(2020年整理)硅铁的国家标准.doc
官方【中华人民共和国国家标准】
54
GB/T 10129-2019
电工钢带（片）中频磁性能测量方法
GB/T 10129-1988
2020-07-01
55
GB/T 12214-2019
熔模铸造用硅砂、粉
GB/T 12214-1990
2020-03-01
56
GB/T 12215-2019
熔模铸造用铝矾土砂、粉
GB/T 12215-1990
2020-07-01
17
GB/T 3903.7-2019
鞋类 整鞋试验方法 老化处理
GB/T 3903.7-2005
2020-03-01
18
GB/T 3903.33-2019
鞋类 内底和内垫试验方法 吸水率和解吸率
GB/T 3903.33-2008
2020-03-01
19
GB/T 3903.34-2019
2020-03-01
44
GB/T 8152.14-2019
铅精矿化学分析方法 第14部分：二氧化硅含量的测定 钼蓝分光光度法
2020-07-01
45
GB/T 8826-2019
橡胶防老剂 2,2,4-三甲基-1,2-二氢化喹啉聚合物（TMQ）
GB/T 8826-2011
2020-07-01
46
GB/T 9443-2019
32
GB/T 6202-2019
宽带式砂光机
GB/T 6202-2000
2020-03-01
33
GB/T 6730.56-2019
铁矿石 铝含量的测定 火焰原子吸收光谱法
GB/T 6730.56-2004
2020-07-01
稀土硅铁合金及镁硅铁合金化学分析方法 第1部分：稀土总量、十五个稀土元素含量的测定-最新国标
稀土硅铁合金及镁硅铁合金化学分析方法第1部分：稀土总量、十五个稀土元素含量的测定1范围本文件规定了稀土硅铁合金及镁硅铁合金中稀土总量、十五个稀土元素含量的测定方法。
本文件适用于稀土硅铁合金及镁硅铁合金中稀土总量、十五个稀土元素含量的测定，包含电感耦合等离子体子发射光谱法（方法一）和EDTA滴定法（方法二）。
方法一测定范围（质量分数）见表1。
方法二测定范围（质量分数）见表2。
表1方法一测定范围测定参数质量分数%测定参数质量分数%La0.03～10.00Dy0.03～0.50 Ce0.03～10.00Ho0.03～0.50 Pr0.03～0.50Er0.03～0.50 Nd0.03～0.50Tm0.03～0.50 Sm0.03～0.50Yb0.03～0.50 Eu0.03～0.50Lu0.03～0.50 Gd0.03～0.50Y0.03～10.00 Tb0.03～0.50RE0.50～10.00表2方法二测定范围测定参数质量分数%测定参数质量分数%La0.05～40.00Dy0.05～2.00Ce0.05～40.00Ho0.05～2.00Pr0.05～2.00Er0.05～2.00Nd0.05～2.00Tm0.05～2.00Sm0.05～2.00Yb0.05～2.00Eu0.05～2.00Lu0.05～2.00Gd0.05～2.00Y0.05～40.00Tb0.05～2.00RE10.00～40.002规范性引用文件下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。
其中，注日期的引用文件，仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。
GB/T 6682 分析实验室用水规格和试验方法GB/T 8170 数值修约规则与极限数值的表示和判定3术语和定义本文件没有需要界定的术语和定义。
4方法一：电感耦合等离子发射光谱法4.1原理试料经硝酸和氢氟酸分解，氢氟酸沉淀稀土分离铁后，经高氯酸冒烟盐酸分解氟化稀土，加入少量铁与稀土在氨水中共沉淀以分离镁、钙等杂质元素。
国家标准物质项目表一级标准物质
精密合金成分分析标准物质 铁镍基高温合金痕量元素成分分析标准物质 铁镍基高温合金痕量元素成分分析标准物质 铁镍基高温合金痕量元素成分分析标准物质 铁镍基高温合金痕量元素成分分析标准物质 铁镍基高温合金痕量元素成分分析标准物质 磷青铜成分分析标准物质 磷青铜成分分析标准物质 磷青铜成分分析标准物质 磷青铜成分分析标准物质 磷青铜成分分析标准物质 青铜成分分析标准物质 青铜成分分析标准物质 青铜成分分析标准物质 青铜成分分析标准物质 铝合金成分分析标准物质 钛中氢成分分析标准物质 钛中氢成分分析标准物质 钛中氢成分分析标准物质 铜中氧成分分析标准物质 铜中氧成分分析标准物质 铜中氧成分分析标准物质 铜中氧成分分析标准物质 锌合金成分分析标准物质 锌合金光谱分析标准物质 锌合金光谱分析标准物质 锌合金光谱分析标准物质 锌合金光谱分析标准物质 锌合金光谱分析标准物质 氧化钇成分分析标准物质
中国航空工业第一集 团公司北京航空材料 研究院
上海材料研究所
国防科工委化学计量 一级站
国家有色金属及电子 材料分析测试中心
制造计量器具 许可证号
编
号
标准物质名称 石墨矿成分分析标准物质 石墨矿成分分析标准物质 石墨矿成分分析标准物质 高岭土成分分析标准物质 高岭土成分分析标准物质 萤石成分分析标准物质 萤石成分分析标准物质 萤石成分分析标准物质 萤石成分分析标准物质 萤石成分分析标准物质 八氧化三铀中钐、铕、钆、镝成分分析标准物质 八氧化三铀中钐、铕、钆、镝成分分析标准物质 八氧化三铀中杂质元素系列成分分析标准物质 八氧化三铀中杂质元素系列成分分析标准物质 八氧化三铀中杂质元素系列成分分析标准物质 八氧化三铀中杂质元素系列成分分析标准物质 八氧化三铀中钨元素系列成分分析标准物质 八氧化三铀中钨元素系列成分分析标准物质 八氧化三铀中钨元素系列成分分析标准物质 八氧化三铀中钨元素系列成分分析标准物质 八氧化三铀中硅元素系列成分分析标准物质 八氧化三铀中硅元素系列成分分析标准物质 八氧化三铀中硅元素系列成分分析标准物质 八氧化三铀中硅元素系列成分分析标准物质 氩中甲烷气体标准物质 六氟化铀中铀同位素丰度标准物质 六氟化铀中铀同位素丰度标准物质 六氟化铀中铀同位素丰度标准物质 六氟化铀中铀同位素丰度标准物质 六氟化铀中铀同位素丰度标准物质 六氟化铀中铀同位素丰度标准物质 六氟化铀中铀同位素丰度标准物质 六氟化铀中铀同位素丰度标准物质 硫化银硫同位素标准物质 硫化银硫同位素标准物质
