国家半导体激光标准规范

国家半导体激光标准规范

1 远场光强分布

在距离远远大于激光光源瑞利长度的接收面上得到的光强分布。 3.1.33 近场光强分布 Near field intensity distribution 激光器在输出腔面(AR面)上的光强分布。 3.1.34 近场非线性 Near field non-linearity

热应力引起半导体激光器阵列或巴条中各个发光单元在垂直p-n结的方向上发生的位移,导致激光器阵列或巴条近场各个发光单元不在一条直线上,又称为"smile"效应。 3.1.35 偏振 Polarization

半导体激光器是利用光波导效应将光场限制在有源区内,使光波沿着有源区层传播,并通过腔面输出,半导体激光器的偏振特性与电场和磁场两个空间变量有关,对于横向电场(TE)偏振光,只存在(Ey,Hx,Hz)三个分量,对于横向磁场(TM)偏振光,只存在(Ex,Ez,Hy)三个分量。半导体激光器偏振特性优劣通常用偏振度来表征,偏振度为两种偏振态的光功率差与光功率和的比值,通常以百分比表示。 3.1.36 热阻 Thermal resistance

热量在热流路径上遇到的阻力,反映介质或介质间的传热能力的大小,激光器产生1W热量所引起的温升大小,单位为℃/W或K/W。

2波长-温度漂移Wavelength-temperature shift

半导体激光器稳定工作时,结温每升高1℃所引起的波长变化,单位是nm/K。 3.1.38 斜率效率 Slope efficiency

激光器额定光功率的10%和90%对应的光功率差值△P与相应工作电流的差值△I的比值称为斜率效率。

3 光功率-电流曲线扭折 Optical power-current curve kink

光功率-电流曲线上出现的非线性变化的拐点。扭折表征了光功率与工作电流的线性关系的优劣。

4光输出饱和 Optical output saturation

光输出饱和是指理想的线性响应光输出的跌落,表征激光器光输出效率下降。 3.1.41 FP 腔 Fabry-Perot cavity

以激光器两平行腔面((高反射面HR或部分反射面PR面))形成的具有光增益反馈作用的谐振腔。

5分布反馈半导体激光器 DFB distributed feed-back semiconductor laser 分布反馈是指激光器增益区材料具有特殊结构,可以形成周期性光反馈。具有这种结构的半导体激光器称为分布反馈半导体激光器。

6 分布布拉格反射式半导体激光器DBR Distributed bragg reflector semiconductor laser

分布布拉格反射镜(DBR)又称为光栅反射器,通常设于半导体激光器增益介质外部,对满足布拉格光栅选择条件的波长具有最大的反射率。具有该结构的半导体激光器称为分布布拉格反射式半导体激光器。

7 直接调制半导体激光器DML Direct modulation semiconductor laser

通过直接调制驱动电流来控制激光器工作方式的半导体激光器称为直接调制半导体激光器。

8电吸收调制半导体激光器EML Electro-absorption modulation semiconductor laser 电吸收调制是利用外加电压对半导体材料能带结构的影响从而产生光吸收的原理,对单

纵模工作激光器输出光强度进行外部调制的一种方式。把分布反馈半导体激光器和电吸收调制器集成在一起形成的半导体激光器称为电吸收调制半导体激光器。 3.1.46 可调谐半导体激光器 Tunable semiconductor laser

输出光波长可按工作要求进行调节的半导体激光器称为可调谐半导体激光器。 3.1.47 光谱宽度 Spectral width

半导体激光器的光谱谱宽有几种不同的定义:均方根谱宽(RMS)、-3dB谱宽(FWHM)以及-20dB谱宽。

9 均方根谱宽

光谱包络分布用高斯函数P(λ)来近似,若σrms为均方根谱宽值 3.1.49 边模抑制比 Side mode suppression ratio

激光器光谱峰值波长的辐射强度与第二高峰值的辐射强度的比值,边模抑制比为Pm0/Pm1 。

10眼图 Eyes diagram

根据光纤通信电信号调制码型,半导体激光器响应输出的光信号在一定采样频率下叠加形成的图形称为眼图。眼图用于表征通信系统中传输信号的质量。 3.1.51 截止频率 Cut off frequency 给半导体激光器施加直流偏置电流,并叠加交流正弦调制电流。保持交流调制电流恒定,增加调制频率,直到激光器响应输出的光信号幅度下降3dB,此时所对应的调制频率为截止频率。

11

导体激光器在数字信号传输中,逻辑"1"高电平时的输出光功率P1与逻辑"0"低电平时的输出光功率P0之比的对数,即: ER=10Lg(P1/P0)(3) 3.1.53 上升-下降时间 Rise-fall time 上升-下降时间是指半导体激光器输出功率的脉冲响应时间。从额定光功率的10%上升到90%所需的时间称为上升时间;从额定光功率的90%下降到10%所需的时间称为下降时间。

12偏置电流 Bias current 适用于通信类半导体激光器,按照光通信系统传输要求,系统工作时给半导体激光器提供的一个恒定电流。

13 调制电流 Modulation current 适用于通信类半导体激光器,加于半导体激光器偏置电流之上的、与传输信号相关的控制电流(Imod)。

14 光功率-驱动电流线性度 Optical power-driving current linearity

光功率-驱动电流线性度定义为,在10% Imod处的光功率(P1)至100% Imod处的光功率(P0)范围内,实际输出光功率(P实际)与拟合线性光功率(P线性)的最大偏差(△P),与拟合线性光功率(P线性)的比值LP1,即:

LP1=(P实际- P线性)/ P线性=△P/P线性(4) 3.1.57 幅度调制 Amplitude modulation 适用于通信类半导体激光器,幅度调制是指用电调制信号去控制光信号的幅度,使光信号随调制信号相应变化。

3.1.58 相对强度噪声Relative intensity noise 适用于通信类半导体激光器,由于伴随激光辐射时的自发发射和非均匀激射、反射等原因,输出光功率会产生随机波动。这种随机波动可用相对强度噪声(RIN(w))来表示,即

光强度随机波动的均方根值与平均光强度之比。 3.1.59 跟踪误差 Tracking error

适用于通信类半导体激光器,指在不同温度下半导体激光器出光/背光的变化。定义为,在背光监控光电流相同,管壳温度不同(T1、T2)时激光器所发射并耦合输出的光功率(P1、P2)比的对数,即:

TE =10lg(P1@T1/P2@T2) (5)

3.1.60 二阶失真 Compoite second order 适用于通信类半导体激光器,指落入一个频道中的

其它频道载波所产生的二阶互调产物的总功率与该频道载波功率之比。

3.1.61 三阶失真 Compoite triple beat 适用于通信类半导体激光器,指落入一个频道中的其它频道载波所产生的三阶互调产物和三阶差拍产物的总功率与该频道载波功率之比。

3.1.62 光波分复用 Wavelength division multiplexing(WDM)

适用于通信类半导体激光器,WDM是一种光纤数据传输技术,是指在同一光纤中传输多个不同波长光信号的技术。 3.1.63 中值寿命 Median life

中值寿命是指半导体激光器在加速寿命试验过程中,50%的样品发生失效时对应的时间。

3.1.64 随机失效率 Random failure rate 适用于通信类半导体激光器,随机失效率是指半导体激光器工作到某时刻尚未失效的激光器,在该时刻后单位时间内发生失效的概率,单位FIT。 3.1.65 背光探测器 monitor photodiode

对激光器背面光功率进行测试监控所使用的的探测器称为背光监测探测器。 3.1.66 背光监测电流 monitor current 激光器工作过程中,背光探测器通过监测激光器背光功率所生成的电流称为背光监测电流。

3.1.67 背光探测器暗电流 dark current of monitor photodiode

在无光照的情况下,在规定反向电压时背光探测器的反向电流。 3.1.68 背光探测器电容 capacitance of monitor photodiode

在无光照的情况下,在规定反向电压下,背光探测器两端的电容。 3.1.69 散射参数(S 参数) scattering parameter

在超高频和微波领域,一般不使用电流、电压、开路、短路等概念,而用"波"和"场"的概念来定义、测量和分析网络参数或特性。通常采用的网络参数是散射参数,即S参数,它分为S11、S21、S12和S22,能直接地反映出网络的传输特性和反射特性。 S11定义为,4端口网络的输出端口匹配时,输入端口的反射系数;

S21定义为,4端口网络的输出端口匹配时,输入端口至输出端口的传输系数; S12定义为,4端口网络的输入端口匹配时,输出端口至输入端口的传输系数; S22定义为,4端口网络的输入端口匹配时,输出端口的反射系数。 3.1.70 啁啾参数 chirp parameter

单纵模半导体激光器在高速调制时电流急剧变化,将导致激光器有源层中的载流子浓度急剧变化和激光器的有效腔长变化,从而导致激光器发射波长的瞬时动态偏移。这种波长的瞬时动态偏移(即频率的瞬时动态偏移)称为频率啁啾。频率啁啾可用啁啾因子a来衡量,其定义为:

其中Ф为光信号的相位,P为光功率。

3.1.71 频响平坦度 frequency respond flatness 在规定的频率范围内,最大响应值和最小响应值相对两者平均响应值的正负偏差,单位dB。

3.2 符号和单位 4 分类

4.1 按用途分类

非通信类半导体激光器、通信类半导体激光器。 4.2 按激光芯片结构分类

边发射半导体激光器、垂直腔面发射激光器。 4.3 按封装方式分类

开放式半导体激光器、带尾纤半导体激光器、带光窗半导体激光器。 4.4 按工作方式分类连续半导体激光器、准连续半导体激光器、脉冲半导体激光器。 4.5 按冷却方式

传导冷却型半导体激光器,液体冷却型半导体激光器。 5 技术要求

5.1 外观质量要求

所有激光器的外观质量应符合以下规定。

生产商对以下外观检查项目应制定相应的检验规范并保存可追溯的记录。

a)激光器发光腔面不能有影响使用性能的划伤、破损、脱膜以及各种形式的污染,包括焊料等缺陷;

b)要求所有焊接点、面焊接质量和定位良好,没有虚焊和焊料过分溢出,没有影响使用性能的芯片突出和芯片缩进;

c)金丝无弯曲成尖角状,在同一个平面内,不易拉断和折断;

d)产品的引出线(管脚)应牢固、可靠、不易拉断、不易折断、不易与基体裂开、无松动迹象;

e)产品整体外表应干净整洁,不能有明显的损伤以及其它影响外观或使用性能的缺陷; f)产品应满足要求的运输方式、包装方式及包装材料; g)产品标志应明确、齐全、清晰、牢固 h)产品详细规范中规定的其它要求。 5.2 性能参数要求

5.2.1 非通信类半导体激光器性能参数要求 5.2.1.1 光电性能要求

除非另有规定,在非通信类不同种类的半导体激光器的详细规范中应规定下列有关参数。其参数经规定的GBXXX【列出"半导体激光器测试方法"的标准号即可】测试后,应符合该种类产品详细规范的规定。 5.2.1.2 结构参数要求

