材料分析方法课后习题答案

合集下载
  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

第十四章

1、波谱仪和能谱仪各有什么优缺点?

优点:1 )能谱仪探测X 射线的效率高。

2)在同一时间对分析点内所有元素X 射线光子的能量进行测定和计数,在几分钟内可得到定性分析结果,而

波谱仪只能逐个测量每种元素特征波长。

3)结构简单,稳定性和重现性都很好

4)不必聚焦,对样品表面无特殊要求,适于粗糙表面分析。

缺点:1)分辨率低。

2)能谱仪只能分析原子序数大于11 的元素;而波谱仪可测定原子序数从 4 到92 间的所有元素。

3)能谱仪的Si(Li)探头必须保持在低温态,因此必须时时用液氮冷却。分析钢中碳化物成分可用能谱仪;分析基体中碳含量可用波谱仪。

2、举例说明电子探针的三种工作方式(点、线、面)在显微成分分析中的应用。

答:(1)、定点分析:将电子束固定在要分析的微区上用波谱仪分析时,改变分光晶体和探测器的位置,即可得到分析点的X 射线谱线;用能谱仪分析时,几分钟内即可直接从荧光屏(或计算机)上得到微区内全部元素的谱线。

(2)、线分析:将谱仪(波、能)固定在所要测量的某一元素特征X 射线信号(波长或能量)的位置把电子束沿着指定的方向作直线轨迹扫描,便可得到这一元素沿直线的浓度分布情况。改变位置可得到另一元素的浓度分布情况。

(3)、面分析:电子束在样品表面作光栅扫描,将谱仪(波、能)固定在所要测量的某一元素特征X 射线信号(波长或能量)的位置,此时,在荧光屏上得到该元素的面分布图像。改变位置可得到另一元素的浓度分布情况。也是用X 射线调制图像的方法。

3、要在观察断口形貌的同时,分析断口上粒状夹杂物的化学成分,选用什么仪器?用怎样的操作方式进行具体分析?

答:(1)若观察断口形貌,用扫描电子显微镜来观察:而要分析夹杂物的化学成分,得选用能谱仪来分析其化学成分。

(2)A 、用扫描电镜的断口分析观察其断口形貌:

a沿晶断口分析:靠近二次电子检测器的断裂面亮度大,背面则暗,故短裤呈冰糖块状或呈石块状。沿晶断口属于脆性断裂,断口上午塑性变形迹象。

b韧窝断口分析:韧窝的边缘类似尖棱,故亮度较大,韧窝底部比较平坦,图像亮度较低。韧窝断口是一种韧性断裂断口,无论是从试样的宏观变形行为上,还是从断口的微观区域上都能看出明显的塑性变形。韧窝断口是穿晶韧性断口。

c、解理断口分析:由于相邻晶粒的位相不一样,因此解理断裂纹从一个晶粒扩展到相邻晶粒内部时,在晶界处开始形成河流花样即解理台阶。解理断裂是脆性断裂,是沿着某特定的晶体学晶面产生的穿晶断裂。

d、纤维增强复合材料断口分析:断口上有很多纤维拔岀。由于纤维断裂的位置不都是在基体主裂纹平面上,一些纤维与基体脱粘后断裂位置在基体中,所以断口山更大量露出的拔出纤维,同时还可看到纤维拔出后留下的

孔洞。

B 用能谱仪定性分析方法进行其化学成分的分析。定点分析 特定元素的直线分布.面分析:测定某特定元素的面分布

a 定点分析方法:电子束照射分析区

,波谱仪分析时,改变分光晶体和探测器位置

.或用能谱仪,获取

E — I 谱线,根据谱线中各峰对应的特征波长值或特征能量值

,确定照射区的元素组成;

b 线分析方法:将谱仪固定在要测元素的特征

X 射线 波长值或特征能量值,使电子束沿着图像指定直线轨迹

扫描.常用于测晶界、相界元素分布 .常将元素分布谱与该微区组织形貌结合起来分析;

c 、面分析方法:将谱仪固定在要测元素的特征 X 射线波长值或特征能量值 ,使电子束在在样品微区作光栅扫

描,此时在荧光屏上便得到该元素的微区分布

,含量高则亮。

4、扫描电子显微镜是由电子光学系统,信号收集处理、图像显示和记录系统,真空系统三个基本部分组成。 (1)、电子光学系统(镜筒) 1 )电子枪:提供稳定的电子束,阴阳极加速电压

2 )电磁透镜:第一、二透镜为强磁透镜,第三为弱磁透镜,聚集能力小,目的是增大镜筒空间

3

)扫描线圈:使电子束在试样表面作规则扫描,同时控制电子束在样品上扫描与显像管上电子束扫描同

步进行。扫描方式有光栅扫描

(面扫)和角光栅(线)扫描

4 )样品室及信号探测:放置样品,安装信号探测器;各种信号的收集和相应的探测器的位置有很大关 系。样品台本

身是复杂而精密的组件,能进行平移、倾斜和转动等运动。

(2) 信号收集和图像显示系统 电子束照射试样微区,产生信号量

----荧光屏对应区光强度。因试样各点状态不同

荧光屏上反映图像亮度不同,从而形成光强度差

(图像)。

(3) 真空系统

防止样品污染,灯丝氧化;气体电离,使电子束散射。真空度 1。33 X 10-2----1

由表可看岀二次电子和俄歇电子的分辨率高,而特征 X 射线调制成显微图像的分辨率最低。

6、二次电子成像原理及应用

(1)成像原理为:二次电子产额对微区表面的几何形状十分敏感。随入射束与试样表面法线夹角增大,二次 电子产额增大。因为电子束穿入样品激发二次电子的有效深度增加了,使表面 5-10 nm 作用体积内逸岀表面的

次电子数量增多。

(2)应用:a 、断口分析 1 )沿晶断口; 2 )韧窝断口; 3 )解理断口; 4)纤维增强复合材料断口。 b 样品表面形貌特征

1 )烧结样品的自然表面分析

2 )金相表面

对样品选定区进行定性分析.线分析:测定某

(形貌、成分差异),在

-3

33 X 10

c、材料形变和断裂过程的动态分析1)双相钢2)复合材料

7、背散射电子衬度原理及应用

相关文档
最新文档