MASK工艺介绍
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2）制作工艺 设计（CAD）→制作处理（CAM）→激光光绘设备 MASKWRITE 上进行曝光→显影→定影 →切割→磨边→倒角→检查→打包
3）使用和保存 基本上和铬版掩膜版一样，但由于其物理化学结构决定了它易划伤和难保养的特性。
4、 LCD PI 印刷版（LCD PI Mask） PI 印刷版又称凸版，其用途是通过 PI 液的转印来对液晶晶体进行磨擦定向。其版材是
↓
h. 磨边
↓
i. 倒角
↓
j. 检查（针孔、毛刺、精度修补）
↓
k. 打包
6) 使用和清洗、保存 a.:铬版如何保存?
铬版为硬掩膜版, 为防止其变形, 需要竖直存放（我公司的铬版存放架是 PVC 材质）, 为 了保证掩膜版表面的洁净度, 一般要保存在 1,000 级以上的无尘室内, 因为铬版的基材是玻 璃, 如果需要对铬版长期保存, 最好保持在干燥的环境里, 以防止玻璃出现发霉现象, 影响 光学性能. b.铬版使用中应注意什么问题?
铬版划伤一般分为三种，一种是铬层在外力作用有一划伤印，但划伤处并不透光，这种划 伤对曝光并不影响，不需要进行修补；另一种是划伤处的铬层透光，但玻璃基版没有损伤， 这种划伤较严重，需要修补；还有一种严重划伤，严格来说应该叫顶伤，它不仅铬层受到破 坏，而且玻璃基版也受到损坏，如果玻璃基版损坏处仅仅是在线条下的玻璃基版，则可进行 修补，但如果出现非线条处的玻璃基版受到损伤的情况，则无法进行修补。 e.铬版应该使用什么样的清洗方法？
比等，它可以通过菲林笔或红胆进行修补，菲林笔价格低但不耐丙酮等试剂的擦拭；
红胆可耐丙酮擦拭但其修补处会有凸起（一般不影响曝光）且价格较贵。
② 脏污可能是冲片清洗过程留下的水迹或是低胶保护膜留下的残胶，一般可以用乙醇
擦拭去除。
③菲林划伤也是常见问题，产生的原因较多，一般图形内的划伤会影响最终产品的品质，
二、光掩膜版的类别和工作原理 1、光绘聚酯底片（film Mask）
1） 聚酯底片俗称菲林，由基片（聚酯 PET 片材）、感光乳胶层和保护膜构成。
保护膜层（1um）
感光乳胶层（5~8um）
基片（100~185um）
2） 具有有效波长的光波对感光乳胶层曝光时，发生光化学作用，构成具体图形的潜像， 经显影、定影之后，形成稳定卤化银图形。
干--检验。
4）PI 印刷版检验方法及注意事项：
①对 PI 印刷版的检验主要包括对尺寸和网点部分的检验、外观部分的检验。
②可在光台上用白色透射反射光，通过目视并借助 10 倍、100 倍的显微镜进行检查。
③以菲林尺测长度，游标卡尺或千分尺测量厚度。
④注意：PI 印刷版是一种柔性版，同菲林一样易划伤，故要像检菲林一样避免人为的划
液晶是兼有液体的流动性和晶体光学各向异性的液体。液晶的化学物有向列相液晶、近 晶相液晶、胆淄相液晶和板状液晶等。液晶显示器的工作模式有 DS 模式、GH 模式、TN 模式和 STN 模式等。液晶主要应用于液晶显示器中，液晶显示器属于平板显示器的一种。
图形区外或框点划伤一般不会对最终产品造成影响。
2. 铬版掩膜版（Chrome Mask） 1) 铬版掩膜版是对匀胶铬版经过光绘加工后的产品。匀胶铬版由玻璃基片、铬层、氧化铬 层和光刻胶层构成的。
光刻胶层（0.6-1um） 氧化铬层（0.075um）
铬层（0.075um）
玻璃（3-5mm）
2) 当有效波长作用到光刻胶上，发生化学反应，再经过显影之后，曝光部分的光刻胶层会 被分解、脱掉、直接显露出下层的铬层（阻挡光层），形成具体图形。
光掩膜版（PHOTOMASK）知识介绍 (COLIN FONG)
第 6 页 共 11页
①精密度高，底基很稳定；
②柔软性好，易贴版（制版后的肖氏硬度：57-65）；
③对 PI 液转移性能良好；
④凹陷深度峻陡；
⑤高度的抗臭氧能力。
3）制版工艺流程。
图形处理--光绘凸版菲林--选版并背曝光--主曝光--洗版--烘干--去粘--后曝光—晾
苏州美精微光电有限公司 光掩膜版（PHOTOMASK）知识介绍 (COLIN FONG)
