半导体材料的基本特性
半导体材料与器件
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半导体材料与器件半导体材料是一类电阻介于导体和绝缘体之间的材料,具有在一定条件下能够导电的特性。
半导体材料与器件在现代电子技术中起着至关重要的作用,广泛应用于集成电路、光电子器件、太阳能电池等领域。
本文将就半导体材料与器件的基本概念、特性和应用进行介绍。
半导体材料的基本特性。
半导体材料具有两个显著的特性,一是在绝对零度时,半导体处于绝缘状态;二是在一定条件下,如加热或施加电场时,半导体能够导电。
这种特性使得半导体材料在电子器件中有着独特的应用价值。
半导体材料的种类。
常见的半导体材料包括硅、锗、砷化镓等。
硅是应用最为广泛的半导体材料,其稳定性和可加工性都很好,因此在集成电路等领域有着重要的地位。
而砷化镓则在光电子器件中有着广泛的应用,其光电转换效率高,被广泛应用于激光器、光电探测器等器件中。
半导体器件的基本原理。
半导体器件是利用半导体材料制成的电子器件,常见的半导体器件包括二极管、晶体管、集成电路等。
其中,二极管是最简单的半导体器件,具有只能导通一个方向电流的特性。
而晶体管则是一种能够放大电流的器件,是现代电子技术中不可或缺的组成部分。
半导体器件的应用。
半导体器件在现代电子技术中有着广泛的应用,其中最为重要的应用之一就是集成电路。
集成电路是将数百万甚至数十亿个晶体管、二极管等器件集成在一个芯片上,具有体积小、功耗低、性能稳定等优点,被广泛应用于计算机、通信、消费电子等领域。
此外,半导体器件还被应用于光电子器件、太阳能电池等领域,推动了现代科技的发展。
总结。
半导体材料与器件作为现代电子技术的重要组成部分,其在电子、光电子、能源等领域都有着广泛的应用。
通过对半导体材料与器件的基本概念、特性和应用的介绍,我们可以更好地理解其在现代科技中的重要性,为相关领域的研究和应用提供理论基础和技术支持。
希望本文能够对读者有所启发,促进相关领域的发展和创新。
半导体材料介绍论文
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半导体材料介绍论文引言:半导体材料是当今电子工业中至关重要的一类材料。
它们具有介于金属和绝缘体之间的电导性质,因而被广泛应用于电子器件的制造。
半导体材料的研究和发展对于电子行业的技术进步和创新起到了关键的作用。
本文将介绍半导体材料的基本特性、分类、制备方法、以及常见的应用领域。
1.基本特性:-可控的电导率:半导体材料的电导率可以通过外加电场或掺杂调节。
这使得半导体材料可以用来制造各种控制电流的电子器件,例如晶体管。
-禁带:半导体材料具有接近禁带(能量带隙)范围的能级,使得它们在常温下既不是导电体也不是绝缘体。
-注入载流子:通过施加特定的电压或电流,碰撞激发半导体中的电子和空穴,形成导电的载流子。
-温度敏感性:半导体材料的导电性质受温度影响较大,温度升高会导致其电导率增加。
2.分类:根据禁带宽度,半导体材料可以分为以下几类:-基础型半导体:禁带宽度较大,难以直接用于电子器件的制造。
例如,硅(Si)和锗(Ge)。
-化合物半导体:由两种或多种元素结合形成的化合物。
其禁带宽度较小,适合用于电子器件的制造。
例如,砷化镓(GaAs)和磷化氮(GaN)。
-合金半导体:由两个或多个基础型半导体材料合成的材料。
通过调节合金组成可以改变其禁带宽度。
例如,锗硅(Ge-Si)合金。
3.制备方法:-材料净化:去除杂质和不纯物质,确保制备的半导体材料具有良好的纯度。
-晶体生长:通过溶液法、气相沉积法、分子束外延等技术,使半导体材料在晶体结构中有序排列。
-掺杂:故意添加少量特定元素(掺杂剂),改变半导体材料的导电性质。
-制造器件:通过光刻、蚀刻、金属沉积等工艺,将半导体材料转化为各种电子器件。
4.应用领域:-电子行业:半导体材料是电子器件的基础材料,例如集成电路、晶体管等。
-光电子学:半导体材料的光学特性使其适用于光电器件的制造,例如激光二极管、太阳能电池等。
-光通信:半导体材料是光纤通信系统的重要组成部分,用于制造光电调制器、光放大器等器件。
半导体基本知识总结
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半导体基本知识总结半导体是一种介于导体(如金属)和绝缘体(如橡胶)之间的材料。
它的电导率介于导体和绝缘体之间,可以在特定条件下导电或导热。
半导体材料通常由硅(Si)或锗(Ge)等元素组成。
半导体具有以下几个重要特性:1. 带隙: 半导体具有能带隙,在原子之间存在禁止带,使得半导体在低温状态下几乎没有自由电子或空穴存在。
当半导体受到外部能量或掺杂杂质的影响时,带隙可以被克服,进而产生导电或导热行为。
2. 导电性: 半导体的电导性取决于其材料内部的掺杂情况。
掺杂是指将杂质元素(如硼或磷)引入半导体材料中,以改变其电子特性。
N型半导体中的杂质元素会提供额外的自由电子,增加导电性;P型半导体中的杂质元素会提供额外的空穴,也可以增加导电性。
3. PN结: PN结是由P型半导体和N型半导体通过特定方式连接而成的结构。
PN结具有整流特性,只允许电流在特定方向上通过。
当正向偏置(即正端连接正极,负端连接负极)时,电流可以自由通过;而反向偏置时,几乎没有电流通过。
4. 半导体器件: 多种半导体器件被广泛使用,如二极管、晶体管和集成电路。
二极管是一种具有正向和反向导电特性的器件,可用于整流和电压稳定等应用。
晶体管是一种具有放大和开关功能的半导体器件。
集成电路是把多个晶体管、电阻和电容等器件集成在一起,成为一个小型电路单元,用于各种电子设备。
