PCB电镀培训(沉铜)
沉铜工艺培训教材

沉铜工艺培训教材欧伟标1.沉铜流程简介通过化学方法对已钻孔的孔壁进行清洁除污(又称凹蚀、前处理)后通过活化催化原理使孔壁非导电材料积沉上厚度约10微英寸的金属铜.它的作用是使孔导通,然后通过后续电镀工序使孔壁铜层增厚.磨板→上板→[溶胀→二级水洗→凹蚀→三级水洗→还原P →二级水洗]→除油I →除油II →三级水洗→微蚀→二级水洗→预浸→活化→二级水洗→还原WA →纯水洗→化学沉铜→三级水洗→卸板→清洗烘干红色方括号内为多层板必须走的去钻污流程。
新沉铜平板一体线没有凹蚀段,在该线生产的多层板需先走水平凹蚀线。
任何板件都不允许走两次凹蚀!若板件在凹蚀缸时设备发生故障,需待板件凹蚀时间够了之后再人工把挂蓝抬出来,返工时就不必再走一次凹蚀。
设备故障时板件也不应在各药缸停留时间过长,按以下时间控制:在正常条件下,水平凹蚀线的凹蚀量和芯吸量都要比垂直凹蚀线小,但凹蚀效果来看,水平凹蚀线的凹蚀效果比较好。
有锣槽孔的板件都指定在水平凹蚀线生产。
2.流程的作用及原理2.1 磨板板件进入沉铜之前要在去毛刺磨板机磨板,磨板的作用:1.磨去钻孔产生的披锋,防止披锋在后续的图形转移过程中划伤贴膜机压辊和刺破干膜造成遮孔蚀不静;2.磨去覆铜板铜箔表面的抗氧化层,并粗化铜箔表面,增加后续铜层与基铜的结合力;3.除去孔内可能存在的铜丝、板粉等杂物。
去毛刺机前两支不织布刷240#,后两支针刷320#。
蚀刻后的板件板件如果出现铜粒、轻微镀层不良、氧化等也会在去毛刺机磨板,但此类板件不能开不织布刷!。
磨板对象磨刷类型 压力 div 速度 m/min 高压水洗 bar 烘箱温度 t 1/2级 3/4级 沉铜前去毛刺240# 320# 0.9 2.8-3.0 ≥25 ≥70 平板后磨板240# 320# 0.4-0.6 3.2-3.5 ≥25 ≥70 蚀刻后磨板 关 320# 0.2-0.4 3.2-3.5 ≥25 ≥70 如果试磨后板件出现披峰, 则可在上述范围内降低速度, 增大压力或横向纵向各磨一遍重新取板试磨。
沉铜工序工程培训

附:流程图
1、工序流程图 2、生产线流程图 a.粗磨机流程图 b.沉铜线流程图
收 板
粗 磨 挂 板
检 查
返做
检查
合格
出 货 沉铜生产线
合格
放 板
磨板段
清洗段
超声波水洗段
高压水洗段
烘 干
接 板
D01上/下板 D27 膨胀 D36-37 除胶 D32 中和 D36 条件 D23 微蚀 D20 预浸 D16 促化 D28 水洗 D35 水洗 D31 水洗 D25 水洗 D34 水洗 D30 水洗 D24 水洗 D29 水洗 D33
沉铜段
效果图
PTH孔开
板材问题引起孔开
沉铜段
效果图
DF膜碎引起孔开
锡薄引起孔开
化学镀铜反应机理
结合反应①和②有如下反应
Cu2++2CH2O+4OH- Pdo/cu CU+2C=-O-O-+2H2O+2H2---③ 反应式③表明化学镀铜反必须具备以下基本条件 1)化学镀铜液为强碱性,甲醛的还原能力取决于溶液中 的碱性强弱程度,即溶液的PH值。 2)在强碱条件下,要保证Cu2+离子不形成Cu(OH) 2沉淀, 必须加入足够的Cu2+离子络合剂(由于络合剂在化学镀 铜反应中不消耗,所以反应③式中省略了络合剂。
环氧表面 (负电性)
处理前板
条件缸 (阳离子表 面活性剂)
经条件缸后 (正电性)
处理后板
各药水缸作用
B、微蚀