第 1 页 共 11页
光掩膜版知识介绍
一、光掩膜版概述 二、光掩膜版的类别和工作原理 三、专业原理、术语及简称 四、工艺和设备 五、菲林
一、光掩膜版概述 在人类制版工业历史上，掩膜版（光罩/底片）作为图形和文字转移的一个重要媒介， 广泛应用于出版印刷、电子线路、玻璃印花、印染、陶瓷上花等行业，尤其在不断发展 的电子、微电子行业，随着技术、工艺的进步，掩膜技术也一步步由普通光学聚酯底片 发展到可以胜任微米级要求的高精度的铬版掩膜等，并进一步向亚微米级发展。
平整度: ≤30um
g． 超声清洗（去除杂质及污物）
↓
h． 镀铬（有两种方法：溅射和蒸发）
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↓
Cr
Glass
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第 4 页 共 11页
g. 切割（按生产工艺要求，将一大片拼版成品切割为各自独立的单个成品）
↓
c． 倒角（将锋利的边角打磨，钝化，减少伤害）
↓
d． 研磨（提高平整度）
↓
平整度:在 500mm 的长度内,发生起伏 30um 的高度值)
e． 抛光（提高光洁度，使光学透射性良好
↓
f． 检查（检查参数：
尺寸:±0.5mm 误差
厚度:±0.2mm 误差
↓
垂直度:1/1000mm(500mmX500mm)
为了尽可能地避免划,碰伤, 影响寿命, 使用时要轻拿轻放. 曝光前对光检查铬版表面是 否有硬性颗粒, 在曝光过程中也需要经常用净化后的压缩气体清除铬版表面的玻璃碎粒. 使 用完毕, 应将铬版表面重新清洗洁净,干燥后再保存. c.铬版的耐划伤性如何？
由于铬版上的图形由金属铬线条组成，它的硬度非常大，和玻璃接近，因此它的耐划伤性 能非常高，一般硬度较小的物体不会对其造成划伤。但如果在使用过程中存在玻璃屑，在接 触情况下，铬版的表面就很容易受到损伤，严重时会造成顶伤。 d.铬版划伤能否进行修补？
主要清洗方法有： （1） 铬版的局部清洁方法： A、 首先使用净化气吹去铬版的表面 杂物. B、 取一清洁的全新无尘布醮 DI 水，对发现的局部脏点沿一个方向进行擦拭。 C、 再 取一清洁的全新无尘布沾取经蒸馏的分析纯酒精，沿 DI 水的擦拭方向进行多次的擦除。（2） 铬版的整版清洗方法： 配制 5%-6%的 NaOH 溶液并过滤，将铬版完全起浸入 NaOH 溶液中 （浸入前先要用无尘气枪吹静铬版表面，以防止玻璃屑类的异物），使用清洁的全新无尘布 对浸在溶液中的铬版表面进行擦洗（也要求擦洗背面），NaOH 溶液擦洗时间不可超过 10 分 钟。在使用 NaOH 溶液擦洗时需注意铬版的表面不可与清洗槽或其他物体接触，以免划伤 铬版表面；使用 NaOH 溶液擦洗后，需用大量流动 DI 水冲洗，冲洗必须完全和彻底，冲洗 时间不可小于 10 分钟。冲洗中同样要注意避免导致铬版表面的划伤的因素。清洗后的铬版 需竖直存放在固定的位置，并使用含有经高效过滤净化气分别在铬版的两个表面从左至右从 上至下吹赶留存在玻璃表面的 DI 水或用无尘箱烘干。另外，要注意避免使用气枪吹赶 DI 水时 DI 水 的反弹现象（反弹的 DI 水会造成铬版表面的水迹）。
3) 铬版掩膜的应用 目前铬版掩膜版在电子行业中主要应用于 STN- LCD、TFT -LCD、PDP、以及 PCB 产业
BGA、FPC、HDI 等产品。
4) 匀胶铬版制作工艺流程
a． 切割（将玻璃，主要是平整度较好的钠钙玻璃、硼硅玻璃、石英玻璃按产品要求
↓ 切割成块）
b． 磨边（将玻璃边缘打磨，使边缘平直）
4） 光绘菲林检验方法及注意事项： ①在垂直日光灯（30W）目检台上通过透射光检验光绘菲林的组合及图形； ②在侧视灯光（18W-30W 日光）条件下，双手拿菲林同一边上两角竖放菲林通过透射光 检验菲林的划伤、短路、断路、脏污、黑线、黑点、针孔等缺陷。 ③总长尺寸及线条线缝的尺寸应在专用检验设备上进行。 ④注意：检验时手戴乳胶手套或乳胶指套；菲林若未贴保护膜则禁止放在任何平台上； 套全检查或放于目检台上时均要贴保护膜；拿取菲林时要注意避免弯曲磨擦造成折痕或 划伤；保持良好习惯，不许留长指甲。