半导体的发现和发展极大地推动了现代电子技术的进步。
它不仅广泛应用于计算机、通信设备和电子产品,还在光电子学、太阳能电池和传感器等领域发挥着重要作用。
随着半导体技术的不断发展,人们对于半导体材料与器件的研究仍在进行,为电子技术的未来发展提供了无限可能性。
半导体的基本特征
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半导体的基本特征
半导体是一种介于导体和绝缘体之间的材料,具有一些独特的特征。
以下是半导体的基本特征:
1. 导电性能:半导体的导电性能介于导体和绝缘体之间。
在纯净的半
导体中,电子和空穴数量相等,因此电导率很低。
但是,通过掺杂或
施加电场等方法,可以增加半导体的导电性能。
2. 能带结构:半导体的能带结构是其特征之一。
半导体的能带结构由
价带和导带组成。
在纯净的半导体中,价带和导带之间存在能隙,电
子必须获得足够的能量才能跃迁到导带中。
3. 温度特性:半导体的电导率随温度的变化而变化。
在低温下,半导
体的电导率很低,但随着温度的升高,电导率会增加。
这是因为温度
升高会增加电子和空穴的数量,从而增加半导体的导电性能。
4. 光电特性:半导体具有光电效应,即当光照射到半导体上时,会产
生电子和空穴。
这种现象被广泛应用于太阳能电池和光电器件等领域。
5. PN结:PN结是半导体器件的基础。
PN结是由P型半导体和N型半导体组成的结构,具有整流和放大等功能。
6. 控制特性:半导体的电性能受到外部电场的控制。
通过施加电场,可以控制半导体中电子和空穴的数量和移动方向,从而实现对半导体器件的控制。
总之,半导体具有介于导体和绝缘体之间的导电性能,能带结构、温度特性、光电特性、PN结、控制特性等特征。
这些特征使得半导体在电子器件、光电器件、太阳能电池等领域得到广泛应用。
半导体材料的基本性质及应用前景
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半导体材料的基本性质及应用前景随着人类科技的不断发展,半导体技术得到了广泛的应用。
半导体材料作为半导体技术的基础,其基本性质和应用前景也逐渐引起了人们的注意。
一、半导体材料的基本性质半导体材料具有包括导电性、光电性、热电性、感应光电性、压电性、光致发光性等在内的多种物理特性。
其中最核心的特性是导电性和不导电性。
半导体材料导电性的变化,可以通过控制半导体中杂质或缺陷的数量和类型实现。
杂质或缺陷的引入可以增强或减弱半导体的导电性。
例如,硅与锗纯净材料的导电性很弱,但加入P、N、B、As等DONOR或ACCEPTOR型杂质后,可以制备出p型或n型半导体材料。
半导体材料还具有光电性,它们与化学元素周期表上的光电发射材料相似。
半导体材料可以吸收光,电荷在导带和价带之间跃迁,从而导致光电效应。
常见的应用包括太阳能电池、光电探测器和紫外线灯等。
半导体材料的热电性可以用来制备热电材料,这种材料能够将热转换成电。
它的应用主要涉及节能和环境保护,例如,通过热电材料可以将热能转化为电能,应用于废气排放泄露的能量回收。
二、半导体材料的应用前景半导体技术以其稳定的性能、小型化的尺寸、易制备的成本、低功耗的特点等,日益成为信息技术、光电技术、新材料技术、环境保护技术等领域的重要基础材料。
以下几个方向是半导体材料未来的主要应用领域:1、新型显示屏随着信息技术的不断发展,显示屏在我们的生产和生活中发挥着越来越重要的作用。
半导体材料的光电性和导电性使其成为新一代显示技术的必需品。
例如,OLED技术已经得到了广泛的应用,其特点是超薄、超亮、超清、超省电,非常适合移动设备、电视以及广告牌等领域。
2、光电器件光电探测器、半导体激光器、光电开关、光电晶体管、光电倍增管等光电器件的应用正迅速扩展。
半导体材料的光电性使其非常适合用于制造光电器件,以便高效地转换光和电。
3、太阳能电池半导体材料的光电性是太阳能电池得以进行光电转换的重要基础材料。
半导体材料的基本特性
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半导体的趋势
★ 提高芯片性能 ★ 提高芯片的可靠性 ★ 降低芯片的成本
提高芯片的性能
关键尺寸 芯片上的最小物理尺寸 芯片上器件尺寸的相应缩小是按比例进行的,仅减小一个 尺寸是不可接受的。
每块芯片上的元件数 减小一块芯片的关键尺寸使得可以 在到 提高。
集成电路优点
★提高工作速度 ★内部连线短,缩短延迟时间,尺寸小,连线分布电容和PN
结电容减小。 ★降低功耗 ★尺寸小,连线短,电阻小 ★降低电子整机成本? ★减少印制电路和插接件 ★体积小,质量轻 ★可靠性高 ★缩短电子产品生产周期
集成电路的分类
按器件结构类型和工艺分 ★双极型集成电路,有源器件是双极型晶体管,载流子是 电子和空穴。一般用于模拟集成电路和中、小规模集 成电路。
半导体产业的发展
半导体产业发展的基础是在20世纪上半业开发的技术 上培育出来的,关键技术是在工业和学术网中获取的。
半导体产业
半导体发展趋势
半导体发展趋势——微电子时代 电子时代是由电子真空阶段延续到固体电子阶段的。 当分立器件逐步过渡到集成电路阶段时,出现了诸如半导体
器件集成化、电子系统集成化、电子系统微型化,也就出 现了微电子时代
杂质半导体
概念:掺入杂质的本征半导体称为杂质半导体。 N型半导体:在本征半导体中掺入五价杂质元素,例如磷,氮 自由电子—多数载流子(由两部分组成) 空穴——少数载流子
P型半导体 在本征半导体中掺入三价杂质元素,如硼、镓、 铟等形成了P型半导体,也称为空穴型半导体。
自由电子—少数载流子 空穴——多数载流子(由两部分组成)
电子技术的发展