弱腐蚀(粗化处理),是利用微蚀剂从铜基体表面上蚀 刻掉20-50U”的铜,从而得到一个化学清洁的粗糙表 面,使化学镀铜层和底铜结合良好,保证以后图形电 镀不分层,以往粗化处理是采用过硫酸盐或酸性氯化 铜水溶液进行粗化处理,本公司采用的是NAPS及H2SO4 来处理(微蚀速率:30U “-60“/分)。
沉铜、电镀工序培训讲义

第28页
入职工艺知识培训讲义
3.1.3 沉铜特殊控制
去毛刺:磨痕测试
RD-CM-WI01S1A
操作方法:将一定大小及厚度的光铜板输送至特定磨辘下停止,不开摆动, 静止磨板一定时间后停止,出板后测量磨痕宽度。 目的:检验去毛刺机磨刷平整度及刷磨均匀性。 要求:磨痕宽度范围为:10-15mm
尺寸:18*24inch 厚度:1.0-1.6mm 材料:FR-4
Sn(OH)4
水洗
SnCl2
SnCl2 Sn(OH)4 SnCl2 SnCl Sn(OH)4 2 SnCl2
Pd
SnCl2 Sn(OH)4 SnCl2
Sn(OH)4
Sn(OH)4
Sn(OH)4
Sn(OH)4
活化
加速 PTH过程孔壁/板面微观状态变化
沉铜
第10页
入职工艺知识培训讲义
1.2 电镀铜原理与工艺流1.2.2 电镀铜的主要工艺流程:
图形电镀工艺:
除油→微蚀→预浸→镀铜→浸酸→镀锡
RD-CM-WI01S1A
层压
开料→内层光成像→蚀刻→层压→ 钻孔→沉铜→板镀→外层光成像→ 图形电镀→外层蚀刻→……
钻孔
沉铜+板镀
图形转移
图形电镀
蚀刻
阻焊
图形电镀通孔及盲孔切片示意图
第13页
Cu
Cu2+
Cu2+
Cu
酸度不足时: Cu+ +H2O→CuOH+ H2O 2CuOH →Cu2O↓ + H2O
阳极
阴极 Cu
阳极
第11页
入职工艺知识培训讲义
电镀铜分类(按功能)
RD-CM-WI01S1A
沉铜板电培训教材

适宜连续生产,停产状态由于副反应的进行使原料损耗。
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பைடு நூலகம்
关键控制项目与重点注意事项
化学沉铜的维护: 每周转缸清洗、过滤、清除缸底、壁上积铜; 停产时亦要不断打气; 每班需做化学分析,监控各组分; 自动分析添加。
Pd Cu2+2HCHO+40H-→Cu+2HCOO-+2H2O+H2↑(主反应) OH2Cu2++HCHO+5OH-→Cu2O+HCOO-+3H2O H2O Cu+Cu2++2OH(副反应B)
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(副反应A)
2HCHO+NaOH→HCOONa+CH3OH
沉铜
化学铜: 各反应物的作用: Cu2+ HCHO NaOH 化合物(EDTA等) 主要反应物 主要反应物 反应条件(速度控制) 反应条件(稳定反应物的存在形式)
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关键控制项目与重点注意事项
化学沉铜质量监控: 背光测定(一般要求8.0级); 沉铜速率测定(一般要求8~11μ″)。
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关键控制项目与重点注意事项
全板电镀: 1、添加剂失调
光亮剂偏高,板面发亮,光亮剂偏低,板面发白
2、碳处理,半年一次
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常见问题及解决方法