↓ b. CAM（Computer Aided Manufacture）
↓ c. 光刻（将处理好的图形数据文件传递给激光光绘机，对匀胶铬版进行非接触式曝光。）
↓
d. 显影（将曝光处光刻胶层去除，显露铬层）
曝光处
光刻胶 ↓
Cr
Glass
e. 蚀刻（将曝露处的铬层腐蚀去除）
光刻胶 ↓
Cr
Glass
f. 脱膜（将光刻胶去除）
7）铬版掩膜版检验方法及注意事项：
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第 5 页 共 11页
①对铬版掩膜版原检验主要包括对其外观和其关键尺寸的检验。
第 3 页 共 11页
↓
i． 检查（检查参数:
光学密度(OD)Optics density:≥3(λ=436nm)
反射率<5%
↓
厚度平整度:2~5um
平整度:≤30um）
j． 清洗（去除尘埃与杂质）
k． 涂胶（将光刻胶涂于铬层上层）
↓
l． 检查（检查参数）
↓
膜厚:0.1-0.15um±100nm
针孔:A、B、C、D 四个级别 m． 包装 5) 铬版掩膜版（图形）制作 a. CAD（Computer Aided Design）
伤或折伤，特别要注意对图形区（凸台表面）的保护;版内的杂质（异色点）一般不影
响产品的使用。
5）常见问题的处理： ①检验完毕后一定要用 NMP 液对 PI 印刷版进行浸润或用 NMP 液对其表面进行擦拭。 ②图形外的划伤不影响生产制程和最终产品质量，图形外的留胶可以用刀片去除。
三、专业原理、术语及简称 1、液晶
3）技术参数 聚酯底片按照其厚度分为两种，一种是 4mil 厚菲林（薄菲林），一种是 7mil 厚菲林（厚 菲林）。按照激光光绘精度的不同，聚酯底片一般能做到 30um 左右的最小线宽。在电子 行业中主要使用于一般的印刷线路板和要求较低的 LCD 产品。目前在市场中使用的主 要有 KODAK、AGFA、FUJI、KONICA、DUPONT 及华光等公司的产品。
5）常见问题的处理：
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第 2 页 共 11页
① 图形区的针孔形成的原因较多，如基片自身、机器内颗粒、显影或定影液自身或配
柔性树脂版，目前版材主要来自国外，有 ASAHI、BASF 和 DUPONT 三种品牌。 1）版材结构
2）版材特点
AFP-HF 柔性树脂版
聚脂支撑层
聚酯保护层 感光树脂层
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②初检外观，平放于白光光台上利用透射wk.baidu.com反射光检查，目测有无脏污，然后用 5-100
倍放大镜进行外观检查。
③复检以关键尺寸为主，利用检测仪或 AOI 检测图形和尺寸。
④注意：铬版的检验属于全检，每一模都不能放过；发现连线、断线、黑线、针孔、划
伤等缺陷时要用油性笔做好标示；小心硬物损伤版面。
8）常见问题的处理： ①发现脏污或残胶时需要对版进行清洗，清洗方法同上。 ② 连线、铬点、黑线可以通过激光修补仪进行打断处理；针孔可以通过专用修补胶手
工修补；非膜面划伤可以利用专用研磨粉进行研磨处理或使用美国产玻璃修补液进 行修补，这种玻璃修补液使用简单方便，但价格高且不耐水洗。 3、 干版（Emulsion Mask） 1）结构
乳胶 玻璃 防光晕层
玻璃干版是由受温、湿度影响较小的钠钙玻璃作基材，上涂感光乳胶层，其反应原理同 铬版类似，主要用于 HDI、BGA 等。
3）使用和保存 基本上和铬版掩膜版一样，但由于其物理化学结构决定了它易划伤和难保养的特性。
4、 LCD PI 印刷版（LCD PI Mask） PI 印刷版又称凸版，其用途是通过 PI 液的转印来对液晶晶体进行磨擦定向。其版材是
↓
h. 磨边
↓
i. 倒角
↓
j. 检查（针孔、毛刺、精度修补）
↓
k. 打包
6) 使用和清洗、保存 a.:铬版如何保存?
