Cu基TP电子薄膜Roll To Roll 加工制程工艺设备技术

二次曝光 掩膜间隙： 15um
其它同覆膜前清洗
工艺条件
压力尽可能小
药液和滤芯要每 天更换一次 脱模长度：3米
Cu基电子薄膜卷对卷加工各工艺槽的工艺条件
工序 覆干膜前清洗 一次显影 作业内容 清洗基材表面 干膜显影 溶液性质 1%浓度碱液 1%浓度碱液 溶液温度 29°C+/-0.5°C 29°C+/-0.5°C 速度 2-3米/分 2-3米/分 长度 1米 2米 槽段数 1 1 作业时间 15秒 60秒 工艺要求 表面清洗 显影 每班更换 备注
湿制程技术
蚀刻精细控制
药液浓度在线补偿精细控制 高精度缓变微喷多段蚀刻 连续换卷与在线监测 非接触式多段干燥 节能环保 实现连续在线监测与换卷 控制干燥速度和温度曲线、加热方式 蚀刻液的密闭、回收与处理
Cu基电子薄膜Roll To Roll湿制程工艺流程与工艺条件
工序 覆膜前清洗 温度：29°C+/-0.5°C 工艺条件 速度：2-3米/分 药液与显影液相同 长度：0.5米 工序 二次蚀刻 （ITO） 药液：HCL+缓释剂 比例：60%：40% 温度：48°C 工艺条件 蚀刻液喷淋压力为 1KG/平方厘米 长度：2米/段 X 2段 工序 三次蚀刻（Cu） 与一次蚀刻工艺同 蚀刻可视区边线 蚀刻区长度：2米 一次覆干膜 厚度7-15um 温度：80-90°C 压力尽可能小 脱干模清洗 滤芯：20um 温度：34°C 压力尽可能小 药液和滤芯要每 天更换一次 药液： 0.5%NaOH 脱模长度：3米 脱干模清洗 滤芯：20um 温度：34°C 覆保护膜 覆50umPE保护膜 收卷 二次覆干膜 厚度：15um 温度：80-90°C 压力尽可能小 一次曝光 掩膜间隙：15um 偏差：+/-1um 一次显影 0.5%NaCO2 其它同覆膜前 清洗 一次蚀刻（Cu） 温度：32°-34°C 速度：1.5米/分 长度：2米 二次显影 1%NaOH
Cu基电子薄膜Roll To Roll加工的曝光机设备技术要求
台面有效尺寸
550 X 650mm
有效曝光尺寸
550 X550mm
曝光方式
双面曝光
铬版GAP
15um
平行半角
<1.5度
最大曝光精度
10um+10um 6” X 27.2K PCS/天
曝光速度
20-30秒/帧
干膜厚度
7um - 20um
卷芯：6”
电子薄膜的发展趋势——产品技术
单面多层 结构复杂化 单层双面
基底材料薄型化
薄型化 电子薄膜 细线宽 层间覆合复杂化 自动化 覆合材料薄型化 10um+10um 层间覆合力减弱 在线换卷与大卷长
电子薄膜卷对卷加工技术
驱动技术
变频无级调速
可调速范围扩展 卷取技术 低张力和变张力收放卷取 EPC纠偏与膜缓存（5米）控制 膜走行技术 膜镀层保护技术
东莞市友辉光电科技有限公司
谢 谢！
卷长：150-200米
覆膜机速度
1.6倍曝光机
设计产能:
1、 使用20um厚度的干膜，可以加工30um +30um的线宽产品图案； 2、 使用15um厚度的干膜，可以加工15um + 25um 线宽的产品图案；
说明
3、 使用7um厚度的干膜，可以加工10um+10um线宽的产品图案；
4、生产能力测算： 18膜/帧 X 2帧/分 X 60分/小时 X 20小时/天 X 70%稼动率 X 90%良品率 = 27216 PCS/Day
Cu基Touch Panel电子薄膜
Roll To Roll加工制程工艺设备技术
2018 – 03 - 15
市场背景
• 日本市调机构富士经济（Fuji Keizai）2018年3月13 日公布调
查报告指出，因三星 Galaxy S8 系列、Note 8 以及苹果
（Apple）iPhone X 采用可挠式（Flexible）OLED 面板，提振
4、由于刻蚀ITO膜层的HCL会在18°C出现结晶，并且会应为HCL的挥发性降低Cu蚀刻液的使用功效，因此显影槽可以和
Cu蚀刻槽连线布置，但不可以和ITO 蚀刻槽连线布置，因此ITO膜线路蚀刻槽需要单独布线设置。
5、 在上述作业工序中，只要进行收卷作业，都应该在收卷作业前安排进行覆保护膜作业，以防止Cu材氧化 6、 Cu 蚀刻液为台湾冠阳公司的蚀刻液，使用比重计进行浓度检测，可以稳定补液连续使用，性能稳定，但会受HCL中和影响劣化； 7、 ITO 线路蚀刻液为60%HCL（无色分析纯）：40%缓释剂兑制溶剂；要在线补液调整浓度，每班更换一次，因为干膜会造成污染不 良
估 2022 年全球可挠式触控面板市场规模将成长至 5,100 亿日
圆，将较 2017 年跳增 2.1 倍（成长 209%）。
电ED、 依托技术 电子薄膜 2017年约为1.8亿片； 市场潜力 2022年预测为5.4-5.5亿 片（富士经济） LTPS面板3D曲面手机应 用
一次蚀刻
二次蚀刻 脱干膜清洗 二次显影 三次蚀刻
蚀刻Cu膜
蚀刻ITO膜 脱干膜 干膜显影 蚀刻Cu膜
蚀刻酸液
蚀刻HCL酸液 0.5%NaOH 1%浓度碱液 蚀刻酸液
32-34°C
48°C 48°C 29°C+/-0.5°C 32-34°C
1.5米/分
1.5米/分 1.5米/分 2-3米/分 1.5米/分
2米
4米 3米 2米 2米
1
2 1 1 1
40秒
90秒 120秒 60秒 40秒
蚀刻Cu线路
蚀刻ITO线路 清洗干膜 显影 蚀刻可视区Cu
补液，稳定使用
每班补液 每班更换 每班更换 补液，稳定使用
1、 所有显影和脱干膜清洗等各槽溶液使用20um棉滤芯过滤循环使用 2、脱干膜槽出水后不能完全风干，要保持表面雾状水膜，防止出现显影碱斑造成图形不良； 3、第三次蚀刻后可以不安排进行脱干膜清洗作业，直接覆保护膜； 说明
2017 年使用于可挠式面板的静电容量式触控面板（以下称可挠
式触控面板）市场规模扩增至 1,650 亿日圆（约 1.8 亿片），
达 2016 年的 3.4 倍。
• 富士经济指出，因京东方（BOE）等中国面板厂将在 2018-2019
年期间开始供应可挠式 OLED 面板，智慧手机将以旗舰机种为中
心扩大采用，提振可挠式触控面板市场今后将呈现大幅扩大，预