孔内无铜 (沉铜) 孔壁整洁不良 加速过度 提高除油剂含量或更换槽液,检 查操作温度。。 分析调整加速剂含量、铜含量, 检查操作温度 调高NaOH与HCHO含量,升高 量度并增加拖缸板量。 分析调整中和缸含量 分析调整活化剂钯浓度 气振动失效
PCB沉铜讲义

沉铜讲义一、沉铜目的:沉铜的目的是利用化学反应原理在孔壁上沉积一层0.3um-0.5um的铜,使原本绝缘的孔壁具有导电性,便于后续板面电镀及图形电镀的顺利进行,从而完成PCB电路网络间的电性互通。
二、沉铜原理:利用甲醛在强碱性环境中所具有的还原性并在Pd作用下而使Cu2+被还原成铜。
Cu2++2HCHO+4OH- Cu+2HCOO-+2H2O+H2↑三、工艺流程:粗磨→膨胀→除胶渣→三级水洗→中和→二级水洗→除油→稀酸洗→二级水洗→微蚀→预浸→活化→二级水洗→加速→一级水洗→沉铜→二级水洗→板面电镀→幼磨→铜检四、工艺简介:1. 粗磨:目的是除去板面氧化、油污等杂质,清除孔口披锋及孔中的树脂粉尘等杂物。
2. 膨胀:因基材树脂为高分子化合物,分子间结合力很强,为了使钻污树脂被有效地除去,通过膨胀处理使其膨松软化,从而便于MnO4-离子的浸入,使长碳链裂解而达到除胶的目的。
3. 除胶:使孔壁环氧树脂表面产生微观上的粗糙,以提高孔壁与化学铜之间的接合力,并可提高孔壁对活化液的吸附量,其原理是利用KMnO4在碱性环境中强氧化性的特性将孔壁表Pd Cu面树脂氧化分解。
①反应机理:4MnO4-+C(树脂)+4OH-→MnO42-+CO2↑+2H2O②副反应:2MnO4-+2OH-→2MnO42-+1/2O2+H2OMnO4-+H2O→MnO2↓+2OH-+1/2O2③高锰钾的再生:要提高高锰钾工作液的使用效率,必须考虑将溶液中的MnO42-再生转变为MnO4-,从而避免MnO42-的大量产生,目前我司采用的电解再生法,再生机理为:MnO42-+e→MnO4-。
4. 中和:经碱性KMnO4处理后的板,在板面及孔内带有大量的MnO4-、MnO42-、MnO2等药水残留物,因MnO4-本身具有极强的氧化性,对后工序的除油剂及活化性是一种毒物,故除胶后的板必须经中和处理将MnO4-进行还原,以消除它的强氧化性。
还原中和常用H2O2-H2SO4还原体等或其它还原剂的酸性溶液:MnO4-+H2O2+H+→MnO42-+O2↑+H2OMnO4-+R+H+→MnO42-+H2O有时为了对孔壁上的玻璃纤维进行蚀刻和粗化作用,在中和槽中加入NH4HF+H2SO4作为玻璃蚀刻工艺。
《沉铜和板电工艺培训讲义》

五、沉铜常见问题
产生原因及解决方法
❖ 孔无铜 ❖ 产生原因: ❖ 1、钻孔钻屑塞孔引起的孔无铜. ❖ 2、沉铜拉各缸本身杂质塞孔引起的孔无铜. ❖ 3、摇摆、气震异常等机器故障产生的. ❖ 4、员工操作引起的. ❖ 解决方法: ❖ 1、知会钻孔工序及时作出改善. ❖ 2、按MEI做好保养. ❖ 3、生产时多巡拉发现异常及时知会维修人员处理. ❖ 4、上板时做不叠板,保证板与板之间分开并在存板车 ❖ 内不存气泡,存板时间不能过长〔4小时内板电完.
二、板电药水 缸成份及其作用
❖ 〔3镀铜缸
❖ 药水成份:CuSO4.5H2O:60-80g/L<最佳值70g/L>
❖
H2SO4 :170-220g/L〔200g/L>
❖
CL-
:40-80ppm〔60ppm>
❖
CB-203B 酸性铜光光泽剂:3ml/L
❖ 温 度:18-30℃<控制值24 ℃>
❖ 处理时间:根据客户实际需要决定.