铬版为硬掩膜版, 为防止其变形, 需要竖直存放（我公司的铬版存放架是 PVC 材质）, 为 了保证掩膜版表面的洁净度, 一般要保存在 1,000 级以上的无尘室内, 因为铬版的基材是玻 璃, 如果需要对铬版长期保存, 最好保持在干燥的环境里, 以防止玻璃出现发霉现象, 影响 光学性能. b.铬版使用中应注意什么问题?
铬版划伤一般分为三种，一种是铬层在外力作用有一划伤印，但划伤处并不透光，这种划 伤对曝光并不影响，不需要进行修补；另一种是划伤处的铬层透光，但玻璃基版没有损伤， 这种划伤较严重，需要修补；还有一种严重划伤，严格来说应该叫顶伤，它不仅铬层受到破 坏，而且玻璃基版也受到损坏，如果玻璃基版损坏处仅仅是在线条下的玻璃基版，则可进行 修补，但如果出现非线条处的玻璃基版受到损伤的情况，则无法进行修补。 e.铬版应该使用什么样的清洗方法？
比等，它可以通过菲林笔或红胆进行修补，菲林笔价格低但不耐丙酮等试剂的擦拭；
红胆可耐丙酮擦拭但其修补处会有凸起（一般不影响曝光）且价格较贵。
② 脏污可能是冲片清洗过程留下的水迹或是低胶保护膜留下的残胶，一般可以用乙醇
擦拭去除。
③菲林划伤也是常见问题，产生的原因较多，一般图形内的划伤会影响最终产品的品质，
二、光掩膜版的类别和工作原理 1、光绘聚酯底片（film Mask）
1） 聚酯底片俗称菲林，由基片（聚酯 PET 片材）、感光乳胶层和保护膜构成。
保护膜层（1um）
感光乳胶层（5~8um）
基片（100~185um）
2） 具有有效波长的光波对感光乳胶层曝光时，发生光化学作用，构成具体图形的潜像， 经显影、定影之后，形成稳定卤化银图形。
干--检验。
4）PI 印刷版检验方法及注意事项：
①对 PI 印刷版的检验主要包括对尺寸和网点部分的检验、外观部分的检验。
②可在光台上用白色透射反射光，通过目视并借助 10 倍、100 倍的显微镜进行检查。
③以菲林尺测长度，游标卡尺或千分尺测量厚度。
④注意：PI 印刷版是一种柔性版，同菲林一样易划伤，故要像检菲林一样避免人为的划
液晶是兼有液体的流动性和晶体光学各向异性的液体。液晶的化学物有向列相液晶、近 晶相液晶、胆淄相液晶和板状液晶等。液晶显示器的工作模式有 DS 模式、GH 模式、TN 模式和 STN 模式等。液晶主要应用于液晶显示器中，液晶显示器属于平板显示器的一种。
图形区外或框点划伤一般不会对最终产品造成影响。
2. 铬版掩膜版（Chrome Mask） 1) 铬版掩膜版是对匀胶铬版经过光绘加工后的产品。匀胶铬版由玻璃基片、铬层、氧化铬 层和光刻胶层构成的。
光刻胶层（0.6-1um） 氧化铬层（0.075um）
铬层（0.075um）
玻璃（3-5mm）
2) 当有效波长作用到光刻胶上，发生化学反应，再经过显影之后，曝光部分的光刻胶层会 被分解、脱掉、直接显露出下层的铬层（阻挡光层），形成具体图形。
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第 6 页 共 11页
①精密度高，底基很稳定；
②柔软性好，易贴版（制版后的肖氏硬度：57-65）；
③对 PI 液转移性能良好；
④凹陷深度峻陡；
⑤高度的抗臭氧能力。
3）制版工艺流程。
图形处理--光绘凸版菲林--选版并背曝光--主曝光--洗版--烘干--去粘--后曝光—晾
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第 1 页 共 11页
光掩膜版知识介绍
一、光掩膜版概述 二、光掩膜版的类别和工作原理 三、专业原理、术语及简称 四、工艺和设备 五、菲林
