第二章PN结资料

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W 2q0NDVR1 2
• 正向偏压:势垒区宽度减小,高度降低;扩散大于漂移, 向p区、n区注入少子。
• 反向偏压:势垒区宽度增加,高度增高;漂移大于扩散, 从p区、n区抽取少子。
外向偏压时,pn结中电流的分布情况
• 通过pn结任一截面的总电流是相等的,只是对于不同的截 面,电子电流和空穴电流的比例有所不同而已。
0 VT
pp0
pn0
exp
0 VT
• 加上偏下V,空间电荷区电势差变成 0 V
nn npexp0VTV
nn0 np0expV 0T npexp0VTVnp0expV 0Tnp np0expV VT
nn nn0
V
pn
pn0
exp
VT
• 当PN结加上正向偏压时,在结边缘np>np0,pn>pn0,这种现象称为载 流子正向注入;
V ( V)
衬底掺杂浓度为1016cm3的 硅扩散结的电流电压特性
2.4.1 正偏复合电流
• 在正向偏压下,从n区注入p区的电子和从p区注入n区的空穴,在势垒 区内复合了一部分,构成了另一股正向电流,称为势垒区复合电流。
• 假定复合中心与本征费米能级重合,令rp=rn=r,则:
U np N t2 rn n ic p h E n k 2 it 0T E i N n tr n p p 2 n n i2 i 1 0n n p p n 2 i2 n i
2.2.1 PN结的单向导电性
1.外加电压下,pn结势垒的变化及载流子的运动 • 正向偏压:势垒区宽度减小,高度降低;载流子的扩散运动大于漂移
运动。 • 由于外加正向偏压的作用使非
平衡载流子进入半导体的过程 称为非平衡载流子的电注入。
当pn结加上反向偏压V时:
• 势垒区:宽度增加,高度增高; • 载流子:漂移大于扩散。
Id IR
2L W pN nD i exp2V VT
• n i 越小,电压越低,势垒去复合电流的影响越大;
ND
• 用硅制作的PN结,在小注入情况下,正向电流可能由势垒区的复合 电流控制;锗PN结空间电荷区复合电流的影响可以忽略不计。
2.4.2 反偏产生电流
• 反向偏压下,势垒区内电场加强,势垒区内通过复合中心的载流子 产生率大于复合率,具有净产生率,从而产生另一部分反向电流, 称为势垒区的产生电流。
2. 外加直流电压下,pn结的能带图
正向偏压时:
EF n EFp qV
反向偏压时:
2.2.2 少数载流子的注入与输运
• 1.扩散近似
• 正向偏压下,注入到N(P)区的空穴(电子),对于N(P)区来说是少数载 流子,所以这种注入现象又称为少数载流子的注入。

对于N侧:
pn t
Dp
2pn x2
pn
I I0
1
VT
ln
I I0
1
2
6
ln
1
1 0 3 .3 10
1
3
592mV
• PN结饱和电流的几种表达形式:
(1)
I0
qApD pn0 Lp
qAnD np0 Ln
(2)
I0
qALD pN pd
Dn LnNa
n2i
(3)
I0
qApnp0
Lp
np0 n
Ln
(4) I0qACN N VLD pN pdLD nN naeEg KT
I Ip In In
xp 0 xn
Ip x
(b)少数载流子电流
(c)电子电流和空穴电流
• 反向偏压情况下的的PN结
载流子浓度
P型
PN
n p0 np
x
xp 0
N型
空间电荷层
pn0 pn
xn
x
(a)少数载流子分布
少数载流子电流
I Ip In
x
In
Ip
Ip
In
In
Ip
xp 0 xn
x x
xp 0 xn
二 级管的工作温度范围大。 (3)由于隧道效应的本质是量子跃迁过程,电子穿越势垒极其迅速,不受电子
渡越时间的限制,因此可以在极高频率下工作。这种优越的性能,使隧道 二级管能够应用于振荡器,双稳态触发器和单稳多谐振荡器,高速逻辑电 路以及低噪音微波放大器。 由于应用两端有源器件的困难以及难以把它们制成集成电路的形式,隧道二
N
D
x
2 n
2
x
2 n
2 xxn
x
2 n
x2
q
N
D
x
2 n
2
1
x xn
2
qNDxn2 2
1
x xn
2
• 对于单边突变结P+N,空间电荷区两边的内建电势差为:
0 xn xp xn0
0 qN2D xn2
• 对于P+N,耗尽区的宽度为:
W
xn
20 qND
1
2
例2-1
• 硅突变PN结二极管N侧与P侧的掺杂浓度分别为Nd=1016cm-3和 Na=4×1018cm-3。计算在室温下零偏压时的内建电势差、耗尽层宽 度和最大电场。
p nxp n 0 ex p V V T 1 ex p x n L px p n 0
JpqD pdpd nx xq L D pppn0expV V T1expxn L px
IpqA LD pppn0expV V T1expxn L px
xxn
xxn
Ipx nq A L D ppp n 0 e x p V V T 1
0