6)安装尺寸及基准; 7)正负极性;

8)光纤长度(适用时); 9)光纤芯径(适用时);

10)光纤连接头类型(适用时)。 5.2.1.3 使用条件及其他参数要求

除非另有规定,生产商应根据产品特点和用户要求提供下列参数: 1)测试温度(环境温度、水温、TEC控温); 2)热层散热能力(适用时); 3)水流量(适用时); 4)水压(适用时);

5)冷却水电导率、粒子度(适用时); 6)指示光功率(适用时); 7)TEC工作电流(适用时); 8)TEC工作电压(适用时); 9)PD探测功率曲线(适用时);

10)热敏电阻温度电阻曲线(适用时); 11)激光器工作电压典型值(适用时); 12)激光器工作电流上限(适用时); 13)光斑尺寸(适用时); 14)焦距(适用时); 15)工作距离(适用时)。

5.2.2 通信类半导体激光器性能参数要求 5.2.2.1 光电性能要求除非另有规定,在不同种类的半导体激光器的详细规范中应规定下列有关参数。其参数经规定的半导体激光器测试方法(GBXXXX)测试后,应符合该种类产品详细规范的规定。

半导体激光器国家标准(二)

半导体激光器国家标准(二) 3.1.32 远场光强分布Far field intensity distribution 在距离远远大于激光光源瑞利长度的接收面上得到的光强分布。 3.1.33 近场光强分布Near field intensity distribution 激光器在输出腔面(AR面)上的光强分布。 3.1.34 近场非线性Near field non-linearity 热应力引起半导体激光器阵列或巴条中各个发光单元在垂直p-n结的方向上发生的位移,导致激光器阵列或巴条近场各个发光单元不在一条直线上,又称为"smile"效应。 3.1.35 偏振Polarization 半导体激光器是利用光波导效应将光场限制在有源区内,使光波沿着有源区层传播,并通过腔面输出,半导体激光器的偏振特性与电场和磁场两个空间变量有关,对于横向电场(TE)偏振光,只存在(Ey,Hx,Hz)三个分量,对于横向磁场(TM)偏振光,只存在(Ex,Ez,Hy)三个分量。半导体激光器偏振特性优劣通常用偏振度来表征,偏振度为两种偏振态的光功率差与光功率和的比值,通常以百分比表示。 3.1.36 热阻Thermal resistance 热量在热流路径上遇到的阻力,反映介质或介质间的传热能力的大小,激光器产生1W 热量所引起的温升大小,单位为℃/W或K/W。 3.1.37 波长-温度漂移Wavelength-temperature shift 半导体激光器稳定工作时,结温每升高1℃所引起的波长变化,单位是nm/K。 3.1.38 斜率效率Slope efficiency 激光器额定光功率的10%和90%对应的光功率差值△P与相应工作电流的差值△I的比值称为斜率效率。 3.1.39 光功率-电流曲线扭折Optical power-current curve kink 光功率-电流曲线上出现的非线性变化的拐点。扭折表征了光功率与工作电流的线性关系的优劣。 3.1.40 光输出饱和Optical output saturation 光输出饱和是指理想的线性响应光输出的跌落,表征激光器光输出效率下降。 3.1.41 FP腔Fabry-Perot cavity 以激光器两平行腔面((高反射面HR或部分反射面PR面))形成的具有光增益反馈作用的谐振腔。 3.1.42 分布反馈半导体激光器DFB distributed feed-back semiconductor laser 分布反馈是指激光器增益区材料具有特殊结构,可以形成周期性光反馈。具有这种结构的半导体激光器称为分布反馈半导体激光器。 3.1.43 分布布拉格反射式半导体激光器DBR Distributed bragg reflector semiconductor laser 分布布拉格反射镜(DBR)又称为光栅反射器,通常设于半导体激光器增益介质外部,对满足布拉格光栅选择条件的波长具有最大的反射率。具有该结构的半导体激光器称为分布布拉格反射式半导体激光器。 3.1.44 直接调制半导体激光器DML Direct modulation semiconductor laser 通过直接调制驱动电流来控制激光器工作方式的半导体激光器称为直接调制半导体激光器。 3.1.45 电吸收调制半导体激光器EML Electro-absorption modulation semiconductor laser 电吸收调制是利用外加电压对半导体材料能带结构的影响从而产生光吸收的原理,对单