一、光掩膜版概述 在人类制版工业历史上，掩膜版（光罩/底片）作为图形和文字转移的一个重要媒介， 广泛应用于出版印刷、电子线路、玻璃印花、印染、陶瓷上花等行业，尤其在不断发展 的电子、微电子行业，随着技术、工艺的进步，掩膜技术也一步步由普通光学聚酯底片 发展到可以胜任微米级要求的高精度的铬版掩膜等，并进一步向亚微米级发展。
平整度: ≤30um
g． 超声清洗（去除杂质及污物）
↓
h． 镀铬（有两种方法：溅射和蒸发）
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g. 切割（按生产工艺要求，将一大片拼版成品切割为各自独立的单个成品）
↓
c． 倒角（将锋利的边角打磨，钝化，减少伤害）
↓
d． 研磨（提高平整度）
↓
平整度:在 500mm 的长度内,发生起伏 30um 的高度值)
e． 抛光（提高光洁度，使光学透射性良好
↓
f． 检查（检查参数：
尺寸:±0.5mm 误差
厚度:±0.2mm 误差
↓
垂直度:1/1000mm(500mmX500mm)
为了尽可能地避免划,碰伤, 影响寿命, 使用时要轻拿轻放. 曝光前对光检查铬版表面是 否有硬性颗粒, 在曝光过程中也需要经常用净化后的压缩气体清除铬版表面的玻璃碎粒. 使 用完毕, 应将铬版表面重新清洗洁净,干燥后再保存. c.铬版的耐划伤性如何？
由于铬版上的图形由金属铬线条组成，它的硬度非常大，和玻璃接近，因此它的耐划伤性 能非常高，一般硬度较小的物体不会对其造成划伤。但如果在使用过程中存在玻璃屑，在接 触情况下，铬版的表面就很容易受到损伤，严重时会造成顶伤。 d.铬版划伤能否进行修补？
主要清洗方法有： （1） 铬版的局部清洁方法： A、 首先使用净化气吹去铬版的表面 杂物. B、 取一清洁的全新无尘布醮 DI 水，对发现的局部脏点沿一个方向进行擦拭。 C、 再 取一清洁的全新无尘布沾取经蒸馏的分析纯酒精，沿 DI 水的擦拭方向进行多次的擦除。（2） 铬版的整版清洗方法： 配制 5%-6%的 NaOH 溶液并过滤，将铬版完全起浸入 NaOH 溶液中 （浸入前先要用无尘气枪吹静铬版表面，以防止玻璃屑类的异物），使用清洁的全新无尘布 对浸在溶液中的铬版表面进行擦洗（也要求擦洗背面），NaOH 溶液擦洗时间不可超过 10 分 钟。在使用 NaOH 溶液擦洗时需注意铬版的表面不可与清洗槽或其他物体接触，以免划伤 铬版表面；使用 NaOH 溶液擦洗后，需用大量流动 DI 水冲洗，冲洗必须完全和彻底，冲洗 时间不可小于 10 分钟。冲洗中同样要注意避免导致铬版表面的划伤的因素。清洗后的铬版 需竖直存放在固定的位置，并使用含有经高效过滤净化气分别在铬版的两个表面从左至右从 上至下吹赶留存在玻璃表面的 DI 水或用无尘箱烘干。另外，要注意避免使用气枪吹赶 DI 水时 DI 水 的反弹现象（反弹的 DI 水会造成铬版表面的水迹）。
3) 铬版掩膜的应用 目前铬版掩膜版在电子行业中主要应用于 STN- LCD、TFT -LCD、PDP、以及 PCB 产业
BGA、FPC、HDI 等产品。
4) 匀胶铬版制作工艺流程
a． 切割（将玻璃，主要是平整度较好的钠钙玻璃、硼硅玻璃、石英玻璃按产品要求
↓ 切割成块）
b． 磨边（将玻璃边缘打磨，使边缘平直）
4） 光绘菲林检验方法及注意事项： ①在垂直日光灯（30W）目检台上通过透射光检验光绘菲林的组合及图形； ②在侧视灯光（18W-30W 日光）条件下，双手拿菲林同一边上两角竖放菲林通过透射光 检验菲林的划伤、短路、断路、脏污、黑线、黑点、针孔等缺陷。 ③总长尺寸及线条线缝的尺寸应在专用检验设备上进行。 ④注意：检验时手戴乳胶手套或乳胶指套；菲林若未贴保护膜则禁止放在任何平台上； 套全检查或放于目检台上时均要贴保护膜；拿取菲林时要注意避免弯曲磨擦造成折痕或 划伤；保持良好习惯，不许留长指甲。