❖作
用:利用高锰酸钾的强氧化性,使板在此
碱性槽中
❖
将已被软化的胶渣及其局部的树脂
进行氧化反
❖
应,分解溶去 ;电
❖ 反应方程式: 4MnO4-+有机树脂+4OH-→4MnO42+CO2↑+2H2O
❖
2MnO4-+2OH-
2MnO42-+[1/2O2]+H2O
❖ 药 水 成 份: NaOH,开缸量为30-50g/L,最佳值
二、沉铜流程
❖ 上板→膨松→水洗→水洗→除胶→水洗→回 收水洗→预中和→水洗→中和→水洗→水洗 →除油→水洗→水洗→微蚀→水洗→酸洗→ 水洗→水洗→预浸→活化→水洗→水洗→加 速→水洗→沉铜→水洗→水洗→下板
PCB电镀铜培训资料

PCB电镀铜培训资料1.PCB电镀铜的定义和作用:PCB电镀铜是将铜层沉积在基板表面,用于增加导电性和保护基板。
它能提供稳定的电气性能和连接,并防止氧化和腐蚀。
2.PCB电镀铜的种类:常见的电镀铜包括镀铜、镀不锈钢、镀铬、化学铜、电镀银等。
3.PCB电镀铜的工艺流程:a.脱脂:使用化学溶剂去除基板表面的油污和污垢。
b.除锈:使用酸性溶液去除基板表面的氧化层和金属杂质。
c.洗涤:使用水或有机溶剂彻底清洗基板表面。
d.激活:使用化学溶液去除基板表面的氧化物,并增加表面活性。
e.化学镀铜:将铜沉积在基板表面,使用电解液进行化学反应。
f.涂脂:涂上保护膜,防止电镀过程中的氧化和腐蚀。
g.拉丝:使用刷子或机械工具去除电镀过程中产生的杂质和不均匀沉积。
h.滤镀:过滤电镀液,去除其中的杂质和废旧物质。
i.除锈:再次使用酸性溶液去除表面的氧化层和金属杂质。
j.电解镀铜:使用电流进行电解反应,使得铜均匀地沉积在基板表面。
k.汤洗:使用热水或有机溶剂清除电解液残留。
l.干燥:将基板置于烘干设备中,使其完全干燥。
4.PCB电镀铜的常见问题及解决方法:a.气泡:将温度调高,检查和清洁设备,减少板塞、沉积物和硬件的接触。
b.残渣:增加电镀液的流动速度,使用滤纸或滤网过滤电镀液。
c.颗粒:控制电镀液的溶液和搅拌速度,使用滤网过滤电镀液。
d.氧化:减少空气接触,确保设备密封良好,增加电镀液的活性。
e.不均匀沉积:检查设备,确保均匀的电流分布,进行拉丝处理,使用均匀的电镀液。
5.PCB电镀铜的优势和应用领域:a.优势:提供良好的导电性和连接,具有良好的耐腐蚀性,能防止氧化和腐蚀,使电路板更稳定可靠。
b.应用领域:PCB电镀铜广泛应用于通信设备、工业控制系统、电子产品、医疗器械等领域。
6.PCB电镀铜的环境保护和安全注意事项:a.环境保护:电镀液和废水应遵守环保标准,进行合理利用和处理。
b.安全注意事项:操作时要佩戴防护装备,保持设备干燥和密封良好,注意操作规范,避免产生有害物质。
PCB沉铜讲义

沉铜讲义一、沉铜目的:沉铜的目的是利用化学反应原理在孔壁上沉积一层0.3um-0.5um的铜,使原本绝缘的孔壁具有导电性,便于后续板面电镀及图形电镀的顺利进行,从而完成PCB电路网络间的电性互通。
二、沉铜原理:利用甲醛在强碱性环境中所具有的还原性并在Pd作用下而使Cu2+被还原成铜。
Cu2++2HCHO+4OH- Cu+2HCOO-+2H2O+H2↑三、工艺流程:粗磨→膨胀→除胶渣→三级水洗→中和→二级水洗→除油→稀酸洗→二级水洗→微蚀→预浸→活化→二级水洗→加速→一级水洗→沉铜→二级水洗→板面电镀→幼磨→铜检四、工艺简介:1. 粗磨:目的是除去板面氧化、油污等杂质,清除孔口披锋及孔中的树脂粉尘等杂物。
2. 膨胀:因基材树脂为高分子化合物,分子间结合力很强,为了使钻污树脂被有效地除去,通过膨胀处理使其膨松软化,从而便于MnO4-离子的浸入,使长碳链裂解而达到除胶的目的。
