半导体物理复习归纳
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半导体物理复习归纳
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一、半导体的电子状态
1、金刚石结构(Si、Ge)
Si、Ge原子组成,正四面体结构,由两个面心立方沿空间对角线互相平移1/4个空间对角线长度套构而成。由相同原子构成的复式格子。
2、闪锌矿结构(GaAs)
3-5族化合物分子构成,与金刚石结构类似,由两类原子各自形成的面心立方沿空间对角线相互平移1/4个空间对角线长度套构而成。由共价键结合,有一定离子键。由不同原子构成的复式格子。
3、纤锌矿结构(ZnS)
与闪锌矿结构类似,以正四面体结构为基础,具有六方对称性,由两类原子各自组成的六方排列的双原子层堆积而成。是共价化合物,但具有离子性,且离子性占优。
4、氯化钠结构(NaCl)
沿棱方向平移1/2,形成的复式格子。
5、原子能级与晶体能带
原子组成晶体时,由于原子间距非常小,于是电子可以在整个晶体中做共有化运动,导致能级劈裂形成能带。
6、脱离共价键所需的最低能量就是禁带宽度。价带上的电子激发为准自由电子,即价带电子激发为导带电子的过程,称为本征激发。
7、有效质量的意义
a.有效质量概括了半导体内部势场的作用(有效质量为负说明晶格对粒子做负功)
b.有效质量可以直接由实验测定
c.有效质量与能量函数对于k的二次微商成反比。能带越窄,二次微商越小,有效质量越大。
8、测量有效质量的方法
回旋共振。当交变电磁场角频率等于回旋频率时,就可以发生共振吸收。测出共振吸收时电磁波的角频率和磁感应强度,就可以算出有效质量。为能观测出明显的共振吸收峰,要求样品纯度较高,且实验要在低温下进行。
9、空穴
价带中空着的状态被看成带正电的粒子,称为空穴。这是一种假想的粒子,其带正电荷+q,而且具有正的有效质量m p*。
10、轻/重空穴
重空穴:有效质量较大的空穴
轻空穴:有效质量较小的空穴
11、间接带隙半导体
导带底和价带顶处于不同k值的半导体。
二、半导体中的杂质和缺陷能级
1、晶胞空间体积计算
Si晶胞中有8个硅原子,每个原子看做半径为r的圆球,则8个原子占晶胞空间的百分数:立方体某顶角的圆球中心与距此顶角1/4体对角线长度处的圆球中心间的距离为2r,且
等于边长为a的立方体体对角线长(a3)的1/4。
2、杂质类型
间隙式:原子较小,存在于晶格原子间的间隙位置
替位式:原子大小及价电子壳层结构与晶格原子相近,取代晶格原子而位于晶格格点处(3、5族元素属于替位式)
3、杂质能级
被施主/受主杂质束缚的电子/空穴的能量状态称为施主E D/受主E A能级,位于离导带/价带很近的禁带中。电子/空穴挣脱杂质束缚成为导电粒子所需的能量称为杂质电离能。杂质电离能小的杂质能级很接近导带底/价带顶,称为浅能级,在室温下就几乎全部离化。
4、杂质补偿
施主、受主杂质间的相互抵消作用称为杂质补偿。高度补偿的半导体虽然导电性类似高纯半导体,但实际性能很差。
5、深能级杂质
施主杂质能级距离导带底、受主杂质能级距离价带顶很远的能级称为深能级。深能级杂质能够多次电离,往往在禁带引入若干个能级。有的杂质既能引入施主能级,又能引入受主能级。深能级杂质对载流子浓度和导电类型的影响没有浅能级杂质显著,但对于载流子复合作用比浅能级杂质强,故也称为复合中心。
6、缺陷
点缺陷、位错
三、载流子统计分布
1、热平衡
载流子产生:
本征激发(电子从晶格获取能量从价带跃迁到导带形成导带电子和价带空穴)
杂质电离(电子从施主能级跃迁到导带产生导带电子,从价带跃迁到受主能级产生价带空穴) 载流子复合:电子从高能量量子态跃迁到低能量量子态,并向晶格放出能量。
载流子产生与复合达到动态平衡,称为热平衡,此时导电的电子与空穴浓度均保持稳定。
2、获得热平衡载流子浓度的思路:
A.允许的量子态按能量如何分布——状态密度
B.电子在允许的量子态中如何分布——分布函数
3、状态密度
状态密度g(E)是能带中,能量E附近每单位能量间隔内的量子态数。电子/空穴能量越高,状态密度越大。
计算步骤:
A.算出k空间中的量子态密度(量子态数除以k空间体积)
在k空间中坐标是2π/L(L是k半导体晶体线度,L3等于晶体体积)的整数倍,每个单位立方体中有1个量子态(计入电子自旋则为2个量子态)
B.算出k空间中与能量E~(E+dE)间所对应的k空间体积
等能球面的球壳体积4πk2dk
C.两者相乘即为能量E~(E+dE)间的量子态数
D.g(E)=dZ/dE,由E-k关系化简得
4、费米分布
电子占据费米能级的概率在各种温度下总是1/2。费米能级标志了电子填充能级的水平。
5、玻尔兹曼分布
6、热平衡条件
7、杂质能级与能带中的能级有区别:能带中的能级可以容纳自旋方向相反的两个电子,而施主能级不允许同时被自旋方向相反的两个电子占据(要么容纳一个,要么空着)。
8、费米能级远在施主能级下时施主杂质几乎完全电离,费米能级远在受主能级上时受主杂质几乎完全电离。(简并。重掺杂时费米能级很靠近甚至进入导带/价带)
9、载流子浓度随温度变化
A.低温弱电离区:杂质少量电离,本征激发可忽略。该段EF随温度先上升再下降,在温度上升到使N C=0.11ND时EF达到极值。杂质浓度越高,达到极值的温度越高。
B.中间电离区
C.强电离区(饱和区):杂质几乎完全电离。载流子浓度随温度保持不变。
D.过渡区
E.本征激发区
10、费米能级随温度及杂质浓度变化
11、简并半导体
重掺杂情况下,费米能级进入导带(或价带)的情况。此时必须考虑泡利不相容原理,因而不能再使用玻尔兹曼分布,必须使用费米分布。发生简并时的杂质浓度与杂质电离能△E D(掺杂类型)和温度T有关。△E D越小,则发生简并的杂质浓度较小时。发生简并化有一个温度范围,杂质浓度越大,发生简并的温度范围越宽。
12、禁带变窄效应
简并半导体中,杂质浓度高,杂质原子相互间比较靠近,导致孤立的杂质能级扩展为杂质能带。这会使杂质电离能减小。当杂质能带与导带或价带相连,将使禁带宽度变窄。
杂质能带中的电子在杂质原子间做共有化运动参与导电,称为杂质带导电。
13、载流子冻析效应
温度低于100K时,施主杂质部分电离,尚有部分载流子被冻析在杂质能级上,对导电没有贡献,这称为低温载流子冻析效应。
四、导电性
1、迁移率
表示单位场强下电子的平均漂移速率,习惯上迁移率只取正值。
2、连续两次散射间自由运动的平均路程称为平均自由程,平均时间称为平均自由时间。
3、载流子在外电场作用下的实际运动轨迹是热运动和漂移运动的叠加。
4、恒定电场下,电流密度恒定。
5、主要散射机制
A.电离杂质散射:
散射概率Pi∝Ni*T- 3/2
B.晶格振动散射
晶格中原子的振动都是由若干不同基本波叠加,这些基本波称为格波。
对于Si等半导体,原胞中有2个原子,对应每个q有6个格波(1个原子对应每个q有一纵两横),频率最低的3个是声学波,频率最高的3个是光学波。晶格振动散射起主要作用的是长纵声学波。Ps∝T3/2
6、迁移率随温度和杂质浓度变化