金属硅标准
继续追问：国家标准是国家制定的用于规范金属硅市场的一种准则，它对于金属硅市场的统一、稳定、和谐发展具有非常重要的意义。
现在，金属硅国家标准已经被广大的金属硅生产厂家和金属硅企业所接受，已经成为一种行业标准。
金属硅是由石英和焦炭在电热炉内冶炼成的产品，主成分硅元素的含量在98%左右（近年来，含Si量99.99%的也归在金属硅内），其余杂质为铁、铝、钙等。
根据金属硅国家标准，金属硅通常按所含的铁、铝、钙三种主要杂质的含量来分类，主要类型有以下几种：#1101 #2202 #3303 #3305 #441 #553Si 99 99 99 99 99 98.5Fe 0.1 0.2 0.3 0.3 0.4 0.5Al 0.1 0.2 0.3 0.3 0.4 0.5Ca 0.01 0.02 0.03 0.05 0.1 0.3P 0.003 0.003 0.003 0.004 0.004 0.004Ni 0.03 0.03 0.03 / / /Mn 0.03 0.03 0.03 / / /Ti 0.02 0.02 0.03 0.03 / /金属硅基础知识（牌号化学成分、检验标准等）2006-10-02 00:00 来源：我的钢铁作者：mysteel 试用手机平台金属硅定义：金属硅又称结晶硅或工业硅，其主要用途是作为非铁基合金的添加剂。
硅是非金属元素，呈灰色，有金属色泽，性硬且脆。
硅的含量约占地壳质量的26%；原子量为28.80；密度为2.33g/m3；熔点为1410C；沸点为2355C；电阻率为2140Ω.m。
金属硅的牌号：按照金属硅中铁、铝、钙的含量，可把金属硅分为553、441、411、42 1、3303、3305、2202、2502、1501、1101等不同的牌号。
金属硅的附加产品:包括硅微粉,边皮硅，黑皮硅，金属硅渣等。
其中硅微粉也称硅粉、微硅粉或硅灰，它广泛应用于耐火材料和混凝土行业金属硅的用途：金属硅（Si）是工业提纯的单质硅，主要用于生产有机硅、制取高纯度的半导体材料以及配制有特殊用途的合金等。
国家质量监督检验检疫总局关于批准“硅钙合金标准物质”等203种国家标准物质的通知(一)
国家质量监督检验检疫总局关于批准“硅钙合金标准物质”等203种国家标准物质的通知(一)
文章属性
•【制定机关】国家质量监督检验检疫总局(已撤销)
•【公布日期】2012.06.06
•【文号】国质检量函[2012]283号
•【施行日期】2012.06.06
•【效力等级】部门规范性文件
•【时效性】现行有效
•【主题分类】标准化
正文
国家质量监督检验检疫总局关于批准“硅钙合金标准物质”
等203种国家标准物质的通知
（国质检量函〔2012〕283号）
各直属检验检疫局，各省、自治区、直辖市及新疆生产建设兵团质量技术监督局，国务院有关部门，各有关单位：
根据《中华人民共和国计量法》和《标准物质管理办法》的有关规定，现批准“硅钙合金标准物质”等73种标准物质为国家一级标准物质，“不锈钢光谱分析标准物质”等130种标准物质为国家二级标准物质（见附件1），列入中华人民共和国标准物质目录（见附件2），并统一编号，颁发“国家标准物质定级证书”和“制造计量器具许可证”。
附件：1. 国家标准物质项目表
附件：2. 中华人民共和国标准物质目录
二〇一二年六月六日
附件1：
附件2：
中华人民共和国标准物质目录国家质量监督检验检疫总局中国北京
研制单位：中国计量科学研究院（北京市）、重庆市电力公司电力科学研究院
*质量分数为×10-2
研制单位：中国计量科学研究院（北京市）
研制单位：中国计量科学研究院（北京市）
研制单位：中国计量科学研究院（北京市）。
硅铁冶炼
冶炼硅铁使用的原料：硅石、焦炭和钢销。
硅石（1）化学成份A.含siO2不小于98％B.含Al2O3不大于0.8％。
C.含P2O3不大于0.02％D.含其它杂子总和不大于1％（2）物理性质A、硅石表面不得有泥土等杂质，入炉前尽量经过水洗。
B、硅石应有较好的机械强度和抗爆性。
C、新硅石末经实验，不得大量使用。
（3）入炉粒度50－150mm.二、焦炭化学成份A、固定碳大于82％B、灰分小于14％C、挥发份1－3％三、钢屑化学成份含铁量不低于97％应是普通碳素钢销，不得混有合金钢销，有色金属销和生铁销等。
生锈严重的钢销不得使用钢销的卷曲长度不大于100mm 要纯净，不得混有泥土等杂质现在企业大部分不会用铁矿石大部分采用球团料和氧化皮球团料含铁量在50-60 包头、河北等地有氧化皮含铁量在65-72 包头、河北、山西等地有铁矿石生产原料生产工艺（如下）冷压块简单工艺过程破碎粘结铁矿石筛分干燥混合筛分压块入炉四、铁矿石工业品位对于含铁量较低或含铁量虽高但有害杂质含量超过规定要求的矿石或含伴生有益组分的铁矿石，均需进行选矿处理，选出的铁精粉经配料烧结或球团处理后才能入炉使用。
需经选矿处理的铁矿石要求：磁铁矿石TFe≥25%，mFe≥20%；赤铁矿石TFe≥28%～30%；菱铁矿石TFe≥25%；褐铁矿石TFe≥30%。
对需选矿石工业类型划分，通常以单一弱磁选工艺流程为基础，采用磁性铁占有率来划分。
根据我国矿山生产经验，其一般标准是：矿石类型mFe/TFe(%)单一弱磁选矿石≥65其他流程选矿石＜65对磁铁矿石、赤铁矿石也可采用另一种划分标准：mFe/TFe≥85磁铁矿石mFe/TFe85～15混合矿石mFe/TFe≤15赤铁矿石。
