光学镀膜技术与检测
光学镀膜技术的应用
光学镀膜技术的应用光学镀膜技术是一种利用光学薄膜的干涉与反射性质对光线进行处理的技术。
其应用广泛，包括光电器件、液晶显示器、摄像头镜片、激光光束等等。
下面，我们一起来分步骤阐述光学镀膜技术的应用。
1.光电器件光电器件是光学镀膜技术的重要应用领域之一。
光电器件中的光学镀膜通常是多层光学膜的堆积。
在光学镀膜过程中，需要根据器件需要，选择合适的光学薄膜材料进行镀膜，以达到器件的设计要求。
例如，太阳能电池板为了提高吸收光线的效率会采用內膜式结构进行反射光的利用。
2.液晶显示器现代液晶显示器中的各种反射、散射板、吸收体等都需要采用光学镀膜技术。
光学镀膜技术主要应用于其背光源中的反射或衰减材料，以及显示屏幕上的抗反射材料。
经过光学镀膜处理的液晶显示器，不仅能够保证其高清晰度和色彩还原度，还能有效减少其反光和眩光等负面影响。
3.摄像头镜片摄像头镜片上的光学镀膜主要应用于反射板上。
通过搭配反光板材料，利用光学干涉等原理，可以大大提高镜片的成像质量。
在镀膜过程中，需要根据实际需求选择合适的材料，进行特定的反光率、吸收率和透射率等处理。
4.激光激光技术中的光学镀膜主要应用于光学元件的薄膜增透或反射，以提高激光的利用效率。
例如，在某些激光器中，通过在管壳内部镀上透镜、反射镜等光学薄膜，可以调整激光器的光束发散角；在激光器的输出窗口上镀上透镜膜等材料，可以提高激光能量的输出。
总之，光学镀膜技术已经广泛应用于日常生活的各个领域中。
在实际应用中，镀膜材料的选择、光学膜的生产过程以及成品产品的检测等都是非常重要的环节。
人们应当加强理论研究，不断改进技术工艺，进一步完善各类光学器件的性能和质量，为新的科技研究和产业应用提供可靠的基础和支撑。
光学镀膜技术
光学镀膜技术光学薄膜在我们的生活中无处不在,从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用;比方说,平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品,或者是钞票上的防伪技术,皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸.倘若没有光学薄膜技术作为发展基础,近代光电、通讯或是镭射技术将无法有所进展,这也显示出光学薄膜技术研究发展的重要性.今天为大家带来的是光学镀膜的应用原理.一、光学薄膜的定义光学薄膜的定义是:涉及光在传播路径过程中,附着在光学器件表面的厚度薄而均匀的介质膜层,通过分层介质膜层时的反射、透(折)射和偏振等特性,以达到我们想要的在某一或是多个波段范围内的光的全部透过或光的全部反射或偏振分离等各特殊形态的光.光学薄膜系指在光学元件或独立基板上,制镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合,以改变光波之传递特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变.故经由适当设计可以调变不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性.一般来说,光学薄膜的生产方式主要分为干法和湿法的生产工艺.所谓的干式就是没有液体出现在整个加工过程中,例如真空蒸镀是在一真空环境中,以电能加热固体原物料,经升华成气体后附着在一个固体基材的表面上,完成涂布加工.日常生活中所看到装饰用的金色、银色或具金属质感的包装膜,就是以干式涂布方式制造的产品.但是在实际量产的考虑下,干式涂布运用的范围小于湿式涂布.湿式涂布一般的做法是把具有各种功能的成分混合成液态涂料,以不同的加工方式涂布在基材上,然后使液态涂料干燥固化做成产品.二、薄膜干涉原理1、光的波动性19世纪60年代,美国物理学家麦克斯韦发展了电磁理论,指出光是一种电磁波,使波动说发展到了相当完美的地步.由光的波粒二象性可知,光同无线电波、X射线、一样都是电磁波,只是它们的频率不同.电磁波的波长λ、频率u和传播速率V三者之间的关系为:V=λu由于各种频率的电磁波在真空中的传播速度相等,所以频率不同的电磁波,它们的波长也就不同.频率高的波长短,频率低的波长长.为了便于比较,可以按照无线电波、红外线、可见光、紫外线、X射线和伽玛射线等的波长(或频率)的大小,把它们依次排成一个谱,这个谱叫电磁波谱.在电磁波谱中,波长最长的是无线电波,无线电波又因波长的不同而分为长波、中波、短波、超短波和微波等.其次是红外线、可见光和紫外线,这三部分合称光辐射.在所有的电磁波中,只有可见光可以被人眼所看到.可见光的波长约在0.76微米到0.40微米之间,仅占电磁波谱中很小的一部分.再次是X射线.波长最短的电磁波是y射线.光既然是一种电磁波,所以在传播过程中,应该表现出所具有的特征---干涉、衍射、偏振等现象.2、薄膜干涉薄膜可以是透明固体、液体或由两块玻璃所夹的气体薄层.入射光经薄膜上表面反射后的第一束光,折射光经薄膜下表面反射,又经上表面折射后得第二束光,这两束光在薄膜的同侧,由同一入射振动分出,是相干光,属分振幅干涉.若光源为扩展光源(面光源),则只能在两相干光束的特定重叠区才能观察到干涉,故属定域干涉.对两表面互相平行的平面薄膜,干涉条纹定域在无穷远,通常借助于会聚透镜在其像方焦面内观察;对楔形薄膜,干涉条纹定域在薄膜附近.实验和理论都证明,只有两列光波具有一定关系时,才能产生干涉条纹,这些关系称为相干条件.薄膜的相干条件包括三点:两束光波的频率相同;束光波的震动方向相同;两束光波的相位差保持恒定.薄膜干涉两相干光的光程差公式为:Δ=ntcos(α)±λ/2式中n为薄膜的折射率;t为入射点的薄膜厚度;α为薄膜内的折射角;λ/2是由于两束相干光在性质不同的两个界面(一个是光疏介质到光密介质,另一个是光密介质到光疏介质)上反射而引起的附加光程差.