电子技术的发展是以电子器件的发展而发展起来的。电子器 件的发展历经4个阶段:
半导体材料有哪些特性及应用
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半导体材料特性及应用半导体材料是一种介于导体和绝缘体之间的材料,具有特殊的电子结构和导电性质。
半导体材料具有多种独特的特性,使其在电子、光电子、光伏和光通信等领域有广泛的应用。
半导体材料的主要特性1. 能带结构:半导体材料的电子能隙较窄,介于导体和绝缘体之间,使其在一定条件下可导电。
2. 斯特克斯位:半导体材料中的离子实栅靠近导带边缘,使电子在能带中具有很大的有效质量,有利于电子迁移。
3. 自由载流子浓度调控:通过施加外电场或调控杂质,可以有效调控半导体中的自由载流子浓度,实现半导体材料的导电性能调节。
4. 温度特性:半导体材料的电导率和载流子浓度都会随温度的变化而变化,通常表现为负温度系数。
5. 光电效应:半导体材料对光具有敏感性,可以通过光照射产生电子空穴对,实现光电转换及光电控制。
半导体材料的应用电子领域应用•集成电路(IC):半导体材料在微电子领域中广泛应用,作为IC芯片的基础材料,实现电子元器件、逻辑电路等功能。
•太阳能电池:半导体材料通过光电效应转化光能为电能,广泛应用于太阳能电池板制造。
光电子领域应用•激光器:利用半导体材料的光电效应和电子受激辐射特性,制作激光器用于光通信、医疗等领域。
•LED:利用半导体材料的电子激发辐射特性制造发光二极管,广泛应用于照明、显示等领域。
光伏领域应用•光伏电池:利用半导体材料的光电转换特性,制造光伏电池转化光能为电能,应用于太阳能发电系统。
光通信领域应用•光纤通信:利用半导体激光器和探测器构成的光通信系统,提供高速、远距离的光通信服务。
综上所述,半导体材料由于其特殊的电子结构和性质,在电子、光电子、光伏和光通信领域有着重要而广泛的应用。
随着科学技术的不断发展,半导体材料的应用前景将更为广阔。
半导体材料是什么单质
![半导体材料是什么单质](https://img.taocdn.com/s3/m/ea9c006dae45b307e87101f69e3143323868f510.png)
半导体材料是什么单质半导体材料是一种在电子学领域中至关重要的材料,具有介于导体和绝缘体之间的电导特性。
它们在现代电子设备中发挥着关键作用,比如晶体管、太阳能电池和光电器件等。
半导体材料的特性取决于它们的原子结构和晶体结构,这些材料通常是由某种单质构成。
半导体材料的基本特性半导体材料通常是以硅、锗、砷化镓等元素的单质或化合物形式存在。
这些材料具有以下基本特性:1.能隙大小:半导体材料的能隙大小决定了它们的导电性质。
能隙较小的材料通常是导体,能隙较大的材料则是绝缘体,而介于两者之间的材料则是半导体。
2.载流子:在半导体材料中,载流子包括自由电子和空穴。
自由电子是带负电荷的电子,而空穴则是电子从晶格中跃迁出来后留下的正电荷。
这些载流子在外加电场或光照作用下参与导电过程。
3.掺杂:通过掺入少量的杂质原子,可以改变半导体材料的导电性质。
N型半导体通过掺入杂质使得材料带负电荷,P型半导体则使得材料带正电荷。
主要的半导体材料硅(Si)硅是最常见的半导体材料之一,广泛应用于集成电路、太阳能电池和传感器等各种电子设备中。
硅半导体的稳定性高,制造工艺成熟,具有良好的半导体特性。
锗(Ge)锗是另一种常用的半导体材料,其导电性能略逊于硅但在某些方面具有独特的优势。
锗半导体常被用于红外探测器和光学器件等领域。
砷化镓(GaAs)砷化镓是一种三元化合物半导体材料,具有较高的电子迁移率和光学性能,广泛应用于高频电子器件和光电器件中。
半导体材料的应用半导体材料在现代电子工业中有着广泛的应用,包括但不限于:•集成电路:半导体材料作为集成电路的基本构成元素,实现了电子器件的微型化和高效化。
•光电器件:比如光电二极管、太阳能电池等,半导体材料的光电性能广泛应用于能源和通信领域。
•传感器:利用半导体材料的特性设计各种传感器,如压力传感器、温度传感器等,用于工业控制和生活便利。
总结半导体材料作为电子学领域的重要组成部分,扮演着至关重要的角色。
半导体材料基础基本特性
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半导体材料的电子态和光学性 质
电子态和光学性质的基本概念
电子态:半导体材料中的电子分布 状态包括能带结构、电子密度等
电子态与光学性质的关系:电子态 决定了半导体材料的光学性质如能 带结构决定了材料的吸收光谱
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光学性质:半导体材料对光的吸收、 反射、透射等性质包括折射率、吸 收系数等
半导体材料的电子态和光学性质的 应用:在光电子学、太阳能电池、 LED等领域有广泛应用
直接和间接带隙半导体
直接带隙半导 体:电子从价 带跃迁到导带 需要吸收能量
如硅、锗等
间接带隙半导 体:电子从价 带跃迁到导带 需要吸收能量 如砷化镓、磷
化铟等
直接带隙半导 体的光学性质: 吸收光谱较宽 发光效率较高
载流子散射:影响载流子迁移率的因素 包括晶格缺陷、杂质等
载流子浓度:影响半导体材料导电性的重 要因素
载流子复合:载流子之间的相互作用影 响半导体材料的导电性
半导体材料的能带结构
金属能带结构
金属能带结构:由电子填充的能带 电子填充:电子在能带中填充形成电子云 电子云:电子在能带中的分布状态 电子填充与能带结构:电子填充影响能带结构能带结构决定电子填充
砷化镓:具有高电子迁移率、高热导率 等优点广泛应用于高速电子器件、光电 子器件等领域