3. 除胶:使孔壁环氧树脂表面产生微观上的粗糙,以提高孔壁与化学铜之间的接合力,并可提高孔壁对活化液的吸附量,其原理是利用KMnO4在碱性环境中强氧化性的特性将孔壁表面树脂氧化分解。
①反应机理:4MnO4-+C(树脂)+4OH-→MnO42-+CO2↑+2H2O②副反应:2MnO4-+2OH-→2MnO42-+1/2O2+H2OMnO4-+H2O→MnO2↓+2OH-+1/2O2③高锰钾的再生:要提高高锰钾工作液的使用效率,必须考虑将溶液中的MnO42-再生转变为Pd CuMnO4-,从而避免MnO42-的大量产生,目前我司采用的电解再生法,再生机理为:MnO42-+e→MnO4-。
4. 中和:经碱性KMnO4处理后的板,在板面及孔内带有大量的MnO4-、MnO42-、MnO2等药水残留物,因MnO4-本身具有极强的氧化性,对后工序的除油剂及活化性是一种毒物,故除胶后的板必须经中和处理将MnO4-进行还原,以消除它的强氧化性。
还原中和常用H2O2-H2SO4还原体等或其它还原剂的酸性溶液:MnO4-+H2O2+H+→MnO42-+O2↑+H2OMnO4-+R+H+→MnO42-+H2O有时为了对孔壁上的玻璃纤维进行蚀刻和粗化作用,在中和槽中加入NH4HF+H2SO4作为玻璃蚀刻工艺。
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• 总反应 • CuSO4+HCHO+4NaOH→Cu+Na2SO4+2HCOONa+2H2O+H2↑
沉铜后
副产物的再生
• 由亍工作液中存在MnO2,将严重降低槽液的寿命,并影 响除胶渣的质量,故必须抑制其浓度,一般控制Mn6+在 低亍25g/L的浓度工作。维持低浓度锰酸根最有效的办法 是氧化再生成有用的高锰酸根离子。 • 再生原理 • 阳枀:在外加电流及电压下,阳枀所形成的氧化反应可 将六价锰酸根离子氧化成七价高锰酸根离子 • 2Mn6+-2e→Mn7++4OH--4e→2H2O+O2↑ • 阴枀棒反应 • 4H++4e→3H2↑ • 电解再生效果:理论上,每1AH(安培小时)的电量可 将3g的MnO42-氧化成2.2g的MnO4-
加速后的孔壁表面
沉铜
• • • • • • • • • CuSO4、NaOH、HCHO、EDTA(乙二胺四乙酸四钠) 主反应 Cu2++2HCHO+4OH-→Cu+H2↑+H2O+2HCOO副反应 2HCHO+4OH-→H2↑+2e-+H2O+2HCOO2HCHO+NaOH→CH3OH+HCOONa 2Cu2++HCHO+5OH-→Cu2O+3H2O+CHOOCu2O+H2O→Cu+Cu2++2OHCu2O+HCHO+OH-→2Cu+H2O+HCOO-
电解再生器
预中和&中和
• 预中和:H2SO4、H2O2 • 中和:H2SO4、PA-9X • 酸性强还原剂:能将残存在板面戒孔壁死角处的MnO2
除去
和高锰酸盐中和
• 4MnO4- + H2O2 + H+ → 4MnO42- + O2 ↑ + H2O
除油&清洁(整孔)
• PA-31 清除板面及孔壁轻微的氧化物及污渍,并调整孔壁使玻璃纤维表面的负电性(-)转为正 电性(+),利于活化剂的吸附。
整孔图示
疏水端(负电-) 亲水端(正电+)
孔 左 侧
孔 左 侧
利用槽液中润湿剂的“偶极性” (Bipolar)分子,以其带负 电的疏水端(Hydrophobic Part)趋向及聚附在不亲水的 孔壁上,并排挤赶走先前松弛 附着的钻削与粉尘,如此即可 达到清洁孔壁的目的。同時偶 极性分子之亲水端又带有正电, 因而会使得已附着皮膜的孔壁 也带有正电。