薄膜干涉原理广泛应用于光学表面的检验、微小的角度或线度的精密测量、减反射膜和干涉滤光片的制备等.光是由光源中原子或分子的运动状态发生变化辐射出来的,每个原子或分子每一次发出的光波,只有短短的一列,持续时间约为10亿秒对于两个独立的光源来说,产生干涉的三个条件,特别是相位相同或相位差恒定不变这个条件,很不容易满足,所以两个独立的一般光源是不能构成相干光源的.不仅如此,即使是同一个光源上不同部分发出的光,由于它们是不同的原子或分子所发出的,一般也不会干涉.三、光学薄膜特点分类主要的光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等,它们在国民经济和国防建设中得到广泛的应用,获得了科学技术工的日益重视.例如采用减反射膜后可使复杂的光学镜头的光通量损失成十倍的减小;采用高反射膜比的反射镜可使激光器的输出功率成倍提高;利用光学薄膜可提高硅电池的效率和稳定性.最简单的光学薄膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质膜层.在这种情况下,可以用光的干涉理论来研究光学薄膜的光学性质.当一束单色光平面波入射到光学薄膜上时,在它的两个表面上发生多次反射和折射,反射光和折射光的方向有反射定律和折射定律给出,反射光和折射光的振幅大小则由菲涅尔公式确定.光学薄膜根据其用途分类、特性与应用可分为:反射膜、增透膜/减反射膜、滤光片、偏光片/偏光膜、补偿膜/相位差板、配向膜、扩散膜/片、增亮膜/棱镜片/聚光片、遮光膜/黑白胶等.相关衍生的种类有光学级保护膜、窗膜等.光学薄膜的特点是:表面光滑,膜层之间的界面呈几何分割;膜层的折射率在界面上可以发生跃变,但在膜层内是连续的;可以是透明介质,也可以是吸收介质;可以是法向均匀的,也可以是法向不均匀的.实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多.这是因为:制备时,薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料,起表面和界面是粗糙的,从而导致光束的漫反射;膜层之间的相互渗透形成扩散界面;由于膜层的生长、结构、应力等原因,形成了薄膜的各种向异性;膜层具有复杂的时间效应.反射膜一般可分为两类,一类是金属反射膜,一类是全电介质反射膜.此外,还有将两者结合的金属电介质反射膜,功能是增加光学表面的反射率.一般金属都具有较大的消光系数.当光束由空气入射到金属表面时,进入金属内的光振幅迅速衰减,使得进入金属内部的光能相应减少,而反射光能增加.消光系数越大,光振幅衰减越迅速,进入金属内部的光能越少,反射率越高.人们总是选择消光系数较大,光学性质较稳定的金属作为金属膜材料.在紫外区常用的金属膜材料是铝,在可见光区常用铝和银,在红外区常用金、银和铜,此外,铬和铂也常作一些特种薄膜的膜料.由于铝、银、铜等材料在空气中很容易氧化而降低性能,所以必须用电介质膜加以保护.常用的保护膜材料有一氧化硅、氟化镁、二氧化硅、三氧化二铝等.金属反射膜的优点是制备工艺简单,工作的波长范围宽;缺点是光损大,反射率不可能很高.为了使金属反射膜的反射率进一步提高,可以在膜的外侧加镀几层一定厚度的电介质层,组成金属电介质反射膜.需要指出的是,金属电介质射膜增加了某一波长(或者某一波区)的反射率,却破坏了金属膜中性反射的特点.。
真空镀铝膜的光学检测
真空镀铝膜的光学检测
真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五⼗年代开始出现⼯业应⽤，⼯业化⼤规模⽣产开始于20世纪80年代，在电⼦、宇航、包装、装潢、烫⾦印刷等⼯业中取得⼴泛的应⽤。
真空镀膜是指在真空环境下，将某种⾦属或⾦属化合物以⽓相的形式沉积到材料表⾯（通常是⾮⾦属材料），属于物理⽓相沉积⼯艺。
因为镀层常为⾦属薄膜，故也称真空⾦属化。
⼴义的真空镀膜还包括在⾦属或⾮⾦属材料表⾯真空蒸镀聚合物等⾮⾦属功能性薄膜。
在所有被镀材料中，以塑料最为常见，其次，为纸张镀膜。
相对于⾦属、陶瓷、⽊材等材料，塑料具有来源充⾜、性能易于调控、加⼯⽅便等优势，因此种类繁多的塑料或其他⾼分⼦材料作为⼯程装饰性结构材料，⼤量应⽤于汽车、家电、⽇⽤包装、⼯艺装饰等⼯业领域。
但塑料材料⼤多存在表⾯硬度不⾼、外观不够华丽、耐磨性低等缺陷，如在塑料表⾯蒸镀⼀层极薄的⾦属薄膜，即可赋予塑料程亮的⾦属外观，合适的⾦属源还可⼤⼤增加材料表⾯耐磨性能，⼤⼤拓宽了塑料的装饰性和应⽤范围。
真空镀铝膜在连续⽣产的过程中需要对其镀铝层的厚度进⾏监控，镀膜层厚度的均匀性关系到镀铝膜的品质。
⽬前市场上可以使⽤光密度在线检测仪来监控镀膜层厚度，光密度是⼊射光与透射光⽐值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。
通常镀铝膜的光密度值为1－3（即光线透过率为10%－0.1%），数值越⼤镀铝层越厚。
光密度在线检测仪通过检测其可见光、红外线透过率以及紫外线透过率来对其镀膜材料光学性能的阻隔能⼒进⾏测试，保证镀膜在线⽣产的优良品质。
光学镀膜工艺流程
光学镀膜工艺流程光学镀膜是一种常用的表面处理技术，通过在待处理物体的表面上涂覆一层薄膜，以改变其光学性能。
光学镀膜广泛应用于光学器件、光学仪器、显示器、摄像头等领域。
下面将详细介绍光学镀膜的工艺流程。
一、清洗和去污光学镀膜的第一步是对待处理物体进行清洗和去污。
这是确保薄膜附着在物体表面均匀且牢固的关键步骤。
清洗可以使用溶剂、酸碱等化学方法，也可以采用超声波、蒸汽等物理方法。
清洗的目的是除去物体表面的油脂、灰尘等杂质，保证薄膜附着的质量。
二、基底材料准备在进行光学镀膜之前，需要对基底材料进行准备。