磷化铟:具有高电子迁移率、高热导率 等优点广泛应用于高速电子器件、光电 子器件等领域
碳化硅:具有高热导率、高电子迁移率 等优点广泛应用于高速电子器件、光电 子器件等领域
氮化镓:具有高电子迁移率、高热导率 等优点广泛应用于高速电子器件、光电 子器件等领域
半导体的能带结构
能带:半导体材料中电子的能量分布 价带:电子能量最低的能带 导带:电子能量最高的能带 禁带:价带和导带之间的能量区域 电子跃迁:电子从价带跃迁到导带产生电流 半导体的导电性:取决于电子在能带中的分布和跃迁情况
半导体材料基础_基本特性
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为直接跃迁。相当于电子由价带竖直地跃迁到导带,所以也
称为垂直跃迁。对应的材料为直接带隙半导体。k = k'+ hv
间接跃迁
c
若导带底和价带顶位于k空间的不同位置,则任
何竖直跃迁所吸收的光子能量都应该比禁带宽
度大。但实验指出,引起本征吸收的最低光子
能量还是约等于Eg。
——推论:除竖直跃迁,还存在另一类跃迁过
激子吸收不会改变半导体的导 电性。
Eenx
=
1
2 r
m* m
13.6 n2 (eV )
iii) 杂质吸收
杂质可以在半导体的禁带中引入杂质能级,占据杂质 能级的电子或空穴的跃迁可以引起光吸收,这种吸收 称为杂质吸收,可以分为下面三种类型: a.吸收光子可以引起中性施主上的电子从基态到激发 态或导带的跃迁; b.中性受主上的空穴从基态到激发态或价带的跃迁; c.电离受主到电离施主间的跃迁;
自由载流子吸收也需要声子参与, 因此也是二级过程,与间接跃迁过 程类似。但这里所涉及的是载流子 在同一带内不同能级间的跃迁。
自由载流子吸收不会改变半导体的 导电性。
v) 子带间的跃迁
电子在价带或导带中子带(sub-band)之间的跃迁。 在这种情况下,吸收曲线有明显的精细结构,而不同 于由自由载流子吸收系数随波长单调增加的变化规律 。
由于杂质能级是束缚态,因而动量没有确定的值,所 以不必满足动量守恒的要求,因此跃迁几率较大。
杂质吸收的长波长总要长于本征吸收的长波长。杂质 吸收会改变半导体的导电性,也会引起光电效应。
电子在杂质能级及杂质能级与带间的跃迁
浅能级杂质:红外区 深能级杂质:可见、紫外区
iv) 自由载流子吸收
当入射光的波长较长,不足以引起 带间跃迁或形成激子时,半导体中 仍然存在光吸收,而且吸收系数随 着波长的增加而增加。这种吸收是 自由载流子在同一能带内的跃迁引 起的,称为自由载流子吸收。(准 连续、长波长段)
半导体的基本特征
![半导体的基本特征](https://img.taocdn.com/s3/m/996fcc4278563c1ec5da50e2524de518974bd34d.png)
半导体的基本特征半导体是一种具有特殊电性质的材料,其具备一些独特的特征。
本文将介绍半导体的基本特征,包括导电性、能带结构、载流子、禁带宽度以及掺杂等方面。
一、导电性半导体的导电性介于导体和绝缘体之间。
它的导电性来源于其晶格中的原子或离子。
在晶格中,半导体的原子或离子排列紧密,但并非十分紧密,因此其导电性比金属导体差。
半导体在常温下,其电子处于能带中,无法自由移动。
只有在施加外界电场或加热的情况下,电子才能克服能带间隙的能量差,从而跃迁到导带中,实现电导。
二、能带结构半导体的能带结构是其导电性的重要依据。
能带是指电子能量的分布区域,包括价带和导带。
价带是指电子处于低能态的能带,其电子难以自由移动;而导带是指电子处于高能态的能带,电子能够自由移动。
半导体的能带结构中,导带与价带之间存在一段能量间隙,称为禁带。
禁带宽度决定了半导体的导电特性,禁带宽度较小的半导体更易导电。
三、载流子在半导体中,载流子是指能够携带电荷的粒子,包括自由电子和空穴。
自由电子是指从价带跃迁到导带中的电子,它们带有负电荷,能够自由移动。
而空穴是指在价带中留下的缺电子的位置,它们带有正电荷,也能够自由移动。
半导体的导电性与载流子的数量和移动性息息相关。
四、禁带宽度禁带宽度是半导体的一个重要参数,它决定了半导体的导电性能。
禁带宽度越小,半导体的导电性越好。
当外界电场或加热作用下,电子能够克服禁带宽度的能量差,跃迁到导带中,形成自由电子。
因此,禁带宽度的大小直接影响了半导体的导电特性。
五、掺杂掺杂是指在半导体中加入少量的杂质元素,以改变其导电性能。
掺杂分为N型和P型两种。
N型半导体是指通过掺杂杂质元素,使半导体中的电子数目增加,导电性变强。
而P型半导体是指通过掺杂杂质元素,使半导体中的空穴数目增加,导电性变强。
通过N型和P型半导体的结合,可以形成PN结,进一步扩展了半导体材料的应用。
半导体的基本特征包括导电性、能带结构、载流子、禁带宽度以及掺杂等方面。
半导体材料有哪些基本特性
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半导体材料基本特性在当今科技领域,半导体材料是一类关键的材料,在电子、光电子和通讯领域具有广泛应用。
半导体材料与金属和绝缘体都有着截然不同的特性。
下面将介绍半导体材料的一些基本特性。
导电性半导体材料的导电性介于金属和绝缘体之间。
在室温下,半导体的电导率比绝缘体高,但远远低于金属。
这是因为半导体材料具有能带结构,在绝缘体中,能带带隙很大,电子难以从价带跃迁到导带,因此导电性很差;而在金属中,能带带隙几乎为零,使得电子自由跃迁,导电性很好。
而在半导体中,能带带隙介于绝缘体和金属之间,当半导体受到外部激发(如光或热)时,电子可以跃迁到导带,形成电流,导致导电性增加。
光吸收和发射半导体材料还具有光吸收和发射的特性。
当光线照射在半导体表面时,光子能量被半导体吸收,激发半导体内的电子跃升至激发态,形成激子。
