离子色谱样品前处理方法!

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IC IC 六、离子色谱中的样品前处理
IC IC
概述
样品预处理的目的:
z保护分离柱
z改善谱图
处理的目标:
z使被测组分在溶液中呈离子形态;
z消除干扰组分
IC IC
常用的处理方法
1 稀释
2 过滤
3 固相萃取
4 消化
5 燃烧
6 萃取
IC IC
一、样品稀释
阴离子分析
z稀释剂:水、淋洗液
z淋洗液稀释的优点:可以减小系统峰
z对于低含量分析(< 0.5 mg/L),建议用淋洗液稀释
z通常,也可以用水加浓淋洗液进行稀释
IC IC
一、样品稀释
阳离子分析
z稀释剂:C(HNO3)=1 mmol/L
z稀释后的pH值应当在3左右(可以用pH计检查)
(尤其是高价态离子)
z样品的处理应当在塑料容器中进行(玻璃中的Na 离子会被硝酸溶出)
IC IC
何时需要稀释?
z当被测离子浓度大于100mg/L时要进行稀释;
z理想的直接进样范围:0.5~50 mg/L;
z阳离子分析时使用10uL进样环;
z当阴阳离子总浓度大于1000 ppm时要稀释;
z含量未知的样品:首先高度稀释
IC IC
二、过滤
z使用0.45 um的过滤膜,可能的话用0.22um过滤膜;
z为保护分离柱,建议对所有样品过滤;
z对于某些难溶样品,可以先进行粗滤或离心以除去大颗粒成分。

不过,需要注意的是,被颗粒吸
附带走的离子将不被检测。

IC IC
三、固相萃取
固相萃取利用的是选择性保留的原理。

萃取柱内的填料有多种(吸附剂)。

固相萃取的过程:
z平衡
z保留
z清洗
z洗脱
z再生
IC IC
三、固相萃取
z并非每次都经历所有步骤。

通常的情况是,干扰组分被保留在萃取柱上,而被
测离子不被保留,这样清洗和淋洗都不必要。

z通常,杂质存在的基体决定萃取的类型。

对于水相基体,非极性的或含有离子功能基团的物质一
般可以用非极性或离子交换吸附剂来萃取。

极性
吸附剂适于从非极性介质中萃取极性物质。

IC IC
几种固相萃取柱
1 H+柱(IC-H)
2 OH-柱(IC-OH)
3 Ag+柱(IC-Ag)
4 Ba2+柱(IC-Ba)
5 非极性固相萃取(IC-RP)
6 极性固相萃取
7 吸附柱
IC IC
H+柱(IC-H)
z柱填料:R-SO3-H+
z用于阴离子分析
IC IC
H +柱(
IC-H )
应用举例:
z 样品中阳离子(例如Ca 2+,Mg 2+)含量太高,谱前峰太宽,使得前面的阴离子峰被掩盖;
z 除去样品中的CO 3 2-/HCO 3-;(也可以用超声或通氮气去除)
z 碱性样品的基体消除;
NaOH + R-SO 3-H + ÆH2O +R-SO 3-Na +
z
离子排斥色谱中消除样品中的阳离子。

IC IC
OH-柱(IC-OH)
z用于阳离子分析,阴离子交换剂为OH-。

IC IC
OH-柱(IC-OH )
应用举例:
z 对于强酸性样品(pH<2),可以先用OH-柱将pH 提高,然后用HNO 3调节pH 到3。

HCl + R-NH 3+OH -ÆH2O + R-NH 3+Cl -
IC IC
Ag+柱(IC-Ag)
z去除卤素离子(Cl-、Br-、I-)。

z为了避免Ag+进入分离柱,经过Ag+柱后的样品还需要通过一阳离子交换柱(例如IC-H柱)。

IC IC
Ba2+柱(IC-Ba)
z去除SO4 2-离子
z(实验发现使用该柱离子损失较大,目前该技术还有待完善)
IC IC 非极性固相萃取(IC-RP)
z几种非极性吸附剂:
C18(十八烷基)、C8(辛基)、C2(乙基)、
PH(苯基)、CH(环己基)
z最常用的是C18(或RP-18)
IC IC 非极性固相萃取(IC-RP)
何时使用?
z样品中含有有机物时;
z富集重金属络合物然后测定;或从干扰基体中萃取重金属络合物(例如盐水中的重金属);
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极性固相萃取
z几种极性吸附剂:
CN(氰丙基)、2OH(二醇)、SI(硅酸)、AL
(氧化铝)等等。