↓ b. CAM（Computer Aided Manufacture）
↓ c. 光刻（将处理好的图形数据文件传递给激光光绘机，对匀胶铬版进行非接触式曝光。）
↓
d. 显影（将曝光处光刻胶层去除，显露铬层）
曝光处
光刻胶 ↓
Cr
Glass
e. 蚀刻（将曝露处的铬层腐蚀去除）
光刻胶 ↓
Cr
Glass
f. 脱膜（将光刻胶去除）
7）铬版掩膜版检验方法及注意事项：
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①对铬版掩膜版原检验主要包括对其外观和其关键尺寸的检验。
第 3 页 共 11页
↓
i． 检查（检查参数:
光学密度(OD)Optics density:≥3(λ=436nm)
反射率<5%
↓
厚度平整度:2~5um
平整度:≤30um）
j． 清洗（去除尘埃与杂质）
k． 涂胶（将光刻胶涂于铬层上层）
↓
l． 检查（检查参数）
↓
膜厚:0.1-0.15um±100nm
针孔:A、B、C、D 四个级别 m． 包装 5) 铬版掩膜版（图形）制作 a. CAD（Computer Aided Design）
伤或折伤，特别要注意对图形区（凸台表面）的保护;版内的杂质（异色点）一般不影
响产品的使用。
5）常见问题的处理： ①检验完毕后一定要用 NMP 液对 PI 印刷版进行浸润或用 NMP 液对其表面进行擦拭。 ②图形外的划伤不影响生产制程和最终产品质量，图形外的留胶可以用刀片去除。
三、专业原理、术语及简称 1、液晶
3）技术参数 聚酯底片按照其厚度分为两种，一种是 4mil 厚菲林（薄菲林），一种是 7mil 厚菲林（厚 菲林）。按照激光光绘精度的不同，聚酯底片一般能做到 30um 左右的最小线宽。在电子 行业中主要使用于一般的印刷线路板和要求较低的 LCD 产品。目前在市场中使用的主 要有 KODAK、AGFA、FUJI、KONICA、DUPONT 及华光等公司的产品。
5）常见问题的处理：
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① 图形区的针孔形成的原因较多，如基片自身、机器内颗粒、显影或定影液自身或配
柔性树脂版，目前版材主要来自国外，有 ASAHI、BASF 和 DUPONT 三种品牌。 1）版材结构
2）版材特点
AFP-HF 柔性树脂版
聚脂支撑层
聚酯保护层 感光树脂层
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②初检外观，平放于白光光台上利用透射wk.baidu.com反射光检查，目测有无脏污，然后用 5-100
倍放大镜进行外观检查。
③复检以关键尺寸为主，利用检测仪或 AOI 检测图形和尺寸。
④注意：铬版的检验属于全检，每一模都不能放过；发现连线、断线、黑线、针孔、划
伤等缺陷时要用油性笔做好标示；小心硬物损伤版面。
8）常见问题的处理： ①发现脏污或残胶时需要对版进行清洗，清洗方法同上。 ② 连线、铬点、黑线可以通过激光修补仪进行打断处理；针孔可以通过专用修补胶手
工修补；非膜面划伤可以利用专用研磨粉进行研磨处理或使用美国产玻璃修补液进 行修补，这种玻璃修补液使用简单方便，但价格高且不耐水洗。 3、 干版（Emulsion Mask） 1）结构
乳胶 玻璃 防光晕层
玻璃干版是由受温、湿度影响较小的钠钙玻璃作基材，上涂感光乳胶层，其反应原理同 铬版类似，主要用于 HDI、BGA 等。