这包括基底材料的选择和表面处理。
基底材料的选择应根据具体应用需求来确定，常见的基底材料有玻璃、塑料、金属等。
表面处理的目的是增加基底材料与薄膜之间的附着力，常用的表面处理方法有机械打磨、离子轰击等。
三、薄膜材料选择薄膜材料的选择是光学镀膜的关键一步。
薄膜材料的选择应根据所需的光学性能来确定。
常见的薄膜材料有二氧化硅、氧化铝、氧化锌等。
选择合适的薄膜材料可以实现对光的反射、透射、吸收等特四、真空镀膜真空镀膜是光学镀膜的核心步骤。
在真空条件下，将薄膜材料加热至蒸发温度，使其蒸发并沉积在基底材料表面，形成薄膜。
真空镀膜可以采用蒸发法、溅射法等不同的方法。
蒸发法是将薄膜材料放置在加热源上，加热至蒸发温度后，薄膜材料蒸发并沉积在基底材料表面。
溅射法是利用高能离子轰击薄膜材料，使其蒸发并沉积在基底材料表面。
五、薄膜结构设计薄膜结构的设计是光学镀膜的关键一步。
通过调整薄膜材料的种类和厚度，可以实现对光的反射、透射、吸收等特性的调控。
常见的薄膜结构有单层膜、多层膜、全反射膜等。
多层膜是将多种薄膜材料交替沉积在基底材料表面，形成复合的薄膜结构。
全反射膜是利用多层膜的干涉效应，使得光在薄膜表面发生全反射。
六、薄膜性能检测薄膜性能的检测是光学镀膜的最后一步。
通过对薄膜的光学性能进行检测，可以验证镀膜效果是否符合要求。
常见的薄膜性能检测方法有透射率测试、反射率测试、硬度测试等。
光学仪器中的光学镀膜技术与性能评估考核试卷
E.所有以上都是
14.光学镀膜中，以下哪些方法可以减少膜层缺陷？（）
A.提高镀膜室清洁度
B.优化基片表面处理
C.控制镀膜过程中的温度
D.使用高纯度镀膜材料
E.所有以上都是
15.以下哪些材料可用于制备超低反射率的光学镀膜？（）
A.硅氧化物
B.镁氟化合物
C.硅
D.铝
E.钛
16.光学镀膜性能评估中，以下哪些测试可以评估膜层的耐环境稳定性？（）
2.光学镀膜的主要目的是为了增加光学元件的反射率。（）
3.在光学镀膜过程中，膜层的厚度可以通过控制镀膜时间来精确控制。（）
4.光学镀膜中的多层膜结构可以有效提高膜层的透光率和反射率。（）
5.光学镀膜的膜层材料选择不会影响膜层的颜色。（）
6.光学镀膜中的颗粒污染主要来自于镀膜材料本身。（）
7.光学镀膜的性能评估中，耐腐蚀测试是衡量膜层化学性能的重要指标。（√）
A.反射膜
B.透射膜
C.滤光膜
D.磁性膜
2.下列哪种材料常用于光学镀膜中的反射膜？（）
A.硅
B.钛
C.铝
D.铜
3.光学镀膜技术中，离子束溅射的优点不包括以下哪一项？（）
A.镀膜质量高
B.膜层附着性强
C.成本低
D.可控性好
4.下列哪种现象是光学镀膜中的常见问题？（）
A.膜层厚度均匀
B.膜层应力小
C.膜层有裂纹
D.膜层颜色一致
5.光学镀膜的性能评估中，以下哪个参数表示膜层的透光率？（）
A.折射率
B.反射率
C.透射率
D.吸收率
6.下列哪种光学镀膜技术适用于制备高折射率膜层？（）
A.真空蒸发镀膜
光学镀膜技术_文库
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例：空气折射率是1，玻璃折射率是1.8，镀膜折射率是1.5。
光线从空气直接进入玻璃 透射率=4*1*1.8/（1+1.8） 2=91.84%;
光线从空气进入镀膜再进入玻璃透射率=【4*1*1.5/（1+1.5） 2】*【4*1.5*1.8/（1.5+1.8）2】=95.2%;
利用这种干涉现象，通过对光学零件表面薄膜的材料和厚度的 控制，人为的控制光的干涉，根据需要来实现光能的重新分配。
光学镀膜工作原理
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光照到光学零件表面时，一部分 光发生反射，另外一部分光投射 进入光学零件。反射光的存在无 疑降低了透射光的强度，反之透 射光的存在降低了反射光的强度；
为了减少反射光或者透射光的强
作用： ➢ 增加光学系统的通透率； ➢ 减少杂散光； ➢ 提高像质；
增透➢膜增加作用距离；
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当光线从折射率为n0的介质射入折射率为n1的另一介质时，在 两介质的分界面上就会产生光的反射, 如果介质没有吸收，分界 面是一光学表面，光线又是垂直入射，则：
反射率 R=(n0-n1)2/(n0+n1)2
增透膜
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单层增透膜反射率
增透膜
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多层窄带增透：多个膜层叠加对单个波长进行反复干涉相消以使 得反射率达到最小。
增透膜
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多层宽带增透：多个膜层叠加对不同波长的反射光都进行干涉相 消从而达到对一个宽波段的光增透。
增透膜
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应用：所有透过型光学系统如照相机、测距仪、潜望镜、显微 镜等各种视觉观察和测量系统；
d
膜上表面和下表面的反射光线在上表面的相
位差为1个波长，干涉相长，从而使反射光
光学镀膜机的反射率测试与校准方法
光学镀膜机的反射率测试与校准方法光学镀膜技术在当今科技领域中扮演着重要的角色，它通过在光学元件表面上镀上不同材料薄层，以改变光的传播、透射和反射特性，从而实现对光的控制和调整。
反射率是评估光学镀膜效果的重要指标之一，准确测量和校准光学镀膜机的反射率具有重要意义。
本文将介绍光学镀膜机的反射率测试与校准方法。