当激子重新组合时,释放出能量,发出辐射光。
这种光发射现象被广泛应用于半导体激光器、LED 等领域。
能带结构半导体的能带结构是其特有的性质之一。
能带结构包括导带和价带,两者之间的能隙是半导体的重要指标。
当传输能量较小的电子从价带跃迁到导带时,半导体呈现导电性,而当没有足够能量的光子作用时,电子则不能跃迁到导带,半导体呈现绝缘性。
温度特性半导体材料的电学性质与温度密切相关。
一般来说,在半导体中,随着温度升高,电阻率会降低,导电性将增强;而在一些特殊情况下,随温度升高,半导体的导电性也可能会降低。
这种温度特性是半导体器件稳定工作的重要因素之一。
杂质控制半导体材料的纯度对其性能有着重要影响。
在制备半导体材料时,必须严格控制杂质的含量,尤其是掺杂控制。
通过掺入不同种类的杂质元素,可以调节半导体的电学性质,如增加或减小导电性等。
因此,对杂质的控制是确保半导体器件稳定性和可靠性的关键要素。
综上所述,半导体材料具有独特的导电性、光吸收和发射特性、能带结构、温度特性和杂质控制等基本特性,这些特性使得半导体材料在现代电子、光电子和通讯领域发挥着重要作用。
20-半导体基础知识PPT模板
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电工电子技术
半导体之所以被作为制造电子器件的主要材料在于它 具有热敏性、光敏性和掺杂性。
热敏性:是指半导体的导电能力随着温度的升高而迅 速增加的特性。利用这种特性可制成各种热敏元件,如热 敏电阻等。
光敏性:是指半导体的导电能力随光照的变化有显著 改变的特性。利用这种特性可制成光电二极管、光电.1 半导体的基本特性
根据导电性能的不同,自然界的物质大体可分为导体、 绝缘体和半导体三大类。其中,容易导电、电阻率小于 10-4Ω·cm的物质称为导体,如铜、铝、银等金属材料;很难 导电、电阻率大于104Ω·cm的物质称为绝缘体,如塑料、橡 胶、陶瓷等材料;导电能力介于导体和绝缘体之间的物质 称为半导体,如硅、锗、硒及大多数金属氧化物和硫化物 等。
(2)反向偏置
给PN结加反向偏置电压,即N区接电源正极,P区接电源 负极,称PN结反向偏置,如下图所示。
由于外加电场与内电场的 方向一致,因而加强了内电场, 促进了少子的漂移运动,阻碍 了多子的扩散运动,使空间电 荷区变宽。此时,主要由少子 的漂移运动形成的漂移电流将 超过扩散电流,方向由N区指向 P区,称为反向电流。由于常温 下少子的数量很少,所以反向 电流很小。此时,PN结处于截 止状态。
(2)P型半导体
在本征半导体硅(或锗)中掺入微量三价元素硼,由 于硼原子只有3个价电子,它与周围硅原子组成共价键时, 因缺少一个价电子而形成一个空穴,相邻的价电子很容易 填补这个空穴,形成新的空穴。这种半导体导电主要靠空 穴,所以称为空穴型半导体或P型半导体,如下图所示。P 型半导体中,空穴是多子,自由电子是少子。
2.PN结的单向导电性
(1)正向偏置
给PN结外加正向偏置电压,即P区接电源正极,N区接电 源负极,称PN结为正向偏置,如下图所示。
半导体材料特性
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半导体材料特性半导体材料是在导体和绝缘体之间具有特殊电导特性的材料。
半导体材料具有很多特性,以下是其中一些重要的特性:1. 导电性能调节:半导体材料可以通过控制材料中的杂质浓度和施加外部电场来调节其导电性能。
通过控制杂质浓度可以改变半导体材料的电子或空穴的浓度,从而控制其导电性能的大小。
同时,通过施加外部电场可以改变半导体材料中电子和空穴的迁移速度,进而改变其导电性质。
2. 负温度系数:半导体材料的电阻随温度变化的方式与金属和绝缘体不同。
在常温下,半导体材料的电阻通常随温度升高而降低,这是由于导带中载流子的增加和声子散射的增强所致。
3. 非线性电性:半导体材料的电流与电压之间的关系不是线性的,而是呈现出非线性特性。
这是由于半导体材料的导电性质与载流子浓度有关,而载流子浓度与电压有关。
半导体材料中的载流子密度增加时,导电性能急剧上升,这种非线性电性是半导体器件实现逻辑运算和放大的基础。
4. 光电特性:半导体材料可以吸收光子能量,并将其转化为电子能量。
当光子能量大于半导体带隙能量时,电子从价带跃迁到导带,产生电子-空穴对。
这就是半导体材料实现光电转换的原理。
根据光电效应的不同,半导体材料可以用作光电二极管、太阳能电池等光电器件的基础材料。
5. 热噪声:半导体器件的热噪声是由于材料内部的热运动引起的。
半导体材料中载流子的热运动会产生随机的电压和电流波动,这就是热噪声。
热噪声在很多电子器件中是一个重要的限制因素,需要通过设计合适的电路来降低热噪声的影响。
总的来说,半导体材料具有导电性能调节、负温度系数、非线性电性、光电特性和热噪声等特性。
这些特性使得半导体材料成为现代电子技术和信息技术的基础材料,广泛应用于集成电路、光电器件、功率器件、传感器等领域。
半导体材料基础_基本特性
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硅 检波器
硅 晶体管
1950年G.K.Teel 直拉法
较大的锗单晶
进 入 成 长 期 1950
1952年H.Welker 发现Ⅲ-Ⅴ族化 合物
1957年 第一颗砷化镓
单晶诞生
1960
1952年G.K.Teel 直拉法
第一根硅单晶
1955年德国西门子 氢还原三氯硅烷法
制得高纯硅
1958年 W.C.Da sh无位 错硅单
硅外延 技术
成 熟 期
1960
1963年 用液相外延法生长 砷化镓外延层,
半导体激光器
And then?
