光刻对准技术研究进展

梁友生;曹益平;邢廷文

【期刊名称】《电子工业专用设备》

【年(卷),期】2004(033)010

【摘要】回顾了光刻对准技术的发展功能,对各种对准方法的原理和特点进行了分析和评价,介绍了几种典型主流光刻对准系统结构形式,并对光刻对准技术前景进行了描述与展望.

【总页数】5页(30-34)

【关键词】光刻技术;对准技术;激光分步对准;掩模

【作者】梁友生;曹益平;邢廷文

【作者单位】四川大学光电科学技术系,四川,成都,610064;四川大学光电科学技术系,四川,成都,610064;中国科学院光电技术研究所,四川,成都,10209

【正文语种】中文

【中图分类】TN305.7

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