标准物质证书
概述：本硅铁标准物质对硅、锰、磷、钙、铝、铬、碳和硫元素进行定值。
该标准物质适用于效验分析仪器及分析方法，并可作为量值传递。
、产品质量控制机仲裁分析的依据。
一、制备方法简介原料（硅石、焦炭、钢屑）经配料→熔炼→烧铸→取样→精整→破碎→研磨→筛分→混样→初检→装瓶→均匀性检验→数据分析→数据处理→鉴定定值。
二﹑标准值及不确定度 成分（％） 项目 Ｓｉ Ａｌ Ｃａ Ｃｒ Ｐ Ｍｎ Ｃ Ｓ ７６．７４ １．８０ ０．０２３ ０．０１７２ ０．１４０ ０．３０ ０．０８１ ０．００４ ０．１４ ０．０３ ０．００１ ０．００７ ０．００４ ０．０２ ０．００４ ０．００１ 标准值及 标准偏差（Ｓ） 测定组数 ８ ８ ８ ８ ８ ９ １０ ９ 三、分析方法元素 分析方法 硅 高氰酸脱水重量法铝 EDTA 容量法；铬天青—S 分光光度法磷 硫酸肼—磷钼蓝分光光度法；铋磷钼蓝分光光度法；正丁醇—三氯甲烷萃取分光光度法 锰 原子吸收光谱法；高锰酸钾分光光度法；亚砷酸钠—亚硝酸钠容量法 铬 过硫酸铵容量法；二苯基碳酰二肼分光光度法 碳 红外法；库仑法；非水滴定法；气体容量法 硫 离子选择性电极电位滴定法；燃烧碘量法；红外法四、均匀性检查本标准物质随机抽取样进行分析，最小称样量为0.5g,采用方差检验法进行均匀性检查，其结果F ＜Fa,所以标准物质是均匀的。
五、包装与贮存标准物质为粉末状样品。
最小包装为50克，装于具有内外盖的玻璃瓶中，外套纸盒。
储存于阴凉、干燥、避光处。
六、研制协作单位冶金部钢铁研究总院 上海第五钢铁厂峨嵋铁合金（集团）股份有限公司 上海第一钢铁厂重庆特殊钢（集团）公司特钢研究所上海申佳铁合金有限公司锦州铁合金（集团）股份有限公司。
硅行业国家标准大全
序号标准号标准名称5GB/T 1551-2009硅单晶电阻率测定方法6GB/T 1553-2009硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法7GB/T 1554-2009硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法8GB/T 1555-2009半导体单晶晶向测定方法9GB/T 1558-2009硅中代位碳原子含量 红外吸收测量方法15GB/T 4058-2009硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法16GB/T 4061-2009硅多晶断面夹层化学腐蚀检验方法33GB/T 6616-2009半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测试方法 非接触涡流法34GB/T 6617-2009硅片电阻率测定 扩展电阻探针法35GB/T 6618-2009硅片厚度和总厚度变化测试方法36GB/T 6619-2009硅片弯曲度测试方法37GB/T 6620-2009硅片翘曲度非接触式测试方法38GB/T 6621-2009硅片表面平整度测试方法39GB/T 6624-2009硅抛光片表面质量目测检验方法67GB/T 13387-2009硅及其它电子材料晶片参考面长度测量方法68GB/T 13388-2009硅片参考面结晶学取向X射线测试方法70GB/T 14139-2009硅外延片71GB/T 14140-2009硅片直径测量方法72GB/T 14141-2009硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法73GB/T 14144-2009硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法74GB/T 14146-2009硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法76GB/T 14600-2009电子工业用气体 氧化亚氮77GB/T 14601-2009电子工业用气体 氨78GB/T 14603-2009电子工业用气体 三氟化硼79GB/T 14604-2009电子工业用气体 氧81GB/T 14851-2009电子工业用气体 磷化氢88GB/T 15909-2009电子工业用气体 硅烷(SiH4)116GB/T 16942-2009电子工业用气体 氢117GB/T 16943-2009电子工业用气体 氦118GB/T 16944-2009电子工业用气体 氮119GB/T 16945-2009电子工业用气体 氩241GB/T 24574-2009硅单晶中Ⅲ-Ⅴ族杂质的光致发光测试方法242GB/T 24575-2009硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法243GB/T 24576-2009高分辩率X射线衍射测量GaAs衬底生长的AlGaAs中Al成分的试验方法244GB/T 24577-2009热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物245GB/T 24578-2009硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法247GB/T 24580-2009重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法248GB/T 24581-2009低温傅立叶变换红外光谱法测量硅单晶中III、V族杂质含量的测试方法249GB/T 24582-2009酸浸取 