IC IC
极性固相萃取
用途:
z萃取过量的硫酸盐(氧化铝);
(F-也被去除,仅当必要时使用)
z富集硫酸盐,然后用氨水洗脱(氧化铝);
z从非极性基体中富集极性物质。

IC IC
吸附柱
z另外一种消除有机干扰物质(例如胶体,染料等)的方法是活性炭吸附后过滤。

z所用的光谱纯活性炭必须尽可能纯。

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消解
z对于阳离子分析,多种矿化手段可以使用。

干法消解、加酸后干法消解、湿法消解等等。

z无论哪种方法,都要确保:
1 含量变化尽量小(空白值)
2 有机基体要完全破坏
3消解试剂要尽可能完全赶掉
IC IC
消解
z铂金坩埚中灰化已用于多种样品。

残渣用少量硝酸溶解后稀释,然后测定。

z湿法灰化的空白较高,但在某些情况下生成的残渣溶解性会好一些。

z对于阴离子分析,不能使用开放式消解。

应当在密闭容器中消解,然后碱性介质吸收。

z Na2CO3/K2CO3熔融法可用于测定硅酸盐样品中的二价阳离子和硅酸盐。

IC IC
燃烧法
z燃烧法可用于测定有机物中的卤素及硫。

z该方法不适合痕量分析。

样品含量应在百分范围内,至少0.01…0.1%。

IC IC
萃取法
z分析油或溶剂样品中的离子,建议使用水或淋洗液萃取的方法。

z带入水相的溶剂可以通过固相萃取的方法去除。

z如果要测定全部元素含量,则需要燃烧法。

IC IC
前处理柱货号
z IC-RP 样品预处理柱:6.1012.000
z IC-H 样品预处理柱:6.1012.010
z IC-Ag 样品预处理柱:6.1012.020
z IC-OH 样品预处理柱:6.1012.030
IC IC 离子交换剂(柱)的处理
1 IC-H 样品预处理柱(6.1012.010 ):
z用注射器推或真空吸的方法使10mL HCl(10%)通过交换柱,然后用超纯水洗去Cl-。

z如果再生的交换柱一段时间不用(2天),应该在使用前用5mL超纯水再次冲洗。

z根据测定的离子,也可以用别的酸(例如15%的HNO
)代替10%的HCl。

3
IC IC 离子交换剂(柱)的处理
2 阳离子交换剂的平衡与再生(批处理)
z向约60g 离子交换剂中加入约150mL10% HCl,然后搅拌15分钟。

z将溶液轻轻倒掉,加入超纯水,然后在轻轻倒掉。

重复几次,直到倒出的溶液不含氯离子。

z将交换剂保存在超纯水中。

一段时间后(2天),将溶液轻轻倒掉更新,然后装柱使用。

z根据测定的离子,也可以用别的酸(例如15%的HNO
)代替10%的HCl。

3
IC IC 离子交换剂(柱)的处理
3 IC-OH 样品预处理柱(6.1012.030 )的再生:
z再生方法与阳离子基本相同,不同的是用NaOH 或KOH代替酸。

IC IC 离子交换剂(柱)的处理
4 IC-RP 样品预处理柱(6.1012.000 )的活化与再
生:
z IC-RP在使用前必须用10mL甲醇活化,然后用去离子水冲洗。

z再生的方法与活化相同,只是甲醇的量要增加到20…50mL。

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