一、反射率测试方法1. 光源与探测器的选择：在进行反射率测试时，合适的光源和探测器的选择对结果的准确性至关重要。
一般来说，常用的光源有白炽灯、激光器等，而选择探测器则需根据具体实验需求选取，比如光电二极管、光电倍增管等。
2. 样品制备与安装：样品制备时需要确保表面光洁、无污染、无划痕等，以保证测试结果的准确性。
安装样品时要避免产生光学间隙，确保样品与光源、探测器之间的光路能保持稳定。
3. 精确的光路设计：光学镀膜机的反射率测试需要精确的光路设计，确保光线的入射角、传输路径和探测角等参数的准确控制。
可以在设计中引入准直镜、狭缝等元件来保证光路的精确传输。
4. 测量数据处理：反射率测试完成后，需要进行数据的处理和分析。
可以使用光谱仪、反射计等设备获取反射率数据，并通过相应软件进行数据处理，例如拟合、平滑等，以获得更准确的结果。
二、反射率校准方法1. 校准光源和探测器：在反射率校准过程中，首先需要对光源和探测器进行校准，以确保它们的输出和响应符合要求。
可以使用标准光源和探测器进行比对，或者参考国际标准进行校准。
2. 校准样品的选择：为了进行反射率校准，需要准备具有已知反射率的标准样品。
这些样品应具有稳定的光学性质，反射率值已经准确测量和记录。
3. 校准光路设计：在进行反射率校准时，需要设计一个稳定、准确的光路。
可以使用准直镜、狭缝等元件来控制光线的传输和入射角，确保光路中各元件的位置和角度的稳定性。
4. 数据比对和修正：在反射率校准过程中，将测量得到的样品反射率与标准样品反射率进行比对，计算偏差，并根据偏差修正测量结果，以实现反射率的准确校准。
光学镀膜技术以及应用调查
光学镀膜技术以及应用调查关键词：镀膜；技术；应用摘要：镀膜主要是为了减少反射，为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。
并且其可分为隔热膜，防爆膜。
镀膜主要是为了减少反射，为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。
镜头的镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质，使镜头对这一波长的色光的反射降至最低。
显然，一层膜只对一种色光起作用，而多层镀膜则可对多种色光起作用。
多层镀膜通常采用不同的材料重复地在透镜表面镀上不同厚度的膜层。
多层镀膜可大大提高镜头的透光率，；例如，未经镀膜的透镜每个表面的反射率为5%，单层镀膜后降至2%，而多层镀膜可降至0.2%，这样，可大大减少镜头各透镜间的漫反射，从而提高影像的反差和明锐度。
隔热膜隔热膜（Sun Contral window film），又俗称太阳隔热膜等，其中，隔热膜是最常见的称呼，“隔热”是指对红外光区的有效阻隔。
根据car2100权威定义，隔热膜一般是由PET基材复合而成的薄膜，带有的水溶性压敏胶，它能紧紧贴住玻璃碎片，当发生碰撞车祸或被歹徒敲打挡风玻璃，玻璃碎片不会脱落飞溅。
对此，专业的解释是隔热膜本身有多余3层的功能材料，厚度达到大于0.051mm，能承受国际标准97.1105磅的撞击测试。
隔热膜又被称为防晒隔热膜，“防晒”是指能有效阻隔紫外线达90%以上。
第三代产品运用了很多新技术，如“磁控镀膜”、“微米技术”、“纳米技术”、“航天科技”等，紫外线阻隔率提高到90%~100%左右，红外线阻隔率提高到30%~95%左右，胶的粘性更强，从而达到既降低膜的厚度又提高了防爆性能的效果.隔热膜的一些特点：1.隔热 ---希雅图建筑膜是高档热反射式窗膜，其太阳能总阻隔率可高达79%，具有极好的隔热性能。
与低端产品染色膜和原色膜等存在极大的不同，后者属于吸热式窗膜，只能通过吸热暂时起到隔热的作用。
光学镀膜材料的理论与实践
光学镀膜材料的理论与实践光学镀膜是一种在光学器件表面上镀上一层薄膜的技术，用于改变光学器件的光学性能。
光学镀膜材料的理论与实践是指通过理论模型和实验验证来解释和优化光学镀膜材料的特性和性能。
光学镀膜材料的理论研究主要基于光的电磁理论和量子力学原理。
光的电磁理论认为光是电磁波，可以通过电磁波方程来描述其传播规律。
量子力学原理则认为粒子的能量是量子化的，光是由光子组成的，每个光子具有能量和动量。
光学镀膜材料的理论研究主要是通过分析电磁波在材料中的传播和反射、折射等行为，以及光子与材料之间的相互作用，来预测和解释光学镀膜的特性和性能。
光学镀膜材料的实践研究主要包括材料的制备和测试。
在制备方面，首先需要选择合适的材料作为镀膜材料，通常选择的材料有金属、半导体和介质等。
然后，通过物理气相沉积、化学气相沉积、溅射等方法将材料沉积在光学器件表面上，形成薄膜。
在过程控制方面，需要控制沉积速率、沉积时间、沉积温度等参数来控制薄膜的质量和厚度。
在测试方面，需要使用光谱测试仪、电子显微镜等测试设备来表征薄膜的光学性能、结构和形貌等。
光学镀膜材料的理论与实践研究在光学器件的设计和应用中起着重要的作用。
通过理论研究，可以优化镀膜材料的组分、厚度和结构等参数，来实现特定的光学性能和应用需求，如增透膜、反射镜、滤光片等。
而实践研究则可以验证和改进理论模型，优化沉积工艺，提高薄膜的质量和性能。
总之，光学镀膜材料的理论与实践研究是光学镀膜技术的重要组成部分，通过理论解释和实验验证来优化镀膜材料的特性和性能，为光学器件的设计和应用提供科学依据。
随着科学技术的不断进步，光学镀膜材料的理论与实践研究将继续推动光学器件的发展和应用。
光学镀膜制备工艺技术规程
光学镀膜制备工艺技术规程光学镀膜制备工艺技术规程一、目的为了确保光学镀膜制备的质量和效果，规范工艺流程，提高生产效率，特制定此技术规程。
二、适用范围本规程适用于光学镀膜的制备工艺过程。