边界条件: pnxpn0 pn0expV V T1
xW n xxn
pnxpn0AexpL xpBexpL xp
A pn0 exp k q 0 V T 1 exp L xn p pn0 exp V V T 1 exp L xn p B0
p n x p n 0 p n 0 e x p V V T 1 e x p x n L p x x x n
pn0 p
Ip
qADp
dpn dx

对于P侧:
np t
Dn
2np x2
np
np0 n
In
qADn
dnp dx
• 2.空间电荷区边界的少数载流子浓度
0k q 0T lnp p n 0n 2 in 0V T lnp p n 0n 2 in 0V T lnn n p n 0 0
nn0
np0
exp
2
2.25 104 cm 3
np0
n
2 i
NA
1.5 1010 5 1018
2
45cm 3
I0
qADn Ln
np0
qADp Lp
pn0
1.6 1019
0
.0
1
1
3
2 3.6
.25 1 10 3
0
4
4.7 45 2.2 103
1.3 10 13 A
V
k 0T q
ln
• 当PN结加上反向偏压时,在结边缘np<np0,pn<pn0,这种现象称为载 流子正向注入;
• 注入P+N结的N侧的空穴及其所造成的电子分布
2.3 理想pn结二极管的直流电流电压特性
理想pn结模型: • (1)忽略中性区的体电阻和接触电阻,外加电压全部降落在耗尽区
上。 • (2)半导体均匀掺杂。 • (3)小注入:即注入的少数载流子浓度比平衡多数载流子浓度小很
I0expV V T1
Shockley方程