电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质代替标准号批准日期修订日期实施日期GB/T 1551-1995,GB/T 151979-5-262009-10-302010-6-1GB/T 1553-19971979-5-262009-10-302010-6-1GB/T 1554-19951979-5-262009-10-302010-6-1GB/T 1555-19971979-5-262009-10-302010-6-1GB/T 1558-19971979-5-262009-10-302010-6-1GB/T 4058-19951983-12-202009-10-302010-6-1GB/T 4061-19831983-12-202009-10-302010-6-1GB/T 6616-19951986-7-262009-10-302010-6-1GB/T 6617-19951986-7-262009-10-302010-6-1GB/T 6618-19951986-7-262009-10-302010-6-1GB/T 6619-19951985-6-172009-10-302010-6-1GB/T 6620-19951986-7-262009-10-302010-6-1GB/T 6621-19951986-7-262009-10-302010-6-1GB/T 6624-19951986-7-262009-10-302010-6-1GB/T 13387-19921992-2-192009-10-302010-6-1GB/T 13388-19921992-2-192009-10-302010-6-1GB/T 14139-19931993-2-62009-10-302010-6-1GB/T 14140.1-1993,GB/T1993-2-62009-10-302010-6-1GB/T 14141-19931993-2-62009-10-302010-6-1GB/T 14144-19931993-2-62009-10-302010-6-1GB/T 14146-19931993-2-62009-10-302010-6-1GB/T 14600-19931993-8-262009-10-302010-5-1GB/T 14601-19931993-8-262009-10-302010-5-1GB/T 14603-19931993-8-262009-10-302010-5-1GB/T 14604-19931993-8-262009-10-302010-5-1GB/T 14851-19931993-12-302009-10-302010-5-1GB/T 15909-19951995-12-202009-10-302010-5-1GB/T 16942-19971997-8-132009-10-302010-5-1GB/T 16943-19971997-8-132009-10-302010-5-1GB/T 16944-19971997-8-132009-10-302010-5-1GB/T 16945-19971997-8-132009-10-302010-5-12009-10-302010-6-12009-10-302010-6-1的试验方法2009-10-302010-6-12009-10-302010-6-12009-10-302010-6-12009-10-302010-6-1含量的测试方法2009-10-302010-6-12009-10-302010-6-1。
72硅铁指标
72硅铁指标一、概述72硅铁是一种重要的冶金材料，主要用于钢铁冶炼中作为脱氧剂和合金元素添加剂。
本文将从72硅铁的物理性质、化学成分、加工工艺和应用领域等方面详细介绍其指标。
二、物理性质1. 外观：黑色块状或颗粒状。
2. 密度：7.2-7.4g/cm³。
3. 熔点：约1410℃。
4. 硬度：在常温下较硬，难以切割。
三、化学成分1. 主要成分：Si、Fe。
2. 含量标准：- Si含量≥72%；- C含量≤0.2%；- P含量≤0.05%；- S含量≤0.05%。
四、加工工艺1. 原料准备：- 硅铁块或硅铁渣；- 铁水或废钢等还原剂；- 脱氧剂（如锰铁）。
2. 生产过程：(1) 将硅铁块或硅铁渣按比例混合后放入电炉内加热至一定温度。
(2) 加入还原剂，使SiO₂被还原为Si，并与Fe反应生成72硅铁。
(3) 加入脱氧剂，去除钢水中的氧、硫等杂质。
(4) 倒出72硅铁，冷却后粉碎或压块包装。
五、应用领域1. 钢铁冶炼：作为脱氧剂和合金元素添加剂，可以改善钢的物理性能，提高耐磨性和强度。
2. 铸造业：用于生产球墨铸铁和灰口铸铁等合金材料。
3. 化工行业：作为硅源用于生产有机硅、硅橡胶等化工产品。
六、质量指标1. 化学成分：- Si含量≥72%；- C含量≤0.2%；- P含量≤0.05%；- S含量≤0.05%。
2. 粒度：- 块状72硅铁：50-200mm；- 颗粒状72硅铁：1-10mm或10-50mm。
3. 包装：- 块状72硅铁：每袋重量一般在25kg以上，外包装为塑料编织袋或纸板箱；- 颗粒状72硅铁：每袋重量一般在25kg以上，外包装为塑料编织袋或纸板箱。
4. 使用效果：- 脱氧效果：Si含量≥72%；- 合金效果：FeSi含量、C含量和P含量符合标准；- 粒度适宜：块状或颗粒状72硅铁应根据具体工艺要求选择合适的粒度；- 包装完好：无泄漏、无损伤。
七、质检要点1. 取样方法：- 块状72硅铁：随机取样，每袋至少取3个样品；- 颗粒状72硅铁：随机取样，每袋至少取5个样品。
硅行业国家标准大全