三、工艺流程1. 优化基材处理：首先对待镀膜基材进行清洗，去除表面油污和杂物，然后进行化学处理，例如酸洗、碱洗等，以保证基材表面的洁净度和平整度。
2. 脱蜡处理：将处理过的基材浸泡在脱蜡溶液中，使蜡状物质从基材表面彻底去除，提高镀膜附着力。
3. 基膜制备：将基材放置于真空腔内，通过热蒸发或溅射等方法，制备出具有特定光学性质的基膜。
4. 多层膜制备：根据需要，通过多次重复基膜制备的过程，在基膜上反复镀膜，形成多层膜结构。
每一次镀膜都应根据设计要求进行参数调整。
5. 镀膜修饰：在完成基本的多层镀膜结构后，进行必要的镀膜修饰，包括抛光、电镀、激光打孔等。
修饰过程应根据产品使用要求进行。
6. 检测与质量控制：在各个制备过程中，应进行相应的检测和质量控制，包括基材处理前后的表面洁净度检测、镀膜的光谱特性检测、膜厚的测量等。
7. 包装和验收：制备完成的光学镀膜产品应进行包装，并经过验收合格后，方可出厂。
四、工艺要求1. 使用优质的原材料，确保镀膜的质量和稳定性。
2. 严格控制每一步骤的工艺参数，避免因参数偏差导致的镀膜质量问题。
3. 做好镀膜的质量记录，方便追溯和问题分析。
4. 加强仪器设备的维护和保养，确保设备的稳定性和可靠性。
5. 检测和质量控制工作要求严格，避免次品流入市场。
6. 操作人员要持证上岗，经过培训和考核合格后方可操作。
五、安全措施1. 在酸洗、碱洗等化学处理过程中，操作人员应佩戴化学防护服和防护手套，避免直接接触化学品。
2. 真空腔内的操作人员应戴上呼吸器，在保证安全的前提下进行操作。
3. 定期检测和维护设备，确保设备的运行安全。
4. 做好镀膜过程中的废物处理，避免对环境造成污染。
六、总结本规程依据光学镀膜制备工艺的实际情况，对工艺流程和要求进行了明确规定，对操作人员的安全和产品的质量都起到了重要的指导作用。
玻璃光学镀膜
玻璃光学镀膜1 玻璃光学镀膜的定义玻璃光学镀膜是指将不同的材料在玻璃表面反复涂覆，形成多层薄膜的技术，用于增强玻璃的光学性能。
通常使用的材料包括金属、氟化物和氧化物等。
2 玻璃光学镀膜的作用玻璃经过光学镀膜后，可以增强其表面反射和透射功效，提高光的透过率、反射率和色散性。
因此，在电子、通信、太阳能、航空、安全等领域，玻璃光学镀膜发挥着非常广泛的应用价值。
3 玻璃光学镀膜的分类根据功能不同，玻璃光学镀膜可分为各种类型。
常见的玻璃光学镀膜大致可以分为以下几种：1. 全反射玻璃：用于制作反光镜和平板反射器等光学器件。
2. 透镜玻璃：用于生产光学透镜器件，如摄影镜头、望远镜、显微镜等。
3. 滤光镀膜玻璃：用于实现特定的色彩过滤功能，以满足特殊要求的视觉效果。
4. 消光玻璃：消除反射、折射和眩光，用于生产液晶显示器、军用光学仪器等。
玻璃光学镀膜过程分为抛光处理、清洗、真空镀膜和检测四个步骤。
1. 抛光处理：首先需要通过精确的抛光工艺，使制品表面平整振光，以确保涂层的质量。
2. 清洗：将抛光后的玻璃表面清洗干净，以去除任何残留物，确保涂层粘附性和均匀性。
3. 真空镀膜：根据需要，选取不同材料进行真空镀膜。
在真空镀膜室中，将准备好的薄膜材料放置在电子束或电弧枪中，并通过高温加热将材料蒸发到玻璃表面形成多层复合涂层。
4. 检测：检测涂层表面的均匀性、透过率、反射率等参数，并根据需要进行二次涂层更正。
5 玻璃光学镀膜的应用领域玻璃光学镀膜技术被广泛应用于各种领域。
以下是玻璃光学镀膜的一些典型应用领域：1. 光学仪器领域：透镜、反光镜、平板反射器、不凝膜等。
2. 电子领域：显示器、传感器、太阳能电池、光纤通讯等。
3. 医疗领域：医疗仪器、激光仪器、显微镜、眼镜镜片等。
4. 建筑领域：特种玻璃、隔音玻璃、防紫外线玻璃等。
随着科技进步，玻璃光学镀膜的应用领域不断扩展，技术也不断创新。
未来，玻璃光学镀膜的发展趋势主要表现在以下几个方面：1. 新材料的应用：随着新材料的研究和开发，玻璃光学镀膜将更广泛地应用于各种新领域。
光学镀膜技术以及应用调查
光学镀膜技术以及应用调查镀膜主要是为了减少反射，为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。
镜头的镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质，使镜头对这一波长的色光的反射降至最低。
显然，一层膜只对一种色光起作用，而多层镀膜则可对多种色光起作用。
多层镀膜通常采用不同的材料重复地在透镜表面镀上不同厚度的膜层。
多层镀膜可大大提高镜头的透光率，；例如，未经镀膜的透镜每个表面的反射率为5%，单层镀膜后降至2%，而多层镀膜可降至0.2%，这样，可大大减少镜头各透镜间的漫反射，从而提高影像的反差和明锐度。
隔热膜（Sun Contral window film），又俗称太阳隔热膜等，其中，隔热膜是最常见的称呼，“隔热”是指对红外光区的有效阻隔。
根据car2100权威定义，隔热膜一般是由PET基材复合而成的薄膜，带有的水溶性压敏胶，它能紧紧贴住玻璃碎片，当发生碰撞车祸或被歹徒敲打挡风玻璃，玻璃碎片不会脱落飞溅。
对此，专业的解释是隔热膜本身有多余3层的功能材料，厚度达到大于0.051mm，能承受国际标准97.1105磅的撞击测试。
隔热膜又被称为防晒隔热膜，“防晒”是指能有效阻隔紫外线达90%以上。
第三代产品运用了很多新技术，如“磁控镀膜”、“微米技术”、“纳米技术”、“航天科技”等，紫外线阻隔率提高到90%~100%左右，红外线阻隔率提高到30%~95%左右，胶的粘性更强，从而达到既降低膜的厚度又提高了防爆性能的效果目前市面上的隔热膜大致可分为三种(1)染色膜：就是一般所称的普通膜，这种隔热膜用起来就象是糊灯笼的玻璃纸，可说是一点隔热效果也没有，而且视线非常的差，因此时间一久就会慢慢褪色，而且受热后会散发异味。