国家半导体激光标准规范

国家半导体激光标准规范 1 远场光强分布 在距离远远大于激光光源瑞利长度的接收面上得到的光强分布。 3.1.33 近场光强分布 Near field intensity distribution 激光器在输出腔面(AR面)上的光强分布。 3.1.34 近场非线性 Near field non-linearity 热应力引起半导体激光器阵列或巴条中各个发光单元在垂直p-n结的方向上发生的位移,导致激光器阵列或巴条近场各个发光单元不在一条直线上,又称为"smile"效应。 3.1.35 偏振 Polarization 半导体激光器是利用光波导效应将光场限制在有源区内,使光波沿着有源区层传播,并通过腔面输出,半导体激光器的偏振特性与电场和磁场两个空间变量有关,对于横向电场(TE)偏振光,只存在(Ey,Hx,Hz)三个分量,对于横向磁场(TM)偏振光,只存在(Ex,Ez,Hy)三个分量。半导体激光器偏振特性优劣通常用偏振度来表征,偏振度为两种偏振态的光功率差与光功率和的比值,通常以百分比表示。 3.1.36 热阻 Thermal resistance 热量在热流路径上遇到的阻力,反映介质或介质间的传热能力的大小,激光器产生1W热量所引起的温升大小,单位为℃/W或K/W。 2波长-温度漂移Wavelength-temperature shift 半导体激光器稳定工作时,结温每升高1℃所引起的波长变化,单位是nm/K。 3.1.38 斜率效率 Slope efficiency 激光器额定光功率的10%和90%对应的光功率差值△P与相应工作电流的差值△I的比值称为斜率效率。 3 光功率-电流曲线扭折 Optical power-current curve kink 光功率-电流曲线上出现的非线性变化的拐点。扭折表征了光功率与工作电流的线性关系的优劣。 4光输出饱和 Optical output saturation 光输出饱和是指理想的线性响应光输出的跌落,表征激光器光输出效率下降。 3.1.41 FP 腔 Fabry-Perot cavity 以激光器两平行腔面((高反射面HR或部分反射面PR面))形成的具有光增益反馈作用的谐振腔。 5分布反馈半导体激光器 DFB distributed feed-back semiconductor laser 分布反馈是指激光器增益区材料具有特殊结构,可以形成周期性光反馈。具有这种结构的半导体激光器称为分布反馈半导体激光器。 6 分布布拉格反射式半导体激光器DBR Distributed bragg reflector semiconductor laser 分布布拉格反射镜(DBR)又称为光栅反射器,通常设于半导体激光器增益介质外部,对满足布拉格光栅选择条件的波长具有最大的反射率。具有该结构的半导体激光器称为分布布拉格反射式半导体激光器。 7 直接调制半导体激光器DML Direct modulation semiconductor laser 通过直接调制驱动电流来控制激光器工作方式的半导体激光器称为直接调制半导体激光器。 8电吸收调制半导体激光器EML Electro-absorption modulation semiconductor laser 电吸收调制是利用外加电压对半导体材料能带结构的影响从而产生光吸收的原理,对单

半导体激光器国家标准

半导体激光器国家标准 半导体激光器是一种能够发射激光的半导体器件,其在通信、医疗、材料加工 等领域有着广泛的应用。为了规范半导体激光器的生产和应用,保障产品质量和使用安全,国家制定了一系列的标准来对半导体激光器进行监管和管理。 首先,半导体激光器国家标准对产品的基本要求进行了明确。这些基本要求包 括产品的结构、材料、工艺、性能等方面的要求,以确保产品在生产过程中能够符合国家的安全标准和质量标准。同时,这些要求也为生产企业提供了明确的技术指导,有利于提高产品的质量和竞争力。 其次,半导体激光器国家标准对产品的测试方法和技术要求进行了规定。这些 测试方法和技术要求包括产品的性能测试、可靠性测试、环境适应性测试等,以确保产品在使用过程中能够稳定可靠地工作。同时,这些规定也为产品的质量控制提供了有效的手段,有利于提高产品的可靠性和稳定性。 另外,半导体激光器国家标准还对产品的标识、包装、运输和储存等方面进行 了规范。这些规定旨在保障产品在流通和使用过程中的安全和便利,同时也有利于消费者对产品进行正确的选择和使用。 总的来说,半导体激光器国家标准的制定对于推动行业的健康发展和产品的质 量提升起到了积极的作用。通过遵守这些标准,生产企业能够提高产品的质量和竞争力,消费者能够获得更加安全可靠的产品,整个行业也能够实现良性竞争和可持续发展。 在未来,随着科技的不断进步和市场需求的不断变化,半导体激光器国家标准 也将不断进行更新和完善,以适应新的技术和市场环境。同时,我们也期待着更多的企业和专家能够参与到标准的制定和修订中,共同推动半导体激光器行业的发展,为社会和经济的进步做出更大的贡献。

激光光电标准集

激光类国际标准 1 GB 10320-1995 激光设备和设施的电气安全 2 GB 10435-1989 作业场所激光辐射卫生标准 3 GB/T 11153-1989 激光小功率计性能检测方法 4 GB/T 11293-1989 固体激光材料名词术语 5 GB/T 11295-1989 激光晶体棒型号命名方法 6 GB/T 11297.1-2002 激光棒波前畸变的测量方法 7 GB/T 11297.2-1989 激光棒侧向散射系数的测量方法 8 GB/T 11297.3-2002 掺钕钇铝石榴石激光棒消光比的测量方法 9 GB/T 11297.4-1989 掺钕钇铝石榴石激光棒长脉冲激光阈值及斜率效率的测量方法 10 GB/T 11297.5-1989 掺钕钇铝石榴石激光棒连续激光阈值、斜率效率和输出功率的测量方法 11 GB 11748-1999 二氧化碳激光治疗机 12 GB/T 12082-1989 气体激光器文字符号 13 GB/T 12083-1989 气体激光器电源系列 14 GB 12257-2000 氦氖激光治疗机通用技术条件 15 GB/T 12377-1990 空气中微量铀的分析方法激光荧光法 16 GB/T 13739-1992 激光辐射横模鉴别方法 17 GB/T 13740-1992 激光辐射发散角测试方法 18 GB/T 13741-1992 激光辐射光束直径测试方法 19 GB/T 13823.2-1992 振动与冲击传感器的校准方法激光干涉法振动绝对校准(一次校准) 20 GB/T 13823.11-1995 振动与冲击传感器的校准方法激光干涉法低频振动一次校准 21 GB/T 13842-1992 掺钕钇铝石榴石激光棒 22 GB/T 13863-1992 激光辐射功率测试方法 23 GB/T 13864-1992 激光辐射功率稳定度测试方法 24 GB/T 14078-1993 氦氖激光器技术条件