硅行业国家标准大全序号标准号标准名称5GB/T 1551-2009硅单晶电阻率测定方法6GB/T 1553-2009硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法7GB/T 1554-2009硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法8GB/T 1555-2009半导体单晶晶向测定方法9GB/T 1558-2009硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法15GB/T 4058-2009硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法16GB/T 4061-2009硅多晶断面夹层化学腐蚀检验方法33GB/T 6616-2009半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测试方法非接触涡流法34GB/T 6617-2009硅片电阻率测定扩展电阻探针法35GB/T 6618-2009硅片厚度和总厚度变化测试方法36GB/T 6619-2009硅片弯曲度测试方法37GB/T 6620-2009硅片翘曲度非接触式测试方法38GB/T 6621-2009硅片表面平整度测试方法39GB/T 6624-2009硅抛光片表面质量目测检验方法67GB/T 13387-2009硅及其它电子材料晶片参考面长度测量方法68GB/T 13388-2009硅片参考面结晶学取向X射线测试方法70GB/T 14139-2009硅外延片71GB/T 14140-2009硅片直径测量方法72GB/T 14141-2009硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定直排四探针法73GB/T 14144-2009硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法74GB/T 14146-2009硅外延层载流子浓度测定汞探针电容-电压法76GB/T 14600-2009电子工业用气体氧化亚氮77GB/T 14601-2009电子工业用气体氨78GB/T 14603-2009电子工业用气体三氟化硼79GB/T 14604-2009电子工业用气体氧81GB/T 14851-2009电子工业用气体磷化氢88GB/T 15909-2009电子工业用气体硅烷(SiH4)116GB/T 16942-2009电子工业用气体氢117GB/T 16943-2009电子工业用气体氦118GB/T 16944-2009电子工业用气体氮119GB/T 16945-2009电子工业用气体氩241GB/T 24574-2009硅单晶中Ⅲ-Ⅴ族杂质的光致发光测试方法242GB/T 24575-2009硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法243GB/T 24576-2009高分辩率X射线衍射测量GaAs衬底生长的AlGaAs中Al成分的试验方法244GB/T 24577-2009热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物245GB/T 24578-2009硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法247GB/T 24580-2009重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法248GB/T 24581-2009低温傅立叶变换红外光谱法测量硅单晶中III、V族杂质含量的测试方法249GB/T 24582-2009酸浸取电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质代替标准号批准日期修订日期实施日期GB/T 1551-1995,GB/T 151979-5-262009-10-302010-6-1GB/T 1553-19971979-5-262009-10-302010-6-1GB/T 1554-19951979-5-262009-10-302010-6-1GB/T 1555-19971979-5-262009-10-302010-6-1GB/T 1558-19971979-5-262009-10-302010-6-1GB/T 4058-19951983-12-202009-10-302010-6-1GB/T 4061-19831983-12-202009-10-302010-6-1GB/T 6616-19951986-7-262009-10-302010-6-1GB/T 6617-19951986-7-262009-10-302010-6-1GB/T 6618-19951986-7-262009-10-302010-6-1GB/T 6619-19951985-6-172009-10-302010-6-1GB/T 6620-19951986-7-262009-10-302010-6-1GB/T 6621-19951986-7-262009-10-302010-6-1GB/T 6624-19951986-7-262009-10-302010-6-1GB/T 13387-19921992-2-192009-10-302010-6-1GB/T 13388-19921992-2-192009-10-302010-6-1GB/T 14139-19931993-2-62009-10-302010-6-1GB/T 14140.1-1993,GB/T1993-2-62009-10-302010-6-1 GB/T 14141-19931993-2-62009-10-302010-6-1GB/T 