(2)“半反光纸”，这种太阳膜通常是4S店赠送用户的那种，隔热率大约20%—30%，使用一二年后表面可能会起氧化而产生变质，所以买新车时要特别注意4S 店所赠送的是否属于这一类。
光学镀膜技术在光学仪器中的应用
光学镀膜技术在光学仪器中的应用光学镀膜技术是一种通过在光学器件表面附着一层特定材料来改善其光学性能的技术。
它在光学仪器中的应用非常广泛，可以大大提高光学仪器的透射率和反射率，减少光学器件的表面散射和反射，提高光学仪器的分辨能力和传输效率。
光学仪器是指利用光学原理进行测量、观测、成像和分析的仪器。
光学仪器广泛应用于物理、化学、生物、医学、矿业、环保和军事等领域。
而光学镀膜技术作为光学仪器中的关键技术之一，为各类光学仪器的性能提升和功能实现做出了重要贡献。
首先，光学镀膜技术在光学仪器中的主要应用之一是增透膜的制备。
增透膜是一种通过对光学器件进行特殊处理，在特定波长范围内大幅度提高光学器件的透射率的膜层。
它广泛应用于光学仪器中的滤光片、窗口、透镜等部件中，使得这些光学器件在特定波长范围内具有更高的光学透射率，提高了光学仪器的灵敏度和分辨率。
例如，天文望远镜的目镜和物镜上常常使用增透膜，以减少目镜和物镜表面的反射和散射，提高观测的信噪比和清晰度。
其次，光学镀膜技术在光学仪器中的另一个重要应用是镜面反射镀膜的制备。
镜面反射镀膜是利用镀膜技术在物体表面制备一层金属或非金属材料的膜层，用于增加物体表面的反射率。
镜面反射镀膜广泛应用于望远镜、显微镜、光学天线和反射镜等光学仪器的镜面上，使得这些光学仪器具有更高的反射率和更低的散射率，提高了光学仪器的灵敏度和影像质量。
例如，大型望远镜的镜面往往采用多层反射镀膜，使得望远镜具有更高的天体光亮度和更好的清晰度。
除了增透膜和镜面反射镀膜，光学镀膜技术还广泛用于光学仪器中的其他方面，如增色膜的制备和光学薄膜的制备。
增色膜是一种在物体表面制备一层彩色薄膜的技术，它可以使物体表面呈现出丰富多彩的色彩，提高光学仪器的外观美观性和色彩辨析能力。
光学薄膜是一种在光学器件表面制备一层特定厚度的薄膜的技术，它可以调节光学器件的透射和反射性能，实现光学仪器的光谱选择性传输和光学滤波功能。
光学镀膜工艺技术
光学镀膜工艺技术光学镀膜工艺技术，是一种通过在光学器件的表面镀上一层特定材料来改变其光学性能的工艺。
这种工艺可以提高光学器件的透射率、反射率和抗反射性能，从而提高光学器件的工作效果。
光学镀膜工艺技术主要分为三个步骤：基底表面处理、膜材料选择和膜层厚度控制。
首先，基底表面处理是保证光学器件表面光滑和清洁的关键步骤。
基底表面的灰尘、油污等杂质会影响后续膜层的附着性能，因此需要使用超声波清洗或离子清洗等方法，以确保基底表面的纯净度。
其次，膜材料的选择是根据需要改变光学器件性能的需求来进行的。
根据不同的应用领域和要求，可以选择金属、非金属或复合材料等材料进行镀膜。
金属膜可以提高反射率，非金属膜可以提高透射率，而复合材料膜则可以在一定程度上兼顾二者的性能。
根据光学器件的具体要求，选择合适的膜材料是保证工艺成功的重要因素。
最后，膜层厚度的控制是光学镀膜工艺技术的关键环节。
膜层厚度的控制直接影响光学器件的光学性能。
过厚的膜层会导致透射率下降，过薄的膜层则会导致反射率下降。
因此，在实际操作中，需要根据膜材料的光学参数和要求，控制膜层的厚度。
光学镀膜工艺技术在现代光学器件的制造中起着重要作用。
通过合适的膜层设计和加工工艺，可以显著提高光学器件的性能。
例如，透射率的提高可以增加光学器件的工作效率，反射率的改善可以提高光学器件的接收能力，而抗反射性能的提升可以消除光学器件表面的反射光，提高其对光的传输效果。
然而，光学镀膜工艺技术也存在一些挑战和限制。
首先，膜层的附着性和稳定性是工艺成功的关键因素。
当膜层与基底表面的粘附力不足时，容易出现脱层和剥离的情况，降低光学器件的使用寿命。
其次，膜层的制备过程需要考虑到温度、湿度等环境因素的影响，以确保膜层能够良好地附着并保持稳定的光学性能。
总而言之，光学镀膜工艺技术是一种应用广泛的工艺技术，可以显著改善光学器件的光学性能。
通过合适的基底表面处理、膜材料选择和膜层厚度控制，可以实现不同需求的光学器件制备。
光学镀膜制备工艺技术要求
光学镀膜制备工艺技术要求光学镀膜制备工艺技术要求光学镀膜是一种将一层或多层薄膜沉积到光学元件表面上，以达到改善光学性能的目的的工艺。
在光学领域中，光学镀膜广泛应用于抗反射、增透、反射、分束等方面。
为了保证光学镀膜的质量和性能，必须满足一定的工艺技术要求。
首先，光学镀膜制备的工艺参数需要精确控制。
包括镀膜材料的种类和纯度、镀膜的厚度和层数、沉积速率、反应气体的流量等。
这些参数的控制需要依赖于先进的光学膜材料和仪器设备，同时要结合实际的需求来确定。
只有准确控制这些参数，才能得到具有良好性能的光学膜膜。
其次，制备过程中需要进行详细的质量检验。
在光学镀膜制备过程中，应对膜材料、基片、镀膜层的光学特性进行仔细检测，以确保膜层的纯度、透明度和均匀性。
常用的检测方法包括透射光谱、反射光谱、显微镜观察和表面形貌测量等。
这些检测手段能够帮助工程技术人员全面分析和评估光学膜的质量，从而保证最终产品的性能要求。
第三，光学镀膜制备工艺还需要严格的操作规范。
镀膜过程中工作人员必须熟练掌握设备的使用和操作流程，严格按照操作规范进行操作。
包括材料的准备、设备的调试、基片的加载和卸载等各个操作环节。
只有确保操作规范，把握好每个步骤的处理，才能有效降低操作失误和损坏的风险，保证生产效率和产品质量。
最后，光学镀膜制备工艺还需要注重环境保护。
镀膜过程中会产生一些废弃物和废气，这些废弃物和废气中可能含有对环境有害的物质。
因此，需要在制备工艺中加入环境保护的措施，如合理控制废气排放、采用低污染材料、做好废物的处理等。
通过这些措施，可以有效减少对环境的污染和影响。