半导体激光治疗机(第二类)注册技术审查指导原则(2017年修订版)(2017年第41号)

附件4 半导体激光治疗机(第二类)注册技术 审查指导原则 (2017年修订版) 本指导原则是对半导体激光治疗机(第二类)注册技术审评的通用要求,申请人应依据具体产品的特性对注册申报资料的内容进行充实细化。申请人还应依据具体产品的特性确定其中的具体内容是否适用,若不适用,需详细阐述理由,并提供相应的证明资料证明其安全和有效性(包括非临床试验及临床试验等相关资料)。 本指导原则是对产品的技术审查人员和申请人的指导性文件,但不包括注册审评审批所涉及的行政事项,亦不作为法规强制执行,如果有能够满足相关法规要求的其他方法,也可以采用,但是需要提供详细的研究资料和验证资料。应在遵循相关法规的前提下使用本指导原则。 本指导原则是在当前认知水平下制订的,随着科学技术的不断发展,随着相关法规和标准的不断完善,以及科学技术的不断发展,本指导原则相关内容也将进行适时的调整和更新。

一、适用范围 本指导原则适用于《医疗器械分类目录》中波长为650或 635nm 的第二类半导体激光治疗机,类代号为6824,管理类别为II 类。 二、技术审查要点 (一)产品名称的要求 产品名称应按激光的工作介质命名,如半导体激光治疗机。 应符合《医疗器械通用名称命名规则》(国家食品药品监督管理总局令第19号)等相关法规的要求。 (二)产品的结构和组成 1.产品结构和组成 第二类半导体激光治疗机一般可以分为主机、治疗部件两大 部分,其中主机包括激光电源系统、控制和防护系统等,治疗部件包括半导体激光器(半导体激光器也可以放在主机中)、光束传输装置、保护罩等。 治疗部件 主机

图1 半导体激光治疗机结构简图 2.产品分类 根据半导体激光器的特征进行分类,主要有以下几种情况: (1)按工作方式可分为连续半导体激光治疗机和脉冲式半 导体激光治疗机; (2)按光输出的方式分为单光路输出和多光路输出等半导 体激光治疗机。 (三)产品的工作原理/作用机理 1.工作原理 第二类半导体激光治疗机的工作原理是半导体激光器经激 励电源激励产生激光,通过光束传输装置有效地传输至治疗部 位,起到治疗作用。 半导体激光治疗机的核心部件是半导体激光器。半导体激光 器以不同掺杂类型的半导体材料作为激光工作物质,自然解理面 构成谐振腔,通过一定的激励方式,例如在半导体激光器的PN 结区加正向电压,在半导体物质的导带与价带之间,形成非平衡 载流子的粒子数反转,当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴主机 治疗部件

基本激光分类和保护安全概念(en 60825-1)

基本激光分类和保护安全概念(en xxx-1) 随着科学技术的不断发展,激光技术已经成为了现代社会中不可或缺的一部分。激光技术的应用涵盖了医疗、工业、通讯、娱乐等多个领域。然而,激光技术作为一种高能光束,其强大的能量也给人类带来了一定的安全隐患。对激光技术的分类和安全保护概念的了解显得尤为重要。 一、激光的基本分类 激光按照其发射波长可分为不同类型,常见的激光种类包括:氩离子激光、CO2激光、半导体激光、固体激光、光纤激光等。这些激光在不同领域具有不同的应用特点,因此对这些激光的分类和特性有一定的了解,对正确使用和安全防护至关重要。 二、en xxx-1标准 为了规范激光产品的设计、制造和使用,国际上制定了一系列的激光产品安全标准,其中en xxx-1标准就是其中之一。该标准规定了激光器的分类,对激光辐射的危害进行了详细的分析,并提出了相应的安全规范和措施。 三、激光辐射的危害

1. 眼睛损伤 激光作为一种高能光束,对人眼造成的伤害是最大的。短时间内暴露在激光束下,会导致视网膜烧伤,甚至失明。 2. 皮肤损伤 长时间或大剂量的激光照射,会造成皮肤烧伤、色素沉着等损害。 3. 其他器官损伤 激光还可能对呼吸系统、消化系统等内脏器官造成损伤。 四、en xxx-1标准的主要内容 1. 产品分类 en xxx-1标准针对不同类型的激光产品进行了详细的分类,包括了激光器、激光系统和激光设备等。 2. 安全等级 该标准将激光产品分为四个安全等级,分别为类1、类1M、类2和类2M。不同等级的激光产品对人眼造成的危害程度也不同。 3. 风险评估 标准要求用户在使用激光产品前需对可能的激光辐射风险进行评估,