14144-19931993-2-62009-10-302010-6-1GB/T 14146-19931993-2-62009-10-302010-6-1GB/T 14600-19931993-8-262009-10-302010-5-1GB/T 14601-19931993-8-262009-10-302010-5-1GB/T 14603-19931993-8-262009-10-302010-5-1GB/T 14604-19931993-8-262009-10-302010-5-1GB/T 14851-19931993-12-302009-10-302010-5-1GB/T 15909-19951995-12-202009-10-302010-5-1GB/T 16942-19971997-8-132009-10-302010-5-1GB/T 16943-19971997-8-132009-10-302010-5-1GB/T 16944-19971997-8-132009-10-302010-5-1GB/T 16945-19971997-8-132009-10-302010-5-12009-10-302010-6-12009-10-302010-6-1的试验方法2009-10-302010-6-1 2009-10-302010-6-12009-10-302010-6-12009-10-302010-6-1含量的测试方法2009-10-302010-6-1 2009-10-302010-6-1。
75硅铁标准
75硅铁标准
75硅铁（75% Silicon Iron）是一种合金材料，由75%的硅和25%的铁组成。
它主要用于钢铁工业中作为脱氧剂和合金添加剂使用。
以下是75硅铁的一些标准：
化学成分：
- 硅含量：≥75%
- 铁含量：≤25%
- 碳含量：≤0.05%
- 硫含量：≤0.02%
- 磷含量：≤0.04%
粒度要求：
- 粒度：根据用户要求，通常为10-100mm或10-50mm颗粒大小物理性能：
- 密度：约为7.2-7.8 g/cm³
- 熔点：约为1420-1460℃
- 硬度：硅铁的硬度较低，通常在50-100 HB之间
- 熔化性：易于在高温下融化
应用：
- 脱氧剂：由于硅具有良好的脱氧能力，75硅铁被广泛用作脱氧剂，用于钢铁冶炼中去除氧气和其他杂质。
- 合金添加剂：硅铁中的硅可以提供强韧性和耐磨性，因此在生产特殊钢、铸件和合金时常被用作添加剂。
标准和规范：
- 75硅铁的制备和质量要求可以根据不同的国家和生产厂家而有所不同，通常遵循国际标准，如中华人民共和国标准。
- 具体的标准可以包括化学成分、粒度要求、物理性能和应用等方面的要求。
需要注意的是，以上标准和规范仅为一般参考，具体的75硅铁标准可能会因地区、厂家和应用而有所不同。
高纯硅铁技术操作规程
高纯硅铁技术操作规程（12500kV A敞口电炉）1 成品规格1．1技术要求1．1．1高纯硅铁按杂质含量，分为如下几个牌号，其化学成份应符合表1规定。
1．1．2需方如对化学成份有特殊要求，可与供方另行协商供货。
1．2物理状态1．2．1高纯硅铁浇注厚度：各种规格高纯硅铁浇注的铁锭厚度不得超过100mm，每炉的偏析不大于4%。
1．2．2高纯硅铁供货粒度按表2规定。
1．2．3需方对供货粒度有特殊要求，可与供方协商解决。
2 原料技术条件冶炼高纯硅铁所用的原料有硅石、碳质还原剂（兰炭、石油焦、煤、木块等）、铁料（铁鳞、钢屑、硅钢屑等）。
2．1硅石2．1．1化学成份SiO2≥99%，Al2O3≤1.0%，P2O5≤0.02%，Ti≤0.02%，其它杂质总和小于1.0%。
2．1．2物理性质2．1．2．1硅石表面应清洁，不粘有泥土等杂质，入炉前一定要水洗干净。
2．1．2．2硅石要有足够高的机械强度和良好的高温抗爆性，通常抗爆率不应低于80%。
2．1．2．3硅石的粒度为60-120mm。
2．1．3不同产地的硅石应分开存放。
2．2碳质还原剂2．2．1化学成份石油焦：固定碳≥86%，灰份≤1%，挥发份≤13%。
兰碳：固定碳≥85%，灰份≤6%，挥发份≤9%。
2．2．2物理性质石油焦：粒度0-15mm，不得有外来夹杂。
兰炭：粒度5-18mm，不得混有外来夹杂。
木块：粒度≤100mm的硬杂木。
不同产地的碳质还原剂应分别存放。
2．3铁料2．3．1冶炼高纯硅铁的铁料为铁鳞、钢屑、硅钢屑等，不准含有有色金属屑、鳞、铸铁屑、鳞和合金钢屑、鳞等，不准用生锈严重的钢屑和铁鳞，钢屑长度不应超过100mm，铁料应清洁，不得有明显的外来夹杂。
3 精炼剂3．1生产高纯硅铁使用的精炼剂有石英砂、硅石粉、石灰粉、萤石粉、工业碱、铁鳞、铁精矿等。
3．2精炼剂的粒度：石灰小于10mm，其它均小于5mm。
3．3精炼剂按要按技术人员规定的比例配制，并混合均匀。
硅铁的国家标准
中华人民共与国国家标准硅铁GB2272-87本标准适用于炼钢与铸造作脱氧剂或合金元素加入剂用的硅铁。
1技术要求1.1牌号与化学成分1.1.1硅铁按硅及其杂质含量.分为十六个牌弓,其化学成分应符合表1的规定表11.2物理状态1.2.1硅铁浇铸厚度:FeSi75系列各牌号硅铁锭不得超过100mm;FeSi65锭不得超过80mm。
硅的偏析不大于4%。
1.2.2硅铁供货粒度应按表2的规定。
表2 硅铁供货粒度注:FeSi45小于20mm×20mm的数量不得超过总重的15%。
1.2.3需方对供货粒度有特殊要求,可与供方协商解决2试验方法2.1取样化学分析试样的采取按GB4010－83(铁合金化学分析用试样的采取法)进行。
2.2制样化学分析用试样的采取法拉GB 4332—84铁合金化学分析用试样制备法》进行。
2.3化学分析方法硅铁的化学分析方法按GB 4333、l－4333.8—84《硅铁化学分析方法》进行。
2.4粒度试验采用方孔钢板筛或方孔筛进行筛。