1970
1963年砷化镓 微波振荡效应
1965年 J.B.Mullin发 明氧化硼液封 直拉法砷化镓
单晶
分子束外延MBE 金属有机化学汽相沉积MOCVD 半导体超晶格、量子阱材料
杂质工程
能带工程
杂质半导体 在纯净的单晶体硅中,掺入微量的五价杂质元素,如磷、砷、
锑等,使原来晶格中的某些硅原子被五价杂质原子所取代,便
构成N型半导体。在纯净的单晶硅中掺入微量的三价杂质元素,
如硼、镓、铟等,便构成P型半导体。
+4
+4
本征半导体 纯净的单晶半导体称为本征半导体,即不含任何杂质,结构完 整的半导体。绝对零度下,本征半导体相当于绝缘体;室温下, 一部分价电子挣脱共价键束缚,形成电子-空穴对。本征激发 很弱。
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价电子
共价键
空穴
自由
电子
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半导体材料的特性与应用
![半导体材料的特性与应用](https://img.taocdn.com/s3/m/86665f4e77c66137ee06eff9aef8941ea76e4b87.png)
半导体材料的特性与应用半导体材料是一类具有特殊电导特性的材料,其独特的物理和化学性质使其在现代电子技术中发挥着重要的作用。
本文将介绍半导体材料的特性和应用,并探讨其在各个领域的潜在应用。
一、半导体材料的特性1. 带隙能带隙是半导体材料的重要特性之一。
它是在固体中电子能量分布的差异,代表了电子穿越能量障碍所需的最小能量。
半导体材料的带隙大小决定了其导电性能,大带隙材料为绝缘体,小带隙材料为导体,而介于两者之间的材料为半导体。
2. 载流子半导体材料中的载流子是电荷的载体,一般包括电子和空穴两种。
电子是带负电荷的载流子,空穴则被视为存在一个正电荷,是缺电子的位置。
材料中载流子的浓度和流动性决定了其导电性能。
3. 禁带能隙半导体材料中的禁带是指带隙两侧的能量区域。
在禁带中,材料的电子无法自由地处于其中。
当半导体材料受到外界激发时,电子可以接收到足够的能量以克服禁带并跃迁到传导带中。
4. PN结半导体材料通过掺杂可以形成PN结。
其中P区域富含正电荷,N区域则富含负电荷。
PN结具有整流特性,仅允许电流在特定方向通过。
这种特性使得PN结在电子器件中得到广泛应用。
二、半导体材料的应用1. 电子器件半导体材料在电子制造业中具有重要地位。
典型的应用包括晶体管、集成电路和光电器件等。
晶体管是现代电子设备的核心组件,其通过控制电流和放大电信号实现了电子设备的功能。
2. 光电子器件半导体材料对光的特殊响应使其在光电子器件中得以应用。
光电二极管将光信号转化为电信号,广泛应用于光通信、显示技术和光电传感器等领域。
此外,半导体激光器是激光技术的重要组成部分,用于医疗、通信、激光刻录等领域。
3. 太阳能电池半导体材料的光电转换特性使其成为太阳能电池的重要组件。
太阳能电池通过将光能转化为电能,为可再生能源领域做出了重要贡献。
随着对可再生能源需求的不断增长,太阳能电池的应用前景十分广阔。
4. 传感器半导体材料的特性使其在传感器技术中得到广泛应用。
半导体与PN结的特性
![半导体与PN结的特性](https://img.taocdn.com/s3/m/c1125767bdd126fff705cc1755270722192e59b3.png)
半导体与PN结的特性半导体材料是一种在电学行为上介于导体和绝缘体之间的材料。
它具有一些独特的特性,其中一个重要的特性是PN结。
一、半导体的特性半导体的特性主要包括:1. 导电性:半导体在特定条件下能够导电。
半导体的导电性取决于其电子能带结构和掺杂材料类型。
2. 带隙:半导体具有较小的能带隙,即价带和导带之间的能量差。
能带隙的大小决定了半导体的导电性能。
3. 温度特性:半导体的电性质受温度的影响较大。
温度升高时,半导体的导电性会增加。
4. 灵敏度:半导体对光、温度和电磁场的变化具有较高的灵敏度,可以用于光电器件、传感器等应用。
二、PN结的特性PN结是由P型半导体和N型半导体通过接触形成的结。
PN结具有以下特性:1. 势垒:PN结有一个内置电场,形成一个势垒,导致P区与N区之间的电荷分布不均匀。
P区的多数载流子是空穴,N区的多数载流子是电子。
2. 正向偏置:当外加电压正向偏置PN结时,即P区连接正电压,N区连接负电压,势垒会减小,电子和空穴会在势垒区域内重新组合,形成电流通过。
3. 反向偏置:当外加电压反向偏置PN结时,即P区连接负电压,N区连接正电压,势垒会增大,形成一个较大的电阻,几乎没有电流通过。
4. 正向漏电流:正向偏置时,PN结会产生正向漏电流。
正向漏电流的大小与应用的电压和PN结的材料特性有关。
5. 反向击穿:反向偏置电压过高时,PN结会发生击穿现象,导致电流突然增大。
这种现象需要避免,以免损坏器件。
三、PN结的应用PN结由于其特性的调控和控制,被广泛应用于以下领域:1. 整流器:PN结具有整流作用,可以将交流电转换为直流电,广泛应用于电子设备的电源部分。
2. 放大器:PN结可以用作放大电路的基本元件。
通过合理的偏置和电路设计,可以放大输入信号的幅度。
3. 光电器件:PN结受光照射会产生电荷,用于太阳能电池、光电二极管等光电转换器件。
4. 传感器:PN结对温度、压力等外界环境变化非常敏感,可以用于传感器的制造。
半导体材料具有哪些主要特性
![半导体材料具有哪些主要特性](https://img.taocdn.com/s3/m/1672db7d42323968011ca300a6c30c225901f081.png)
半导体材料具有哪些主要特性
半导体是一种介于导体(金属)和绝缘体之间的材料,具有一些独特的特性,
使其在电子学和光电子学领域具有重要的应用。
以下是半导体材料的主要特性:
1. 带隙能量
半导体材料具有禁带宽度,即能带隙。
这是指在材料中电子能级的变化范围,
使得材料在低温下几乎是绝缘体,而在受到刺激(例如光或热)时,电子可以跨越能带隙并变得导电。
带隙能量的大小决定了半导体的导电性质,常用电子伏特(eV)作为度量单位。
2. 控制载流子浓度
半导体材料可以通过掺杂来控制载流子(电子和空穴)的浓度,这在半导体器
件的制造中至关重要。
通过引入少量的杂质原子,可以从而增加或减少载流子的浓度,从而改变材料的导电性质。
3. 半导体器件的制造
半导体材料可通过各种加工工艺来制造成各种半导体器件,如二极管、晶体管
和光电器件等。
这些器件在现代电子技术中发挥着重要作用,推动了信息技术和通信技术的快速发展。
4. 温度特性
半导体材料的电导率和带隙能量都随温度的变化而变化。
这种温度特性使得半
导体器件在一定的温度范围内工作性能更稳定,同时也为一些特定应用提供了可能,如温度传感器等。
5. 光电特性
半导体材料在受到光照射后会产生光生载流子,这种光电性质使得半导体器件
在光电子学领域有广泛的应用,如太阳能电池、发光二极管(LED)和激光器等。
总的来说,半导体材料具有能带隙、控制载流子浓度、器件制造、温度特性和
光电特性等一系列独特的特性,使得其在现代电子学领域具有重要的应用价值。
半导体材料特性
![半导体材料特性](https://img.taocdn.com/s3/m/4194b3c99f3143323968011ca300a6c30d22f174.png)
半导体材料特性半导体材料是一类电子特性介于导体与绝缘体之间的材料。
它们具有独特而重要的电学、热学和光学等性质,广泛应用于电子元件、光电器件以及能源转换等领域。
本文将重点探讨半导体材料的特性。
1. 带隙(Bandgap)半导体材料的带隙是指在材料中电子能级能够占据的能量范围。
带隙的大小决定了材料的导电性质。
在典型的半导体材料中,带隙通常介于金属材料的导带和价带之间,通常为数电子伏特至数光子伏特。
半导体材料的带隙决定了在特定能量条件下能否形成可观测的电子和空穴激发,从而影响了电导率和光吸收等性质。
2. 载流子(Charge Carriers)半导体材料中的载流子是指能够携带电荷的自由电子和空穴。
在纯净(本征)半导体中,自由电子主要来源于带隙内被激发的价带电子,而空穴则是带隙内被激发的导带空穴。
载流子的行为直接影响了半导体材料的导电性质。
另外,掺杂材料(如n型和p型半导体)可通过添加杂质改变载流子浓度,进而影响电导率。
3. 能带(Energy Bands)能带理论是用来描述半导体材料中电子能级分布的理论模型。
能带可以看作是连续的能量区域,其中容纳了大量电子。
在能带理论中,导带是最高一层电子能级的集合,而价带则是最低一层。
其中,带隙将导带和价带分开。
能带理论解释了半导体材料在特定能量范围内的电子激发行为,进而揭示了导电机制和光学特性。
4. 堆垛结构(Heterostructures)半导体材料的堆垛结构是指将不同材料的薄层堆叠在一起。
这种结构常用于纳米器件和半导体光电子学中,可以调控电子和光的传播特性。
堆垛结构的设计和制备对于开发新型半导体材料、优化器件性能以及实现功能集成具有重要意义。
5. 热电性能(Thermoelectric Properties)热电性能是指半导体材料中电子和热之间的相互转换效应。
热电材料通过在温度梯度下产生电压差来实现热能转化为电能,或者通过施加电压来实现电能转化为冷热能。
半导体材料的热电性能直接决定了其在能源转换和散热器件中的应用潜力。
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半导体的趋势
★
提高芯片性能
★
提高芯片的可靠性
降低芯片的成本
★
提高芯片的性能
关键尺寸 芯片上的最小物理尺寸 芯片上器件尺寸的相应缩小是按比例进行的,仅减小一个 尺寸是不可接受的。
每块芯片上的元件数 减小一块芯片的关键尺寸使得可 以在硅片上制造更多的元件 ,由于芯片数增加性能也得 到提高。 摩尔定律
共价键
不同元素的原子共有价电子形成的粒子键,原子通过共有 电子来使价层完全填充变得稳定。束缚电子同时受两个原 子的约束,如果没有足够的能量,不易脱离轨道。
离子键
当价电子层电子从一种原子转移到另一种原子上时,就会形 成离子键,不稳定的原子容易形成离子键。
半导体分类
本征半导体:几乎不含任何杂质的半导体。 自由电子 当导体处于热力学温度0K时,导体中没有自由电 子。当温度升高或受到光的照射时,价电子能量增高,有 的价电子可以挣脱原子核的束缚,而参与导电,成为自由 电子。
电子技术的发展
电子技术的发展是以电子器件的发展而发展起来的。电子器 件的发展历经4个阶段:
★电子管 ★晶体管 ★集成电路
1906年,诞生第一只子管 1947年,出现了半导体三极晶体管 1960年12月,成功制造世界上第一块硅集成
电路
★超大规模集成电路
1966年,美国贝尔实验室利用硅片 外延技术,制造了第一块大规模集成电路
半导体产业的发展
半导体产业发展的基础是在20世纪上半业开发的技术 上培育出来的,关键技术是在工业和学术网中获取的。
半导体产业
半导体发展趋势
半导体发展趋势——微电子时代 电子时代是由电子真空阶段延续到固体电子阶段的。
当分立器件逐步过渡到集成电路阶段时,出现了诸如半导体 器件集成化、电子系统集成化、电子系统微型化,也就出 现了微电子时代
集成电路优点
★提高工作速度 ★内部连线短,缩短延迟时间,尺寸小,连线分布电容和PN 结电容减小。 ★降低功耗 ★尺寸小,连线短,电阻小 ★降低电子整机成本? ★减少印制电路和插接件 ★体积小,质量轻 ★可靠性高 ★缩短电子产品生产周期
集成电路的分类
