半导体气体特性及系统介绍

• 2. 主要用途介紹 :
* CDA – 作為 Fab 中氣動設備(如 Pump )的氣源 及 吹淨 ( Purge ) 作為 Local Scrubber 助燃的氣源 * IA – 作為廠務系統氣動設備的氣源 及 吹淨 ( Purge ) * HPCDA – 黃光區 Scanner 機台專用 ( 移動平台 / 使 Filter 緊靠 ) * GN2 / PN2 - 作為部分氣動設備氣源 及 提供惰性的氣體環境 Pn2 主要的功能為 吹淨 ( Purge ) * PO2 - 提供製程中氧化的作用 * PAR – 作為製程中濺渡的傳導介質 * PHE - 作為製程中冷卻晶片的氣源 * PH2 -提供燃燒,烘烤的作用 及其他反應
二. 特殊氣體供應系統 - Specialty Gas Supply System
• 1. 什麼是特殊氣體 : 一般指用量小,極少用量便會對人體造成生命威
脅 的氣體
特殊氣體分類大致如下—
* 易燃性氣體 Flammable Gas * 毒性氣體 Toxic Gas * 腐蝕性氣體 Corrosive Gas * 低壓性/保溫氣體 Heat Gas * 惰性氣體 Inert Gas
机台名标签
1. 2. 3. 机台名标签内容要与管道所属机台一致； 机台名标签的方向要与气体走向一致； 机台名签粘贴，要符合以下规定： 1）在连接takeoff piont水平管道正下部、VMB&VMP面板上管 道左侧要有机台名标签; 2) 粘贴标签要美观,保证标签与管道平行,居中,无残缺,褶皱,翘曲;
半导体气体特性介绍
1. Bulk Gas 大宗气体 2. Specialty Gas 特气
一. 大宗气体供应系统 - Bulk Gas Supply System • 1. 什麼是大宗氣體 :
一般指用量較大的氣體 ,無色無味無臭,但仍有潛在 的危險(部分具窒息性).
* CDA(UCCA) / IA – 壓縮乾燥空氣 / 儀器推動空氣 / 呼吸用空氣 * HPCDA (HCDA)– 高壓壓縮乾燥空氣 * GN2 - 一般氮氣 * PN2 - 純化氮氣 * PHE - 純化氦氣 * PAR - 純化氬氣 * PO2 - 純化氧氣 * PH2 - 純化氫氣
标签的粘贴方式
气体标签
1. 2. 3. 气体标签内容要与管道内气体一致； 气体标签的方向要与气体走向一致； 气体标签粘贴，要符合以下规定： 1）在直管段每2米一个; 2）弯头两头应贴标签； 3）与原有系统的标签位置平齐； 4） 在机台POU处、阀箱进口、VMB出口、VMP出口、 阀前和阀 后、上IC洞口处要有气体标签; 5) 粘贴气体标签要以易看见为标准；如：在高处水平管道的标签 应贴在管道下半圆两侧90度范围内。 6) 粘贴标签要美观,保证标签与管道平行,居中,无残缺,褶皱,翘曲
Takeoff piont 号码标签
1. Takeoff piont 号码标签内容要与管道所属Takeoff piont一 致； 2. Takeoff piont 号码标签的方向要与气体走向一致； 3. Takeoff piont 号码标签粘贴，要符合以下规定： 1）在进泵的阀组的阀前,在Fab地板下盘面上,在Fab地板下阀箱内, 在Fab地板下无盘面的管道阀前,要有Takeoff piont 号码标签; 2) 粘贴标签要美观,保证标签与管道平行,居中,无残缺,褶皱,翘曲; 3)在进泵阀组的阀前的Takeoff piont 号码标签,应该在气体标签 上面,紧挨着粘贴.
• 2. 特殊氣體特性簡介:
* 易燃性氣體 : 燃點低, 一洩漏與其他氣體相混,便易引起爆炸及燃燒 如 SIH4 , PH3 , H2 ,…. * 毒性氣體 : 反應性極強,強烈危害人體功能 , 如 CO, NO,CLF3,…. * 腐蝕性氣體 : 易與水份起反應而產生酸性物質,有刺鼻,腐蝕,破壞人體的危險 性 如 NH3, SIF4,CL2,…. * 低壓性/保溫氣體 : 屬黏稠性液態氣體,需包 加熱線 及 保溫棉 ,將管內的溫度升 高以使其氣化,才能充分供應氣體 , 如 WF6, BCL3 , DCS,…. * 惰性氣體 : 又稱窒息性氣體 , 當洩漏出的量使空氣中含氧量減少至16%~6%以 下時,便會影響人體,甚至死亡 , 如 SF6 , C4F8 , N2O , ….
• 3. 气体标签的颜色簡介: * CDA 白色 * GN2 PN2 橘红色 * PO2 黑色 * PHe PAr 绿色 * PH2 红色 * 氧化性气体: 黑色 如O3 * 易燃性氣體 : 红色 如 SIH4 , PH3 , H2 ,…. * 毒性氣體 : 红色 如 CO, NO,CLF3,…. * 腐蝕性氣體 : 如 NH3, SIF4,CL2ห้องสมุดไป่ตู้…. * 惰性氣體 : 绿色 如 SF6 , C4F8 , N2O , ….