3检验规则3.1质量检查与验收产品的质量检查相验收应符合GB3650一83《铁合金验收、包装、储运、标志与质量证书的一般规定》的要求。
3.2组批硅铁按同一牌号组批,但含Si量波动范围不应超过3%。
4包装、储运、标志与质量证明书4.1包装硅铁根据需方要求,可采用散袋、集装箱、袋装等形式发货。
采用袋装或集装箱包装时.包装外面应有明显标志。
4.2储运、标志与质量证明书产品的储运、标志与质量证明书应将合GB3650－83《铁合金验收、包装、储运、标志与质量证明书的一般规定》的要求。
附加说明;本标准由中华人民共与国冶金工业部提出。
本标准由上海铁合金厂负责起草。
本标准主要起草人陈震华、丁明。
本标准中FeSi75Al0、5-A、FeSi75-Al1、0-A、FeSi75Al1、5-A、FeSi75Al2、0-A、FeSi75Al2、0-B、FeSi75-A、FeSi75-B牌号标准水平等级标记为“Y”。
硅铁交割标准
硅铁交割标准
硅铁交割标准具体如下：
1.商品品位。
硅铁的硅含量应不少于72%，铁含量应不少于24%，其他杂质含量应小于3%。
2.商品包装。
硅铁应采用钢桶或编织袋包装，每个包装单位应为5吨。
3.商品质量。
交割的硅铁应符合国家相关标准，不得有发霉、变质、发热、自燃等质量问题。
4.商品交割地点。
硅铁期货的交割地点为上海期货交易所指定的交割仓库。
5.商品交割时间。
硅铁期货的交割时间由上海期货交易所指定，通常为合约到期月份的15日至25日之
间的任意一天。
1。
GBT 2272—200×硅铁(送审稿)改
GBT 2272—200×硅铁(送审稿)改前言本标准修改采纳ISO 5445:1980《硅铁—规格和交货条件》（英文版）。
本标准按照ISO 5445:1980重新起草。
为了方便比较，在附录A中列出了本标准章条编号和ISO 5445:1980章条编号的对比一览表。
考虑到我国国情，在采纳ISO 5445:1980时，本标准在采纳国际标准时进行了修改。
这些技术性差异用垂直单线标识在它们所涉及的条款的页边空白处。
在附录B中给出了技术性差异及其缘故的一览表以供参考。
为便于使用，关于ISO 5445:1980，本标准还做了下列编辑性修改：——将“本国际标准”一词改为“本标准”；——用小数点“.”代替作为小数点的逗号“，”；——删除ISO 5445:1980的前言。
本标准代替GB/T 2272-1987《硅铁》。
本标准与GB/T 2272—1987相比要紧变化如下：——增加了标准的前言；——增加了规范性引用文件；——增加了精炼特种硅铁7个牌号；——对化学成分作了调整；——增加了附录A和附录B。
本标准的附录A和附录B为资料性附录。
本标准由中国钢铁工业协会提出。
本标准由冶金工业信息标准研究院归口。
本标准起草单位：武钢森泰通山铁合金有限公司、腾达西北铁合金有限责任公司、冶金工业信息标准研究院、湖北华尔靓浦项硅科技有限公司、中钢集团吉林铁合金有限公司。
硅铁1 范畴本标准规定了硅铁的技术要求、试验方法、检验规则、包装、储运、标志和质量证明书。
本标准适用于炼钢和铸造作脱氧剂或合金元素加入剂及金属镁等行业使用的硅铁。
2 规范性引用文件下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。
凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓舞按照本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。
凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。
GB/T 3650 铁合金验收、包装、储运、标志和质量证明书的一样规定GB/T 4010 铁合金化学分析用试样采取和制备（GB/T 4010-1994，neq ISO 4552：1987）GB/T 4333.1 硅铁化学分析方法高氯酸脱水重量法测定硅量GB/T 4333.2 硅铁化学分析方法铋磷钼蓝光度法测定磷量（neq ΓОСТ13230.4-1981）GB/T 4333.3 硅铁化学分析方法高碘酸钾光度法测定锰量（neq ΓОСТ13230.5-1981）GB/T 4333.5 硅铁化学分析方法 EDTA容量法测定铝量（neq JIS G 1312-1989）GB/T 4333.6 硅铁化学分析方法二苯基碳酰二肼光度法测定铬量（neq ΓОСТ13230.6-1981）GB/T 4333.7 硅铁化学分析方法色层分离硫酸钡重量法测定硫量GB/T 4333.8 硅铁化学分析方法原子吸取光谱法测定钙量（neq ΓОСТ13230.4-1981）GB/T 4333.10 硅铁化学分析方法红外线吸取法测定碳量（eqv ASTM E1019-1985）GB/T ××××硅铁多元素含量的测定 ICP原子发射光谱法GB/T 13247 铁合金产品粒度的取样和检测方法（GB/T 13247-1991，neq ISO 4551：1987）3 技术要求3.1 牌号及化学成份3.1.1 硅铁按硅及其杂质含量的不同，分为21个牌号，其化学成分应符合表1规定。
硅铁技术资料
硅铁技术资料铁合金焦是用于矿热炉冶炼铁合金的焦炭。
铁合金焦在矿热炉中作为固态还原剂参与还原反应，反应主要在炉子中下部的高温区进行。
以冶炼硅铁合金为例，其反应式为SiO2（液）+2C（固）=Si（液）+2CO（气），随着反应的进行，焦炭中的固定碳不断消耗，主要以CO 形式从炉顶逸出。
焦炭灰份中的三氧化二铝、氧化铁、氧化钙、氧化镁和五氧化二磷等，部分或大部分被还原出来，进入合金中；未参加反应的部分进入炉渣。
焦炭中的硫和硅生成硫化硅和二硫化硅后挥发掉。