微蚀后铜面
预浸(预活化)
• 早期预活化是将Sn2+对非导体基材做预浸着过程。 • • • • • 作用 ①防止板子带杂质污染昂贵的钯槽 ②防止板面太多的水量迚入钯槽而造成局部的水解 Sn2++2H2O→Sn(OH)2+2H+ ③迚一步降低其孔面的【Suface Tension】表面张力
• ★预活化不活化槽除了无钯外其他完全一致。
除胶渣
• • • • • • 高锰酸钾的强氧化性在高温及强碱的条件下,不树脂収生化学反应而分解溶去 4MnO4-+有机树脂+4OH-→4MnO42-+CO2↑+2H2O 副产物的生成 KMnO4+OH-→K2MnO4+H2O+O2↑ K2MnO4+H2O→MnO2+KOH+O2↑ MnO2是一种丌溶性的泥渣状沉淀物
Paul Eisler(1907-1992)
印制电路板的发明者是奥地利人保罗· 爱斯勒(Paul Eisler),他于1936年在一个收音机装置内采用了印刷电路板。1943年,美 国人将该技术大量使用于军用收音机内。1948年,美国正式认可这个发明用于商业用途。1950年6月21日,保罗· 爱斯勒获得PCB 的发明专利权,至今刚好60年。 这个被冠以“PCB之父”之誉的人,其丰富的人生阅历,却鲜少为PCB同行所熟知。 事实上是,爱斯勒的人生故事在他的自传《我的生活与印制电路》中所描述的那样,像一部神秘的小说,满是遭受迫害的题材。 爱斯勒1907年在奥地利出生,1930年毕业于维也纳大学工程学士学位。他在那时就已经显现出发明家的天赋。但是,他的首要 目标是在一个非纳粹土地上找份工作。但是当时他所处的特殊环境,使得这位犹太工程师逃离了1930年代的奥地利,因此,1934 年,他在塞尔维亚的贝尔格莱德找到了一份为火车设计电子系统的工作—能够使乘客通过耳机记录个人记录,像iPod。但是,工 作结束时,客户提供的是粮食,而不是支付货币。因此,他只有回到自己的故乡奥地利。 回到奥地利,爱斯勒为报纸投稿,创办了电台杂志,并开始学习印刷技术。印刷在1930年代是相当强大的技术,他开始想象如 何让印刷技术运用到在绝缘基底的电路上,并且投入大货生产。 1936年,他决定离开奥地利。他受邀前往英国工作,基于两项他已经提出的专利:一个是图形印象记录,另一个是具有垂直分 辨率线的立体电视。 他的电视专利卖了250法郎,这足够在汉普斯特德公寓住上一段时间,这是一件好事,因为他在伦敦找不到工作。有一家电话公 司真的很喜欢他的印制电路板的想法—它可以淘汰那些电话系统中使用的成捆的电线。 由于二战的爆发,爱斯勒开始想办法让家人离开奥地利。战争开始时,他的妹妹自杀了,他作为一个非法移民被英国拘留了。 即使被关了起来,爱斯勒仍然在想着怎样帮助战争。 被释放后,爱斯勒为音乐印制公司Henderson & Spalding工作。最初,他的目标是完善公司的绘图音乐打字机,不是在实验室 里,而是在一个被炸毁的建筑中工作。公司老板H.V. Strong强迫爱斯勒签署了所有在研究中出现的专利。这不是第一次,也不是 最后一次爱斯勒被人利用。 从事军事工作的麻烦之一是他的身份:他刚刚被释放。可他仍去找军事承包商,讨论他的印制电路如何使用到战争中去。 通过他在Henderson & Spalding的工作,爱斯勒开发了利用蚀刻箔在基板上记录下痕迹的概念。他的第一块电路板看上去更像 一盘意大利细面条。他在1943年申请了专利。 起初没有人真正重视这项发明,直到它被运用到炮弹的引信用来击落V-1 buzz炸弹。在此之后,爱斯勒有了工作,还有了些小 名气。战争结束后,这项技术得到了传播。美国在1948年规定,所有机载仪器必须是印制的。 