按器件结构类型和工艺分 ★双极型集成电路,有源器件是双极型晶体管,载流子 是电子和空穴。一般用于模拟集成电路和中、小规模 集成电路。 优点:工作速度高、驱动能力强 ★ MOS(metal-oxide-semiconductor)管集成电路,有源 器件为MOS晶体管。载流子是电子或者空穴,又称为单 极型晶体管。 优点:输入阻抗高、抗干扰能力强、功耗低、集成度高、制 作工艺简单。 ★双极型-MOS集成电路,两者的混合电路 同时具有两者的优点 。
空穴 自由电子产生的同时,在其原来的共价键中就出现 了一个空位,原子的电中性被破坏,呈现出正电性,人们 常称呈现正电性的这个空位为空穴。
杂质半导体
概念:掺入杂质的本征半导体称为杂质半导体。 N型半导体:在本征半导体中掺入五价杂质元素,例如磷,氮 自由电子—多数载流子(由两部分组成) 空穴——少数载流子
微电子技术发展展望
纵观20世纪中硅基微电子技术的发展历程,未来微电子技术 将主要表现为: 1、器件的特征尺寸继续缩小 2、系统集成芯片将是将来一段时间内发展的重点
3、微电子与其它学科的结合将诞生新的技术交叉点和产业 增长点。
集成电路
集成电路的概念 将若干个二极管、晶体管、电阻和电容等元件按照特定 的电路连接方式,焊接到一快半导体单晶片或陶瓷机片 上,使之成为一个整体以完成某一特定功能的电路组件。
原子结构 由三种不同的粒子构成:中性中子和带正电的 质子组成原子核,以及围绕原子核旋转的带负电核的电子, 质子数与电子数相等呈现中性。
电子能级 原子级的能量单位是电子伏特,它代表一个电 子从低电势处移动到高出1V的的电势处所获得的动能。 价电子层 原子最外部的电子层就是价电子层,对原子的 化学和物理性质具有显著的影响,只有一个价电子的原子 很容易失去这个电子,有7个价电子的原子容易得到一个 电子,具有亲和力。
人有了知识,就会具备各种分析能力, 明辨是非的能力。 所以我们要勤恳读书,广泛阅读, 古人说“书中自有黄金屋。 ”通过阅读科技书籍,我们能丰富知识, 培养逻辑思维能力; 通过阅读文学作品,我们能提高文学鉴赏水平, 培养文学情趣; 通过阅读报刊,我们能增长见识,扩大自己的知识面。 有许多书籍还能培养我们的道德情操, 给我们巨大的精神力量, 鼓舞我们前进。
P型半导体 在本征半导体中掺入三价杂质元素,如硼、 镓、铟等形成了P型半导体,也称为空穴型半导体。
自由电子—少数载流子 空穴——多数载流子(由两部分组成)
能带结构
电子的共有化运动
——满足能量最低原理 ——泡利不相容原理
能带结构的形成 两个原子靠近时,电子波函数将重叠。 这时泡利不相容原理不允许一个量子态上有两个电子存在, 于是一个能级将分裂为2个能级,N个原子靠近时,一个能 级将分裂为N个相距很近的能级,形成能带
集成电路的发展
摩尔定律:1964年 ,戈登.摩尔,半导体产业先驱者和 英特尔公司的创始人,预言在一块芯片上的晶体管数大 约每隔一年翻一番。
半导体工业为什么有如此的发展速度
第一:集成电路业属于非资源耗尽型的环保类产业,原始材 料是地壳中的二氧化硅。 第二:集成电路的设计与制造技术中高新技术含量和技术赋 加值极高 ,产出效益好。 第三:集成电路的设计与制造业是充满技术驱动的效益驱动 的高活性产业
★硅片测试/拣选
★装配与封装
硅片拣选和测试后,进入装配与封装,以便 把单个芯片装在保护壳内。硅片的背面进行研磨以减少衬 底的厚度,一片厚的塑料薄膜被贴在每个硅片的背面,然 后,在正面沿着划片线用带金刚石的锯刃将每个硅片上的 芯片分开。
★终测
为确保芯片的功能,要对每一个被封装的集成电路 进行测试,以满足制造商的电学和环境的特性参数。
价带:被价电子填充的能带 导带:被自由电子填充的能带 禁带:导带底与价带顶之间能带 带隙:导带底与价带顶之间的能量差
能带的特点:
能带的宽窄由晶体的性质决定,与所含的原子数无关。 能量较高的能带比较宽,能量低的较窄。 每个能带中的能级数目与晶体中的原子数有关。 能带中能量不连续
常见半导体——硅
硅是一种元素半导体 ,4个价电子,正好位于优质导体和 绝缘体之间。 选择硅的主要理由: 硅的丰富度 更高的熔化温度允许更宽的工艺容限 更高的工作温度范围 氧化硅的自然形成
功耗 真空管耗费很大功率,而半导体器件确实耗用很 小的功率,随着器件的微型化,功耗相应减小,尽管晶体 管数以惊人的速度增长,但是功耗却在不断的下降。
芯片可靠性
芯片可靠性致力于趋于芯片寿命的功能的能力,通过严格 的诸如无颗粒空气净化间的使用以及控制化学试剂的纯度 来控制玷污
降低芯片价格
由于特征尺寸的减小使得硅片上集成的晶体管增多降低了 成本。 半导体产品市场大幅度增长引入了制造的规模经济
半导体材料的基本特性
半导体的概念
从导电特性和电阻率来分: 超导体: 大于106(cm)-1
导体: 106~104(cm)-1,容易导电的物体。如:铁、铜等
绝缘体: 小于10-10cm)-1,几乎不导电的物体。如:橡胶等 半导体: 104~10-10(cm)-1 ,导电性能介于导体和绝缘体之 间的物体,在一定条件下可导电。
★单晶硅片
★晶体的基本形态 单晶 多晶 ★综合指标要求
非晶 导电类型 N型或P型
集成电路的制造步骤
★硅片制造 ★硅片制备 ★硅片测试/拣选 ★装配与封装 ★终测
★硅片制备
在这一阶段,将硅从沙中提炼并纯化,经过特 殊工艺生产适当直径的硅锭,然后将硅锭切割。
★硅片制造
自硅片开始的微芯片制作是第二阶段,称为硅 片制造。裸露的硅片到达 硅片制造厂,然后经过各种清 洗、成膜、光刻、刻蚀和掺杂步骤,加工完的硅片具有永 久刻蚀在硅片上的一套集成电路。 硅片制造完成后,硅片被送到测试和拣 选区,在那里进行单个芯片的探测和电学测试,拣选出不 合格的芯片。
按电路功能分
★数字集成电路,传递和处理数字信号。
应用范围:计算机、通信处理机 ★模拟集成电路,传递和处理模拟信号。
应用范围:信号传感器、A/D、D/A等
★数模混合电路 微波集成电路,所传递和处理的信号频率大于300MHz。 应用范围:混频器,振荡器等
集成电路对半导体材料的基本的要求
★衬底必须是纯净的