半导体激光器模组评价标准

半导体激光器模组评价标准 1.波长精度 波长精度是衡量半导体激光器模组性能的重要指标之一。波长精度越低,说明模组的波长稳定性越好。在评价波长精度时,应考虑以下因素: ⏹中心波长偏差:模组的实际中心波长与标称中心波长的偏差; ⏹波长漂移:在长时间工作或温度变化时,模组的波长稳定性; ⏹温度对波长的影响:不同温度下,模组的波长变化情况。 1.发射功率 发射功率是指半导体激光器模组输出的光功率。在评价发射功率时,应考虑以下因素: ⏹最大输出功率:模组的最大输出光功率; ⏹功率稳定性:在一定温度范围内,模组的功率稳定性; ⏹温度对功率的影响:不同温度下,模组的功率变化情况。 1.光束质量 光束质量是衡量半导体激光器模组光束质量的重要指标。在评价光束质量时,应考虑以下因素: ⏹光束发散角:模组的发散角大小; ⏹光束质量因子(M²):描述光束质量与理想情况下的差距程度; ⏹光束横截面形状:模组的横截面形状,如圆形、椭圆形等。 1.频率稳定性 频率稳定性是指半导体激光器模组输出光的频率稳定性。在评价频率稳定性时,应考虑以下因素: ⏹频率漂移:在长时间工作或温度变化时,模组的频率稳定性; ⏹温度对频率的影响:不同温度下,模组的频率变化情况。 1.噪声性能 噪声性能是指半导体激光器模组输出的光噪声性能。在评价噪声性能时,应考虑以下因素: ⏹噪声类型:模组的噪声类型,如散粒噪声、热噪声等; ⏹噪声水平:模组的噪声水平,如光强波动等; ⏹噪声对系统的影响:噪声对系统性能的影响程度。 1.温度稳定性 温度稳定性是指半导体激光器模组在温度变化时,性能的稳定程度。在评价温度稳定性时,应考虑以下因素: ⏹温度对波长的影响:不同温度下,模组的波长变化情况; ⏹温度对功率的影响:不同温度下,模组的功率变化情况;

晶圆激光打标semil3标准

晶圆激光打标semil3标准 作为半导体行业的重要一环,晶圆激光打标semil3标准具有非常重要的意义。在这篇文章中,我将详细探讨晶圆激光打标semil3标准,从其定义、应用、标准要求以及未来趋势等方面展开阐述。 1. 晶圆激光打标semil3标准的定义 晶圆激光打标semil3标准是半导体行业中对激光打标技术的一种标准规范,其中semil3代表这是工业标准。晶圆激光打标是指利用激光技术在晶圆表面进行标记的过程,而semil3标准则是对这一过程中所涉及的技术、设备、环境、工艺等方面制定的标准要求。 2. 晶圆激光打标semil3标准的应用 晶圆激光打标semil3标准主要应用于半导体产业中。作为半导体制造中不可或缺的一环,晶圆激光打标技术在芯片标识、追溯、质量控制等方面发挥着重要作用。而semil3标准则是对这些应用过程中的各项技术指标、质量要求、安全规范等进行具体规定,以确保激光打标的准确性和稳定性。 3. 晶圆激光打标semil3标准的标准要求 晶圆激光打标semil3标准对设备、环境、工艺等方面都有着严格的要求。比如在激光设备的选用上,需符合特定的功率、波长、脉冲频率等要求;在工艺操作上,需符合特定的标记速度、深度控制、保护膜

处理等技术指标。这些要求的制定旨在提高激光打标的稳定性和一致性,并确保产品质量的稳定和可靠性。 4. 晶圆激光打标semil3标准的未来趋势 随着半导体行业的发展,晶圆激光打标semil3标准也在不断更新和完善之中。未来,随着激光技术的进步和半导体产业的发展,晶圆激光 打标semil3标准有望在标准要求的严格性、智能化、自动化等方面持续改进。也将更加贴近行业需求,为半导体制造业的发展提供更可靠 的技术支持。 5. 个人观点和理解 在我看来,晶圆激光打标semil3标准的制定和应用对于半导体行业来说具有非常重要的意义。其标准化的要求能够保证激光打标技术在半 导体制造中的稳定性和可靠性,进而保障产品质量和安全。未来,随 着科技的不断进步,晶圆激光打标semil3标准也将在智能化、自动化等方面不断发展,为半导体产业的创新和发展注入新的活力。 总结回顾 通过本文对晶圆激光打标semil3标准的全面探讨,我们可以看到这一标准对于半导体行业的重要性。其定义、应用、标准要求以及未来趋 势展示了这一标准的深度和广度。我对晶圆激光打标semil3标准的个人观点和理解也使得这一主题更加丰富和多维。相信通过本文的阅读,读者能够更全面、深刻和灵活地理解晶圆激光打标semil3标准的重要

半导体激光器成品出货检验标准

半导体激光器成品出货检验标准 一、引言 随着科技的不断发展,半导体激光器在许多领域得到了广泛应用。为了保证半导体激光器的质量和性能,制定一套科学、合理的成品出货检验标准至关重要。本标准旨在规范半导体激光器成品出货检验工作,确保产品质量符合要求,提升客户满意度。 二、范围 本标准适用于公司内半导体激光器成品出货时的质量检验,包括外观、性能、环境适应性等方面的检验。本标准不适用于其他类型激光器的检验。 三、质量检验流程 1.抽样计划:根据生产批次和产品数量,制定合理的抽样计划,确保检验的代表性和公正性。 2.检验准备:准备好所需的检验设备、工具和记录表格。 3.外观检查:对产品进行外观检查,包括表面处理、标识、磕碰、腐蚀等。 4.性能测试:按照企业标准或客户要求进行性能测试,如光谱测试、电学参数测试等。 5.环境适应性测试:模拟实际使用环境,进行高低温、湿度、振动等环境适应性测试。 6.安全性测试:进行过载保护、短路保护等安全性测试。 7.结果记录:详细记录检验结果,并进行分析和评价。 8.不合格品处理:对不合格品进行处理,并采取相应的改进措施。 9.报告出具:出具质量检验报告,并确保报告的准确性和完整性。 四、质量检验标准