爱斯勒1943年的这项专利最终被分为三个独立的专利:639111(三维印制电路板),639178(印制电路的箔技术),和 639179(粉末印刷)。这三项专利在1950年6月21日发表,但是只有少数几家公司获得专利授权。 1950年代,爱斯勒又一次被利用了,这次是在英国国家研究与发展公司工作期间。该组织基本上是泄露了爱斯勒的美国专利。 但是他继续实验和发明。他又想出了电池箔,加热墙纸,比萨饼烤箱,混凝土模具,后车窗除霜等等的主意。他在医学领域取得 了成功,于1992年去世,一生具有几十个专利。他刚刚获得了电气工程师协会的纳菲尔德银质奖章。
1、对多层板而言,内层导通是靠内层铜环不孔壁连接的,钻污的存在会 阻止这种连接。 2、对双面板而言,虽丌存在内层连接问题,但孔壁铜层若建立在丌稳固 的胶渣上,在热冲击戒机械冲击下易出现拉力离问题。
• 因此我们需要通过膨松和去钻污将胶渣除去。
钻孔后
膨松
• PA-7H膨松剂 • 使孔壁上的胶渣得以软化,并渗入树脂聚合后的交联处,从而降低其键结的能量, 使易亍迚行树脂的溶解。
2012-8-24
沉铜工艺
• 通过化学方法在孔内沉积上一层金属薄铜,实现孔金属化,便于后工序电镀铜的 沉积; • 我司采用利尔沉薄铜工艺,沉积厚度一般在———um
工艺流程
膨松
除胶渣 预中和
中和
除油
微蚀
酸洗
活化
速化
沉铜
钻污的由来
• 钻孔时玱璃环氧树脂不钻嘴在高速旋转剧烈摩擦的过程中,局部温度上升至200℃以 上,超过树脂的Tg值(140℃左右),致使树脂被软化融化为胶糊状而涂满孔壁,冷 却后便成了胶渣(Smear)。 • 钻污的危害:
• 環氧樹脂本身是極性聚合物(Polar Polymer),故在靜電測量上具有 微“負電性”經鑽孔摩擦後即轉為微正電性。但在做完除膠渣 之濕制程後,又再轉變為“負電性”。 • 然此一“負電性”對孔壁之“金屬化”卻頗為丌利。由於化學 銅的前哨是化學鈀,孔壁必須要先著落上鈀金屬,後來的化學 銅才能快速又牢固的附著與積厚。而化學鈀槽液中的鈀離子與 亞錫離子之間,若未加妥善隔離時,將導致乾柴烈火般相互反 應的一觸即發,而於槽底產生鈀金屬沉澱無意義的浪費。
• ①作为催化剂吸附H+的主体,加速HCHO的反应 • ②作为反应中心,以利e-转移至Cu2+上形成铜沉积
• 维持亚锡不钯之间的精巧平衡,丌可鼓气及仸何漏气现象存在,绝对 禁止直接往活化缸中加水,这将导致活化缸中钯胶团水解的后果。 • 钯胶团粘附的板子在经水洗过后,Pb粒之外会形成Sn(OH)4等外壳 • Sn4+ + 9H2O → H2SnO3·6H2O + 4H+
活化后的孔壁
速化(加速)
• PA-35B
• 作用
• ①剥去Pb外层的Sn4+外壳,露出Pb金属 • ②清除松散丌实的Pb团戒Pb离子、原子等
• 原理
• • • • •
①Pb胶团粘附的板子经水洗之后Pb粒之外会形成Sn(OH)4等外壳 SnCl2+2HBF4→Sn(BF4)2+2HCl Sn(OH)4+4HBF4→Sn(BF4)4+4H2O Sn(OH)Cl+2HBF4→Sn(BF4)2+HCl+H2O ②反应过程宜适可而止
活化
• PA-34 Pb液中的钯是以SnPb7Cl16胶团存在的
• SnPb7Cl16的产生是PbCl2和SnCl2在酸性环境中经一系列反应而最后产生 的。 • PbCl2+SnCl2→PbSnCl4 • PbSnCl4+6PbCl2→SnPb7Cl16 • SnPb7Cl16→SnCl2+PbCl2+Pb6Cl12 • 活化工序就是让SnPb7Cl16胶团附着在孔壁表面形成迚一步的据点(Pb 在化铜槽中的作用)