冶炼不同品种的铁合金，对焦炭质量的要求不一，生产硅铁合金时对焦炭质量要求最高，所以能满足硅铁合金生产的铁合金焦，一般也能满足其他铁合金生产的要求。
硅铁合金生产对焦炭的要求是：固定碳含量高，灰份低，灰中有害物质三氧化二铝和五氧化二磷等的含量要少，焦炭反应性好，焦炭电阻率特别是高温电阻率要大，挥发份要低，有适当的强度和食粮的块度，水分少而稳定。
微硅粉形成：在冶炼硅铁时，通过烟道排出的硅蒸气经收尘装置收集而得到的粉尘。
平均粒径：0.1-0.15um 最小粒径：0.01um比表面积：28-35米2/克颜色：灰白、白度40-50。
与水泥混合后呈灰黑色，拌成混凝土后呈青灰色。
比重：2.1-3.0克/cm3堆比重：200-250Kg/m3用途：微硅粉以它细微的粒度极强的活性和良好的保温性能及耐高温性能广泛应用于水泥、混凝土、耐火浇注料、化肥、化工、橡胶等行业。
硅石是硅质耐火材料的主要原料。
硅石也称石英岩，主要矿物是石英SiO2，其它成分均为杂质。
由于生成条件不同，工艺要求各有侧重，所以有多种分类方法。
1.按硅石的组织结构分类耐火材料工业用的硅石可以分为结晶硅石（再结晶石英岩）和胶结硅石（胶结石英岩）。
⑴结晶硅石是由硅质砂岩（石英砂岩）经变质作用再结晶而成得变质岩。
硅质砂岩中的硅质胶结物在地质条件作用下而在原石英颗粒表面再结晶，成为石英颗粒的增大部分。
因此，其组织结构特征是：由结晶的石英颗粒所组成，石英颗粒间没有胶结物或极少（3%～8%）；由于变质过程中的再结晶作用而使石英颗粒紧密地连接在一起，并且构成了原硅质砂岩所没有的各种变晶结构，如锯齿结构、花岗岩结构和镶嵌结构等。
《铁合金产品牌号表示方法》国家标准(草案)编制说明
《铁合金术语》编制说明（征求意见稿）2008年12月《铁合金术语》国家标准（征求意见稿）编制说明一、制定标准的目的《铁合金术语》国家标准是铁合金行业重要的基础标准之一，是进行技术交流、贸易、生产和科研不可缺少的工具。
随着科学技术，市场经济，国际贸易的发展，经济全球化，此标准的作用越来越大。
另一方面，近几年来我国铁合金产业发展迅猛，现已成为世界上第一生产和出口大国，因此修订术语标准更为必要，不仅使铁合金术语得到进一步统一、规范，而且还将提高整个铁合金产品标准化水平，将进一步推动国内外铁合金行业技术交流和贸易。
二、任务来源及有关工作根据全国钢标准化技术委员会钢标委[2008]01号文《关于下达全国钢标委2008年第一批国家标准制修订项目计划的通知》的要求，《铁合金术语第1部分材料》、《铁合金术语第2部分取样和制样》、《铁合金术语第3部分筛分》国家标准由中钢集团吉林铁合金股份有限公司、冶金工业信息标准研究院等负责修订起草。
计划编号为20077312-T-605、20077313-T-605、20077314-T-605，该项目要求2009年完成。
为了完成这项任务我们做了如下工作。
首先查阅GB/T14984-1994《铁合金术语》标准档案，并收集、整理了国内外铁合金产品标准，对有关资料进行了全面细致地分析，在分析过程中，广泛吸收了我公司内技术、生产、试验、检验及经营等方面专家的意见。
《铁合金术语第1部分材料》修改采用ISO8954.1-1990，《铁合金术语第2部分取样和制样》修改采用ISO8954.2-1990，《铁合金术语第3部分筛分》等同采用ISO8954.3-1990，并在GB/T14984-1994的基础上起草了以上国家标准征求意见稿，向全国生铁及铁合金标准化技术委员会委员及有关单位征求意见。
三、编制原则认真贯彻落实全国采用国际标准工作会议的精神，能等同采用的最好等同采用，不能等同采用的修改采用。
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中华人民共和国国家标准硅铁GB2272-87
本标准适用于炼钢和铸造作脱氧剂或合金元素加入剂用的硅铁。
1技术要求
1.1牌号和化学成分
1.1.1硅铁按硅及其杂质含量．分为十六个牌弓，其化学成分应符合表1的
规定
表1
1.2物理状态
1.2.1硅铁浇铸厚度：FeSi75系列各牌号硅铁锭不得超过100mm；
FeSi65锭不得超过80mm。
硅的偏析不大于4%。
1.2.2硅铁供货粒度应按表2的规定。
表2 硅铁供货粒度
注：FeSi45小于20mm×20mm的数量不得超过总重的15%。
1.2.3需方对供货粒度有特殊要求，可与供方协商解决
2试验方法
2.1取样
化学分析试样的采取按GB4010－83（铁合金化学分析用试样的采取法）
进行。
2.2制样
化学分析用试样的采取法拉GB 4332—84铁合金化学分析用试样制备法》
进行。
2.3化学分析方法
硅铁的化学分析方法按GB 4333. l－4333．8—84《硅铁化学分析方法》
进行。
2.4粒度试验采用方孔钢板筛或方孔筛进行筛。
3检验规则
3.1质量检查和验收
产品的质量检查相验收应符合GB3650一83《铁合金验收、包装、储运、
标志和质量证书的一般规定》的要求。
3.2组批
硅铁按同一牌号组批，但含Si量波动范围不应超过3%。
4包装、储运、标志和质量证明书
4.1包装
硅铁根据需方要求，可采用散袋、集装箱、袋装等形式发货。
采用袋装或集
装箱包装时．包装外面应有明显标志。
4.2储运、标志和质量证明书
产品的储运、标志和质量证明书应将合GB3650－83《铁合金验收、包装、
储运、标志和质量证明书的一般规定》的要求。
附加说明；
本标准由中华人民共和国冶金工业部提出。
本标准由上海铁合金厂负责起草。
本标准主要起草人陈震华、丁明。
本标准中
FeSi75Al0.5-A、FeSi75-Al1.0-A、FeSi75Al1.5-A、FeSi75Al2.0-A、FeSi75Al2.0-B、FeSi75-A、FeSi75-B牌号标准水平等级标记为“Y”。
其他牌号标准水平等级标记为“I”。