光学镀膜制备工艺技术要求的严格实施，对于保证产品的性能和质量具有重要意义。
只有通过科学合理的工艺参数、精细准确的质量检验、规范严谨的操作程序和环境友好的制备过程，才能制备出具有高光学性能的光学膜产品。
这对于满足各种光学装置的需求、提升光学器件的性能，起到重要的推动作用。
光学镀膜技术
光学镀膜技术
光学镀膜技术是一项技术，它是通过将一种可以吸收或反射光的物质涂布在某种基底上，从而使该基底的表面形成一种特殊的镀膜，从而达到某种特定的目的。
这种技术可以应用于大量的领域，最常见的是用于制造像镜子一样的反射表面，也可以用于制造类似太阳能电池组件和光学元件的紫外「遮蔽层」。
光学镀膜技术的具体形式有多种，但基本的原理是一致的。
主要的步骤是先将特定的物质（或者称为镀料）混合在一起，然后将其均匀地涂布在某个基底上，使得这种物质可以粘在基底上，形成一种特殊的镀膜。
有的镀料可以通过金属化过程来形成一层金属镀膜，有的则是一种透明的液体，可以被使用在光学元件上，以防止元件内部被紫外线照射到。
因为光学镀膜技术可以应用于不同的领域，因此也有很多不同的技术方法。
其中一种技术方法是激光沉积法，这种方法可以利用激光将特定的物质沉积到基底上，形成一种光学镀膜，这种技术可以更好地控制镀膜的厚度和性能。
而另一种技术方法是化学沉积法，这种方法可以利用化学反应将特定的物质沉积到基底上，形成一种光学镀膜，而这种技术更加灵活，可以创造出各种各样的镀膜。
光学镀膜技术的应用越来越广泛，它已经成为很多领域的重要技术手段，特别是在反射表面、紫外遮蔽层等方面。
除了这些常见的应用之外，光学镀膜技术也可以应用于一些先进材料和制造技术，如薄膜电容器、高分子膜和薄膜晶体管等，这些在电子行业和生物医学等
领域都有着广泛的应用。
总的来说，光学镀膜技术是一种特殊的技术，它能够精准度地控制表面光学特性，为众多应用场合提供了有效的解决方案，因此，这种技术也被越来越多的人所重视。
光学镀膜工艺指导
汇报人：XX 2024-01-23
目录
• 光学镀膜概述 • 光学镀膜材料与特性 • 光学镀膜工艺流程 • 关键设备与技术参数 • 质量控制与检测标准 • 环境保护、安全操作规范及故障排除
01
光学镀膜概述
定义与分类
定义
光学镀膜是在光学元件表面涂覆 一层或多层薄膜，以改变其光学 性能的技术。
眼镜行业
用于制造太阳镜、偏光镜、护目 镜等，以提高镜片的透光度、减 少反射和眩光。
光通信技术
用于制造光纤通信系统中的光学 元件，如光纤连接器、光分路器 等，以提高光信号的传输效率和 稳定性。
02
光学镀膜材料与特性
常用光学镀膜材料
1 2 3
氧化物材料
如二氧化硅（SiO2）、二氧化钛（TiO2）等， 具有高透过率、低吸收等特性，常用于减反射膜 和增透膜。
03
光学镀膜工艺流程
前处理与准备工作
基片清洗
确保基片表面无尘埃、油污和其他杂 质，常采用超声波清洗、化学清洗等 方法。
基片干燥
环境准备
确保镀膜室内环境洁净，控制温度、 湿度等参数，为镀膜过程提供稳定的 环境条件。
将清洗后的基片进行干燥处理，防止 水分对镀膜过程的影响。
镀膜方法介绍
物理气相沉积（PVD）
01
利用物理方法将材料从源蒸发或溅射到基片表面，形成薄膜。
常见的方法有真空蒸发、溅射镀膜等。
化学气相沉积（CVD）
02
通过化学反应在基片表面生成薄膜。这种方法可以在较低的温
度下进行，并且生成的薄膜具有优良的性能。
溶胶-凝胶法
03
将溶胶涂抹在基片表面，通过热处理等方法使其凝胶化，形成
薄膜。这种方法适用于制备多组分氧化物薄膜等。
光学镀膜技术与检测
S0595 090506-1200 UVIR+AR6L on customer BK7 new O2 Ar
100 95 90 85 80 75 70 65 60 T% 55 50 45 40 35 30 25 20 15 10 5 0 300 330 360 390 420
测量结束后，关闭软件、分光光度计电 源
上机培训价格2000元/人（暂定）
* :二次电子的影响：使膜层结构粗糙，散射增加
离子辅助成膜工艺示意图源自离子源辅助沉积（IAD）的作用
填充密度提高：折射率提高 波长漂移减少； 增强了膜层的结合力、耐摩擦能力、机 械强度、提高表面光洁度； 减少膜层的吸收和散射；
RF离子源
RF离子源系统组成
射频离子源 中和器 离子源电源系统 工作气体导入系统和流量控制仪
真空腔室内部图
真空系统
干泵+罗茨泵 冷凝泵 抽气至8.0E-4Pa 大约6分钟
电子束加热蒸发
原理：在高真空的环境下，由电子枪发 出的高能电子，会聚在膜料上，轰击膜 料表面使动能变为热能,对其加温，使其 熔化或升华
270° e型电子枪结构
优点： 能够有效的抑制二 次电子* 可方便的调节焦斑 的位置和大小 采用内藏式阴极， 避免了灯丝污染
01h点灯60分钟后环境温度稳定波长500nm监控系统简单易安装成本低控制系统复杂成本高没有误差补偿机理膜厚误差有自动补偿机理不能实时反映膜厚的光学特性能反映反射率透射率等光学信息对超多层特别是较厚膜层困难易于监控多层膜工艺影响因素温度
光学镀膜技术与检测
邢政
目录
光学薄膜及其应用 光学镀膜机配置 工艺影响因素 光谱测量
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高反膜
能将绝大多数 入射光能量反 射回去，在激 光器的制造和 激光应用中都 是必不可少的。
能量分光膜
可将入射光能 量的一部分透 射, 另一部分反 射分成两束光, 最常用的是T: R=50: 50 的分 光膜。
光谱分光膜
可将入射光中 一部分光谱的 能量透射, 另一 部分光谱的能 量反射。
带通滤光片
真空腔室内部图
真空系统
干泵+罗茨泵 冷凝泵 抽气至8.0E-4Pa 大约6分钟
电子束加热蒸发