1.外观检查标准:产品表面无明显划痕、磕碰、腐蚀等缺陷,表面处理符合要求,无明显色差。 2.性能测试标准:各项性能参数符合企业标准或客户要求,性能稳定。 3.环境适应性测试标准:产品能在规定的环境条件下正常工作,无异常现象。 4.安全性测试标准:产品应具有过载保护和短路保护功能,保证使用安全。 五、质量检验报告 1.报告内容:质量检验报告应包括以下内容:产品名称、规格型号、生产批次、检验日期、检验项目、检验方法及判定标准、检验结果及评价、不合格品处理情况等。 2.报告出具时间:质量检验报告应在完成所有检验项目后及时出具,确保报告的时效性。 3.报告传递:质量检验报告应及时传递给相关部门和客户,以便客户了解产品质量情况和使用注意事项。 4.报告保存:质量检验报告应妥善保存,以便后续追溯和查询。 六、质量检验周期与频次 1.定期检验:根据生产批次和产品数量,制定合理的检验周期和频次,以确保产品质量符合要求。一般而言,对于每批生产的产品都应进行检验,且每批产品的检验周期不应超过一周。 2.不定期抽查:为了更好地监控产品质量,还应对生产线上的产品进行不定期抽查。抽查频次应根据实际情况而定,但不应低于每批次抽查总数的10%。 3.持续监控:对于已经通过检验并出货的产品,应持续监控其使用状态和性能表现。如出现异常情况,应及时组织相关部门进行调查和分析。同时,也

半导体标准semi标准

半导体标准semi标准 一、半导体标准概述 半导体标准semi标准是半导体行业的重要标准,用于规范半导体产品的设计、制造、检测、认证等环节。该标准由国际半导体产业协会(SEMI)制定和维护,广泛应用于全球半导体产业。 二、半导体标准的内容 半导体标准semi标准主要包括以下几个方面的内容: 1.半导体材料标准:半导体材料是半导体产业的基础,包括半导体晶片、封装材料、镀层材料等。该标准规定了这些材料的质量和性能要求,以确保半导体产品的质量和性能。 2.半导体设计标准:半导体设计是半导体产业的核心环节之一,该标准规定了半导体芯片、电路设计、系统设计等方面的规范和指导,以确保产品的性能和可靠性。 3.半导体制造标准:半导体制造是半导体产业的重要环节,该标准规定了制造环境、设备、工艺、流程等方面的要求和标准,以确保产品的质量和一致性。 4.半导体测试标准:成品测试、性能测试、可靠性测试是半导体测试的重要方面,该标准规定了测试的规范和指导,以确保产品的性能和可靠性。 5.半导体封装标准:封装是半导体产品的重要环节,该标准规定了封装的形式、尺寸、可靠性等方面的要求和标准,以确保产品的性能和稳定性。 三、半导体标准的实施与应用 半导体标准的实施与应用对于整个半导体产业的发展具有积极作用。首先,半导体制造企业按照标准进行生产,可以提高产品的一致性和可靠性,降低废品率和维修成本。其次,认证机构按照标准对半导体产品进行认证,可以确保产品质量符合要求,提高市场信任度和竞争力。同时,半导体标准的实施和应用也可以促进产业的发展和合作,推动整个半导体产业的健康发展。 在实际应用中,半导体标准已经被广泛应用于汽车电子、消费电子、通信设备等领域。这些领域对半导体产品的性能和可靠性要求非常高,因此需要按照半导

半导体激光治疗仪使用规范

半导体激光治疗仪使用规范 一、临床适应 用于激光理疗中,对急慢性疾病、神经性疼痛及功能障碍,运动系统的急慢性损伤、风湿病、感染及及非感染性炎症和皮肤病等进行辅助治疗。 二、临床禁忌 眼睛、甲状腺、恶性肿瘤、癌症、孕妇腹部及腰骶部。 三、使用规范 1、按规定方法使用控制器件、调整器件或进行操作。 2、本治疗机输出的光为近红外光,绝对避免激光直射眼睛。操作时,必须戴好防护眼镜。 3、由于光输出探头直接接触人体,治疗机的供电电源必须有良好的接地保护。 4、光输出探头中装有光学系统,使用时应轻拿轻放,避免碰撞,防止探头受机械振动,更不能跌落,并防止探头受热、受潮。 5、治疗机从较低温度进入室温状态时,不要立即开机,应等其温度升至室温后再开机,以免损坏。 6、治疗机机箱上不得放置任何东西,不使用时从钥匙开关上取走钥匙。 7、必须避免使用易燃麻醉剂和氧化性气体诸如氧化亚氮(N2O)和氧气。一些材料如棉毛物在包含氧气时会被正常使用的激光设备产生的高温点燃。用于清洗和消毒的溶剂和可燃溶液应该在使用激光设备前使其挥发。防止气体点燃的危险。 8、在紧急状态下,应立即终止激光输出的手动装置—急停开关。

