起价壳层电子的跃迁，出现两个结果：
• 若价壳层电子跃迁到更高能级的束缚态称为电子的振激 • 若价壳层电子跃迁到非束缚的连续状态成了自由电子，则称为电子的 振离。
I f 0 A0QeyD
• le :试样的电子逃逸深度（cm）
• F:考虑入射和出射电子间夹角变化影响的校正因子 • y:形成特定能量光电过程效率 • D:能量分析器对发射电子的检测效率
I /( f 0 A0Qe yD) I / S • ∴ S f 0 A0Qe yD
Mg Ka射线的卫星峰
• x射线卫星线 Al Ka 、Mg Ka卫星峰离主光电子峰的位移和相对强度
射线名称
Mg靶
高动能端位 移
Ka1,2
0eV
Ka3
8.4eV
Ka4
Ka5
Ka6
Kb
10.2eV 17.5eV 20.0eV 48.5eV
相对强度 高动能端位 移
相对强度
100 0eV
100
9.2 9.8eV
1、光电效应
当一束能量为hν的单色光与原子发生相互作用 ，而入射光量子的能量大于原子某一能级电子的结合 能时，发生电离： M + hν= M*+ + e光电效应过程同时满足能量守恒和动量守恒， 入射光子和光电子的动量之间的差额是由原子的反冲 来补偿的。 光电效应的几率随着电子同原子核结合的加紧 而很快的增加，所以只要光子的能量足够大，被激发 的总是内层电子。外层电子的光电效应几率就会很小 ，特别是价带，对于入射光来说几乎是“透明”的。
• 典型谱图
Fe的清洁表面
扫描1次
• 典型谱图
– 本征信号不强的XPS谱图 中，往往有明显“噪音” • 不完全是仪器导致 • 可能是信噪比太低，即 待测元素含量太少
扫描3次
– 增加扫描次数、延长 扫描时间噪音
• 注意：谱图对比时测量 参数必须一致。
涂膜玻璃的Si2p谱
1、xps光电子线及伴线
X射线光电子能谱分析
一、概述
• X射线光电子谱是重要的表面分析技术之一。它 不仅能探测表面的化学组成，而且可以确定各元 素的化学状态，因此，在化学、材料科学及表面 科学中得以广泛地应用。 • X射线光电子能谱是瑞典Uppsala大学K.Siegbahn 及其同事经过近20年的潜心研究而建立的一种分 析方法。他们发现了内层电子结合能的位移现象， 解决了电子能量分析等技术问题，测定了元素周 期表中各元素轨道结合能，并成功地应用于许多 实际的化学体系,K.Siegbahn因此获1981诺贝尔 奖。
• 给定l 后， ml 取+l 和-l 之间的任何整数， ml ＝l, l-1, …, 0, -1, …, - l ； • 若l =0，则ml =0；若l =1，则ml =1,0,-1。
– 自旋量子数ms :表示电子绕其自身轴的旋 转取向；与上述3个量子数无关。
– 电子的轨道运动和自旋运动间存在电磁相互作用， 即：自旋－轨道耦合作用的结果使其能级发生分 裂，对l >0的内壳层来说，这种分裂可用内量子 数j表示(j ＝｜ l＋ ms ｜＝ ｜ l ± 1/2 ｜)
– 角量子数l :决定电子云的几何形状；不同的l将电 子壳层分成几个亚层，即能级。
• L与n有关，给定n后， l＝0, 1, 2，…，( n －1);通常以 s(l=0), p(l=1), d(l=2), f(l=3), …表示 • 在给定壳层的能级上， l 电子能量略
– 磁量子数ml :决定电子云在空间的伸展方 向(取向)；
如果在球形电容器上加一个扫 描电压，会对不同能量的电子 具有不同的偏转作用，从而把 能量不同的电子分离开来。
四、xps谱图
典型谱图 横坐标：电子束缚能(能直接反映电子壳层/能级结构) 或动能；eV 纵坐标：cps（Counts per second），相对光电子流 强度 谱峰直接代表原子轨道的结合能
A、光电子线 最强的光电子线常常是谱图中强度最大、峰宽最小、对称性 最好的谱峰，称为xps的主线。每一种元素都有自己最强的、具 有表征作用的光电子线，它是元素定性分析的主要依据。
Ti及TiO2中2p3/2峰的峰位及2p1/2和2p3/2之间的距离
B、俄歇线
– 原子中的一个内层电子光致 电离射出后，内层留下一空 穴，原子处于激发态。激发 态离子要向低能转化而发生 驰豫；驰豫通过辐射跃迁释 放能量。
二氧化钛涂层玻璃 （溶胶－凝胶）
– C的来源，可能：
• 溶胶 • 谱仪油污染碳
• 表面窄区谱分析：
– 分谱分析或高分辨谱分析 – 特点： • 扫描时间长 • 通过能小 • 扫描步长小 • 扫描期间几十电子伏特内 • 以强光电子线为主