原理：在高真空的环境下，由电子枪发 出的高能电子，会聚在膜料上，轰击膜 料表面使动能变为热能,对其加温，使其 熔化或升华
270° e型电子枪结构
优点： 能够有效的抑制二 次电子* 可方便的调节焦斑 的位置和大小 采用内藏式阴极， 避免了灯丝污染
工艺影响因素
沉积速率：视不同材料而定，蒸发速率 较低时，吸附原子在其平均停留时间内 能充分进行表面迁移，凝结只能在大的 凝结体上进行，反蒸发严重，所以膜层 结构松散。反之，淀积速率提高，结构 较紧密，但由于缺陷增多而使内应力增 大。
工艺影响因素
真空度：减少气体分子间碰撞，造成能 量损失；抑制蒸发分子与残余气体之间 的反应。
光学镀膜技术与检测
邢政
目录
光学薄膜及其应用 光学镀膜机配置 工艺影响因素 光谱测量
光学薄膜及其应用
光学薄膜是指在元件上镀上一层或多层 薄膜来改变光的传播特性，其基本上是 借由干涉作用来实现效果的。
光学薄膜及其应用
减反膜 高反膜 能量分光膜 光谱分光膜 带通滤光片
减反膜
可以减少元件 表面的反射率 而提高其透射 率。日常生活 中的眼镜普遍 都镀有减反射 膜。
工艺流程
膜系设计 基片清洗 工装夹具准备
真空室清洁、装夹具、基片、膜料 抽真空 材料预熔 离子清洗、基片加温 镀膜 光谱测量
镀膜材料
TiO2
SiO2
ZnS
MgF2
Ta2O5
Al2O3
ZrO2
注意事项
开机前注意水电气是否正常 光控系统灯源开启后需稳定60min 镀膜前检查光控片、晶控片寿命 开真空室对内部进行操作时，如加料、 清洁，需盖上离子源的防护板，防止离 子源栅网损坏
注意事项
开机后需等待光度计各部件初始化，然 后进行相关操作 测量时不要使仪器产生振动，影响测量 精度 测量过程中不要打开样品仓 在更换反射、透射附件时必须关闭总电 源并拔掉电源线
操作规程
打开总电源，等待设备初始化 打开“PerkinElmer UV WinLab”软件 新建“Methods”，设置测量范围 点击“Autozero”进行校准 放入待测样品，点击“start”，进行测量
只允许一个谱 段的光透过, 其余谱段的光 不允许通过， 例如在数码投 影仪上的应用
S0595 090506-1200 UVIR+AR6L on customer BK7 new O2 Ar
100 95 90 85 80 75 70 65 60 T% 55 50 45 40 35 30 25 20 15 10 5 0 300 330 360 390 420
石英晶体监控系统（XTC-3）
利用石英晶体振荡频率 的变化进行测量，可监 控蒸发速率 6片旋转式水晶膜厚传 感器
XTC-3晶控性能
膜厚精度：0.5% 膜厚表示分辨率：0.1nm 速率表示分辨率：0.01nm/s
光Байду номын сангаас膜厚监控系统
光学膜厚监控系统
根据薄膜的反 射光强度随着 薄膜的厚度而 变化进行监控。
* :二次电子的影响：使膜层结构粗糙，散射增加
离子辅助成膜工艺示意图
离子源辅助沉积（IAD）的作用
填充密度提高：折射率提高 波长漂移减少； 增强了膜层的结合力、耐摩擦能力、机 械强度、提高表面光洁度； 减少膜层的吸收和散射；
RF离子源
RF离子源系统组成
射频离子源 中和器 离子源电源系统 工作气体导入系统和流量控制仪
多点反射式监控片
光学膜厚监控系统性能
波长范围：350～1100nm 波长精度：<±1nm 波长重复性：±0.25 nm 稳定性：<±0.1%/h（点灯60分钟后,环境 温度稳定，波长500nm）
光控与晶控比较
信号呈线性变化，易于监控沉积速率 信号呈正弦变化，难于监控沉积速率
监控系统简单，易安装，成本低
操作规程
开机前检查水电气处于正常状态 打开总电源 打开UPS电源 运行电脑主程序，进入“Pump down/Auto stop”界面，设定开机时间，并 点击“pump down”，自动进行冷泵再生过程 清理真空室，补充镀膜材料，放入样品 关闭真空腔门，运行“CHAMBER EXHAUST”抽真空 打开ACS软件，在“Melting”中选择熔源程序，在“Process”中选择蒸发程 序，确认无误后点击“Start”，自动运行熔料、蒸镀过程 镀膜结束后，运行“CHAMBER VENT”，向真空室充气
控制系统复杂，成本高
没有误差补偿机理
膜厚误差有自动补偿机理
不能实时反映膜厚的光学特性
能反映反射率、透射率等光学信息
对超多层，特别是较厚膜层困难
易于监控多层膜
工艺影响因素
温度：基板温度越高，蒸汽分子越容易 在基板表面迁移，增大膜层的聚集密 度；吸附在基板表面的残余气体分子减 少，从而增加了淀积分子在基板上的附 着力。
测量结束后，关闭软件、分光光度计电 源
上机培训价格2000元/人（暂定）
光谱测量-Lambda750
双光路系统
Lambda750性能
光谱范围：190-3300nm URA通用反射附件：可进行8°-68°反 射测量 偏振光测量：300-2600nm 波长精度：±0.1nm 波长重复性：<0.06nm 样品尺寸：反射12mm×6mm，透射 25mm×10mm
A1
450 480
A2
510
A3
540 570
B1
600 630
B2
660
690 720
Target
750
B3
780
810
C1
840 870
C2
900
C3
930 960
990 1020 1050 1080 1110
Wavelength (nm)
光学镀膜机（OTFC-900）
真空系统 电子枪与离子源 膜厚监控系统
离子源图片
RF离子源性能
栅网尺寸：10cm 最大射频功率：600W（13.56MHz） 束电圧：100V～1500V 最大束电流：500mA 离子流密度分布：±10%以内 加速电压：100V～1000V 最大中和电流：1500mA
膜厚监控系统
几何厚度：膜层的物理厚度或实际厚度 光学厚度：几何厚度与膜层折射率的乘积