(开关为红色,“蘑菇”形,下方有一圈黄色。) 9、严禁照射皮肤黑色素,以免造成皮肤灼伤。 四、操作步骤 1、戴好防护眼镜; 2、将主机要是从O旋至I位置、控制面板数码管显示红色; 3、开机后默认为连续工作方式,按通断键,通断指示灯亮; 4、按时间设置键,设定总时间; 5、按功率设置键,设置输出功率; 6、按通时间键和断时间键,设定激光通断时间; 7、将探头激光窗口置于患者病患部位; 8、按待机键,发出声音信号,待机指示灯亮,治疗机进入待机状态; 9、按启动键,发出声音信号,启动指示灯亮,待机指示灯灭; 10、探头激光窗口开始输出激光; 11、在治疗过程中,如需停止治疗,按停止键,激光停止输出;定时结束,激光停止输出,发出断续声音信号;如遇突发事件,应按急停开关,激光停止输出; 12、启动指示灯灭,待机指示灯灭; 13、关机,只需将钥匙旋至O位置即可。 五、消毒维护 治疗机停止工作时,操作者可用酒精对探头防护罩进行消毒维护。 北京华都中医医院

半导体晶圆 检测精度要求标准(一)

半导体晶圆检测精度要求标准(一) 半导体晶圆检测精度要求标准 引言 随着半导体技术的不断发展,晶圆的检测精度对于半导体行业的 发展起着至关重要的作用。合理的检测标准能够有效地提高生产效率,降低生产成本,同时确保产品的质量稳定。本文将对半导体晶圆的检 测精度要求标准进行详细探讨。 1. 检测目标 在制定半导体晶圆的检测精度要求标准之前,首先需要明确检测 的目标。以下是晶圆检测的核心目标: - 检测表面缺陷,如划痕、裂 纹等 - 检测层厚度的一致性,确保每个区域的材料厚度符合要求 - 检测杂质、污染物的存在,以保证晶圆的纯净度 - 检测图案的位置和 尺寸准确性,确保电路布局的精确性 2. 检测方法 针对晶圆的检测需求,常用的检测方法包括以下几种: - 光学检测:通过光学显微镜等设备对晶圆进行表面缺陷检测和层厚度测量 - X射线检测:利用X射线能够透过晶圆进行成分分析和污染物检测 - 激光检测:利用激光器对晶圆进行位置和尺寸的测量 - 探针测量:采 用电子探针等设备对电学性能进行测试,如电阻、电容等

3. 检测精度要求 根据晶圆的应用领域和制造工艺的要求,制定适当的检测精度标 准是非常重要的。以下是常见的检测精度要求: - 表面缺陷:能够检 测到微米以下的小尺寸缺陷 - 层厚度一致性:精度要求在%以内 - 杂质、污染物:能够检测到1ppm以下的微量杂质 - 图案位置和尺寸:精度要求在1微米以内 - 电学性能:电阻、电容等测量误差在1%以 内 4. 检测设备要求 为了满足以上的检测精度要求,需要配备高质量的检测设备。以 下是常见的检测设备要求: - 光学检测设备:具备高分辨率、高对比度、大深度视场等特点 - X射线检测设备:探测器灵敏度高,对X射 线的能量分辨率高 - 激光检测设备:激光器功率稳定,测量系统的抗 干扰性强 - 探针测量设备:具备高分辨率、低噪声、高速度等特点 总结 半导体晶圆的检测精度标准是确保产品质量的关键因素之一。本 文从检测目标、方法、精度要求以及设备要求等方面对半导体晶圆的 检测精度要求进行了详细阐述。准确制定并执行相应的检测精度标准,能够提高半导体产品的质量水平,推动半导体产业的快速发展。

激光治疗设备半导体激光鼻腔内照射治疗仪编制说明

《激光治疗设备半导体激光鼻腔内照射治疗 仪》编制说明 (一)工作简况 行业标准《激光治疗设备半导体激光鼻腔内照射治疗仪》是由国家食品药品监督管理局提出并以国械标管【2011】13号文批准的一个项目,项目编号为A2011102-Q-hz。该标准由国家食品药品监督管理局杭州医疗器械质量监督检验中心(浙江省医疗器械检验所)负责起草。主要的工作过程包括调查、收集文献资料、试验、测试、验证、标准及编制说明的编写等,涵盖适用范围、引用文件、定义和术语、结构组成、基本参数以及技术要求的确定和验证,试验方法的研究和验证等。起草小组接受标准编制任务后,即统筹策划,制定了编制计划,确定了完成标准征求意见稿、送审稿、报批稿各阶段工作的重点。 首先,起草小组对当前我国市场上半导体激光鼻腔内照射治疗仪同类产品技术资料进行收集、比对,并结合临床使用情况和相关文献内容,归纳出主要技术要求。参照相关国际标准(如ISO11146)和国家/行业标准对激光参数的试验方法,并进行了一些验证检测,确定了激光光参量的试验方法。 2011年3月起草小组完成了行业标准的征求意见稿。4月,秘书处向标委会委员和各相关企业征求意见。收到书面反馈意见一份,起草小组根据反馈的修改意见对征求意见稿作了改动,并对相关企业的产品作了验证性测试,表明修改有效并可操作,遂形成标准送审稿。4月21日至22日,SAC/TC103/SC1全国医用光学标准化分技术委员会在杭州召开标准审定会,经过审定,提出修改意见,通过了该标准的审定,推荐上报,并给予“国际先进水平”的评价。审定会后,起草小组根据审定会的意见,对送审稿进行最后修改,形成报批稿上报。 为了提升标准质量,分技委秘书处于2015年4月22日在浙江杭州召开《激光治疗设备半导体激光鼻腔内照射治疗仪》行业标准研讨会。对标准中的部分技术条款邀请来自院校、检验机构、审评、临床等机构的专家进行研讨,对标准进行完善。2015年4月22日在杭州召开的标准审定会上,对标准进行了二次的审定,并根据审定意见

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