正向偏压:
I
I0
exp
V VT
• 反向偏压: I I 0 • I0称为饱和电流
• 正向偏压情况下的PN结
载流子浓度
P型
np pn0
N型 pn pn0
空间电荷层
xp 0 xn
x
(a)少数载流子分布
少数载流子电流
In
Ip
xp 0 xn
Ip
In x x
2.1.1 PN结空间电荷区
(a)在接触前分开的P型和N型硅的能带图
(b)接触后的能带图
• 从费米能级恒定观点来看,热平衡pn结具有统一费米能级。 • 形成pn结之后,n区费米能级和p区费米能级统一。
EFn EFpk0TlnNn dN i2 aq 0
• 可见,q 0 是热平衡时电子从 N区进入到P区、空穴从P区 进入到N区需要跨越的势垒 高度。
0
k0Tln q
NAND n2i
0.026
41018 1016 2.251020
0.83eV
W
xn
20 qND
1
2
3.28105cm
Em
qNDxn
5104V/ cm
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
2.2 加偏压的PN结
• 对于平衡的pn结,存在着一定宽度和势垒高度的势垒区,其中 相应出现了内建电场;
• 每一种载流子的扩散电流和漂移电流相互抵消,没有净电流通 过pn结,EF处处相等。
2.5 隧道电流
• 产生隧道电流的条件: (1)费米能级位于导带或价带的内部; (2)空间电荷层的宽度很窄,因而有高的隧道穿透几率; (3)在相同的能量水平上在一侧的能带中有电子而在另一侧的能带
中有空的状态。
当结的两边均为重掺杂,从而成为简并半导体时,(1)、(2) 条件满足。外加偏压可使条件(3)满足。
Dp
d2p dx2
pn
pn0 p
0
d d x 2 p 2 p n D p p p n 0 0 d d x 2 p 2 p n L 2 p p n 0 0 d 2p d n x 2 p n 0 p n L 2 p p n 0 0
• 解: pnxpn0AexpL xpBexpL xp
x
(b)少数载流子电流
(c)电子电流和空穴电流
例2-2
Dp
k 0T q
p
VT p
0.026 500
13cm 2
/
s
Dn
k 0T q
n
VT n
0.026 180
4.7cm 2
/s
Lp Dpp 3.6 103 cm
Ln Dnn 2.2 103 cm
pn0
n
2 i
ND
1.5 1010 1016
• 由于这个原因,也把空间电 荷区称为势垒区。
3.耗尽层 -突变结
• 突变结势垒中的电场、电势分布 • 耗尽层近似:在空间电荷区中,与电离杂质浓度相比,自由载流子浓度
可以忽略,这称为耗尽近似。 • 杂质完全电离:
• 在N侧和P侧泊松方程可以分别简化为:
d dx22 qN D0xxn d dx22 qN A0xxn
x x n
Ipx nq A L D ppp n 0 e x p V V T 1
In x p q A L D nnn p 0 e x p V V T 1
x x n
x x p
IIpxnInxnIpxnIn xp qA L D nnnp0qA L D pppn0expV V T1
对于0≤x ≤ xn: ddxqN Dxxn
取边界条件:x=xn,
d dx
0
d d xqN DxxnEm1x xn
m
qNDxn
d d xqN Dxxn
ddxqN Dxxn
qN 2D x2
qNDxxnD
• 取x=xn处, 0
D
qNDxn2 2
qN Dx2 2
qN Dxxn
q
N
D
x
2 n
2
q
• 当n=p时,U最大:
npn2 iexp V V T npn2 iexp 2V V T
Umax
ni
20
exp
V VT
1
exp2V VT 1
2ni0
V exp2VT
IRqA0W U dxqA 2n 0 iW exp2V V T
Id q A L D nnn p0q A L D ppp n0 exp V V T 1 q A L D ppp n 0exp V V T q A L D p p p pp n 0exp V V T q L A p L p 2 Pp n 0exp V V T q A p L pn n n 2 i0exp V V T
• 3、将非平衡少数载流子的浓度分布代入扩散方程→扩散流密度→ 少数载流子的电流密度;
• 4、将两种载流子的扩散电流密度相加,得到理想pn结模型的电流 电压方程式。
• 在N型中性区,稳态时 p n 0 ,同时E=0,G=0:
t
p tD p x 2p 2 pE p x p p E xG p p0
2.4 空间电荷区的复合电流和产生电流
• 低偏压:空间电荷区的复合电流占优势 • 偏压升高: 扩散电流占优势 • 更高偏压: 串联电阻的影响
I (A)
103
串联电阻
实验数据 104
105
106
107
斜率 q KT
108
109
斜率 q
2 KT
1 0 10 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7
多。 • (4)空间电荷区内部存在复合电流和产生电流。 • (5)半导体非简并。
计算理想pn结模型的电流电压方程式的步骤
• 1、根据准费米能级计算势垒区边界nn’及pp’处注入的非平衡少数载 流子浓度;
• 2、以此非平衡少数载流子浓度为边界条件,解扩散区中载流子连 续性方程式,得到扩散区中非平衡少数载流子的分布;
• 由重掺杂的简并的p区和n区形成的pn结,由于与隧道效应密切 相关,称为隧道结。
• 隧道二极管的特点和应用上的局限性 (1)隧道二极管是利用多子的隧道效应工作的。由于单位时间内通过结的多数
载流子的数目起伏较小,因此隧道二极管具有较低的噪声。 (2)隧道结是用重掺杂的简并半导体制成,由于温度对多子的影响小,使隧道
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