光刻机曝光机(Mask Aligner)

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光刻机/曝光机（Mask Aligner）

∙产品型号：MAs

∙参考价格：面议

∙厂商性质：一般经销商

∙产地：其他国家

∙3I 指数：536

∙典型用户：0

详细信息

仪器简介：

又名：掩膜对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机等；

全球领先的半导体设备供应商，多年来致力于掩膜对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；依优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。