半导体器件导论_10
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《半导体器件导论》
第10章双极型晶体管
例10.1 确定npn双极型晶体管基区的过剩少子电子浓度。Τ=300Κ时,硅双极型晶体管的各区均匀掺杂,掺杂浓度分别为N E=1018cm−3,N B=1016cm−3,B-E结正偏电压V BE=0.610V。假设中性基区宽度x B=1μm,少子扩散长度L B=10μm,试确定x=x B2⁄处的实际少子浓度[参见式(10.15a)]与理想情况的线性少子分布[参见式(10.15b)]之比。
【解】
由半导体物理知识,可得
n BO=n i2
N B =(1.5×10
10)2
1016
=2.25×104cm−3
对实际分布,有
δn B(x=x B
2)=2.25×104
sin h(1
10
)
×{[exp(0.610
0.0259
)−1]sin h(1−0.5
10
)−sin h(0.5
10
)}
或
δn B(x=x B
2
)=1.9018×1014cm−3对线性近似,有
δn B(x=x B
2)=2.25×104
10−4
×{[exp(0.610
0.0259
)−1](0.5×10−4)−(0.5×10−4)}
或
δn B(x=x B
2
)=1.9042×1014cm−3
取实际浓度与线性近似之比,可得
R=1.9018×1014
1.9042×1014
=0.9987
【说明】
当x B=1μm,L B=10μm时,我们可以看到,基区内实际的过剩少子浓度与线性近似的少子浓度非常接近。
例10.2 确定晶体管发射区的过剩少子浓度,并与基区过剩少子浓度进行比较。若硅双极型晶体管的参数与例10.1完全相同,试确定δp E(x′=0)δn B(x=0)
⁄
【解】
由式(10.20a),可得
δp E(0)=p EO[exp(eV BE
kT
)−1]
由式(10.13a ),可得
δn B (0)=n BO [exp (
eV BE
kT
)−1]
因此
δp E (0)δn B (0)=p EO n BO =n i 2N E ⁄n i 2N B ⁄=N B N E =1016
1018
即
δp E (0)
δn B (0)
=0.01 【说明】
随着对双极型晶体管分析的深入,我们将看到对于性能良好的晶体管,这个比需求
相当小。
例10.3 计算集电区内的距离。考虑偏置在正向有源模式的npn 双极型晶体管的集电区。与L c 相比,x ′′为何值时,少子浓度达到热平衡值的95%? 【解】
联立式(10.23)和式(10.26),可得少子浓度为
p C (x ′′)=-p C0exp (
−x ′′
L C
) 或
p C (x ′′)
p C0=1-exp (−x ′′
L C
) 对于p C (x ′′)p C0⁄=0.95,有
x ′′
L C
≈3 【说明】
为了使集电区的过剩少子浓度达到上面分析假设的稳态值,集点区必须相当宽。然
而,这种条件并不是对所有情况都成立。
例10.4 为使发射结注入效率γ=0.9967,试确定发射区掺杂浓度与基区掺杂浓度之比。考虑一个npn 双极型晶体管,为了简单,假设D E =D B ,L E =L B ,以及x E =x B 。 【解】
由题设可知,式(10.35a )可简化为
γ=
1
1+p EO
n BO
=
1
1+n i 2
N E
⁄n i 2N B
⁄
因此
γ=
1
1+N
B
N E =0.9967
所以
N B N E =0.00331 或 N
E N B
=302 【说明】
为了获得高发射结注入效率,发射区修杂浓度必须远大于基区掺杂农度。
例10.5 若晶体管为pnp 双极型晶体管,且D B =10cm 2s ⁄,τBO =10−7s 。为了使基区输运系数αΤ=0.9967,试确定基区宽度。 【解】
前面推导的基区输运系数对pnp 和npn 晶体管都成立,可表示为
αΤ=1
cos h (x
B L B ⁄)
=0.9967
因此
x B
L B
=0.0814 我们有
L B =√D B τBO =√(10)(10−7)=10−3cm
所以基区宽度为
x B =0.814×10−4cm =0.814μm
【说明】
基区宽度略小于0.8μm ,即可满足上述基区输运系数的要求。在大多数情况下,基
区输运系数并不是双极型晶体管电流增益的限制因素。
例10.6考虑T =300K 时的npn 双极型晶体管,同时假设J ro =10−8 A cm 2⁄,J so =10−11A cm 2⁄。若要使复合系数δ=0.9967,试计算B-E 结所需的正偏电压。 【解】
由式(10.44)可得,复合系数为
δ=
1
1+J
ro J so exp(−eV BE 2KT
)