第5章 半导体二极管及其应用

5.2.2 二极管的参数
(1) 最大整流电流IF
R
iD + vD -
5.2.2 二极管的参数
(2) 反向击穿电压VBR和最大反向工作电压VRM
iD
为了保证二极管安全工作： VRM =0.5VBR
VBR O
D
(3) 反向饱和电流IS
5.2.2 二极管的参数
(4) 正向压降VF
R iD +
i D =– IS 0.5 i D /m A 1.0
P N P 型 支持衬底
( d) 代 表 符 号
(c)平面型
5.2.2 二极管的伏安特性
二极管的伏安特性曲线可用下式表示
iD I S (e
v D / VT
R
iD + vD -
1)
正向特性
①
i D /m A
20 15 10
i D /m A
20
反向特性
V th
60 0 .2 0 .4 0 .6 0 .8 死区 40 20
高频电路。
(1) 点接触型二极管
二极管的结构示意图
(a)点接触型
(2) 面接触型二极管
PN结面积大，用 于工频大电流整流电路。
往往用于集成电路制造 艺中。PN 结面积可大可小， 用于高频整流和开关电路中。
(b)面接触型
(3) 平面型二极管
阳极 引线 阴极 引线
(4) 二极管的代表符号
阳极 a k 阴极
势垒电容示意图
(2) 扩散电容CD
扩散电容示意图
二极管正向导电时，多子扩 散到对方区域后，在PN结边界上 积累，并有一定的浓度分布。积累 的电荷量随外加电压的变化而变化， 当PN结正向电压加大时，正向电 流随着加大，这就要有更多的载流 子积累起来以满足电流加大的要求； 而当正向电压减小时，正向电流减 小，积累在P区的电子或N区的空 穴就要相对减小，这样，就相应地 要有载流于的“充入”和“放出”。 因此，积累在P区的电子或N区的 空穴随外加电压的变化就用PN结 的扩散电容来描述。扩散电容反映 了在外加电压作用下载流子在扩散 过程中积累的情况。
3. PN结的其他特性
阳极 a k 阴极
( d) 代 表 符 号
其中
r——二极管等效电阻
C的阻抗＝1/(ωC)
可见，频率ω越高， C的阻抗越小；
当ω→∞， C的阻抗＝ 0；
C ——二极管等效电容，PF 级，非常小。
结果，影响到二极管的状态；
3. PN结的其他特性 3. 温度特性
当环境温度升高时，少数载流子的数目增多，
5.1.4 PN结的形成及特性
1. PN结的形成
2. PN结的单向导电性
3. PN结的其他特性
4. PN结的高频等效电路及最 高工作频率
1. PN结的形成
在一块本征半导体在两侧通过扩散不同的杂质,分别 形成N型半导体和P型半导体。此时，将在N型半导体 和P型半导体的结合面上形成PN结。
对于P型半导体和N型半导体结合面，离 子薄层形成的空间电荷区称为PN结。 在空间电荷区，由于缺少多子，所以也 称耗尽层。 将在N型和P型半导体的结合面上发生如下物理过程: 因浓度差
反向饱和电流随之增大。
4. 电阻特性
非线性电阻特性——PN结正偏时，PN结导通， 电阻较小；PN结反偏时，PN结截止，电阻较大。
5.2 半导体二极管
5.2.1 半导体二极管的结构
实物图片
5.2.2 二极管的伏安特性及其参数
5.2.1 半导体二极管的结构
在PN结上加上引线和封装，就成为一个二极 管。二极管按结构分有点接触型、面接触型和平 PN结面积小，结电 面型三大类。 容小，用于检波和变频等
(3) PN结V- I 特性表达式
iD I S (e
其中
v D / VT
1)
i D /m A 1.0
IS ——反向饱和电流
VT ——温度的电压当量
– 1.0
0.5 i D =– IS
– 0.5
0
0.5
1.0
D /V
且在常温下（T=300K）
PN结的伏安特性
VT
kT q
0 . 026 V 26 mV
2. P型半导体
因三价杂质原子 在与硅原子形成共价 键时，缺少一个价电 子而在共价键中留下 一个空穴。
在P型半导体中空穴是多数载流子，它主要由掺 杂形成；自由电子是少数载流子， 由热激发形成。 空穴很容易俘获电子，使杂质原子成为负离子。 三价杂质 因而也称为受主杂质。
3. 杂质对半导体导电性的影响
1
T=300 K室温下,本征硅的电子和空穴浓度: n = p =1.4×1010/cm3 n=5×1016/cm3
2 掺杂后 N 型半导体中的自由电子浓度: 3 本征硅的原子浓度: 4.96×1022/cm3
以上三个浓度基本上依次相差106/cm3 。
掺入杂 质，不仅本征半导体的导电能力有很大的 提高，而且使其导电特性的稳定性（主要对温度 变化）更强。
多子的扩散运动 由杂质离子形成空间电荷区 空间电荷区形成内电场 内电场促使少子漂移 内电场阻止多子扩散 最后,多子的扩散和少子的漂移达到动态平衡。
2. PN结的单向导电性
当外加电压使PN结中P区的电位高于N区的电位，称为 加正向电压，简称正偏；反之称为加反向电压，简称反偏。
(1) PN结加正向电压时
O
3 .7 V


t
( 2 ) v I (V on V REF ) 3 . 7 V 时
R + +
I /V

斜 率 V R E F + V o n = 3 .7 V
I

Von VR EF
O


t
( c)
(d)
5.3 单相整流滤波电路
5.3.1 单相半波整流电路 5.3.2 单相桥式整流电路
电子空穴对——由热激发而 产生的自由电子和空穴对。
空穴的移动——空穴的运动
是靠相邻共价键中的价电子 依次充填空穴来实现的。
5.1.2 本征半导体
1
T=300 K室温下,本征硅的电子和空穴浓度: n = p =1.4×1010/cm3
2 本征硅的原子浓度: 4.96×1022/cm3
本征半导体中虽然存在两种载流子，但因本征载流子 的浓度很低，所以总的来说导电能力很差。 本征半导体的载流子浓度，除与半导体材料本身的性质 有关以外，还与温度密切相关，而且随着温度的升高， 基本上按指数规律增加。 因此，本征载流子的浓度对温度十分敏感。
(1) 理想二极管等效电路 忽略二极管的正向压降和反向电流 (2) 考虑正向压降的等效电路 考虑二极管的正向压降，硅管：UD（ON）=0.7V 锗管：UD（ON）=0.3V
例 二极管门电路如图所示，A、B为输入端，F为输出 端，根据输入信号波形分析各二极管的工作状态，并 该电路的输出波形
半导体二极管图片
2 应用举例
+
R + D +
R + Von
2. 限幅电路
例2.4.2 提示
(1 ) v I (V on V REF ) 3 . 7 V 时
R + +
I
VR EF ( a)
O

I

O

VR EF (b)
O /V
O /V

I
V R EF
5.3.3 滤波电路
5.3.1 单相半波整流电路
1. 单相半波整流电路 1）电路的组成及工作原理 图所示为单相半波整流电路。 由于流过负载的电流和加在负载两端的电压只有 半个周期的正弦波,故称半波整流。
5.1 半导体的基础知识
5.2 半导体二极管 5.3 单相整流滤波电路 5.4 稳压二极管及其稳压电路
5.1 半导体的基本知识
5.1.1 半导体材料
5.1.2 本征半导体
半导体的导电机制
5.1.3 杂质半导体 5.1.4 PN结的形成及特性
5.1.1 半导体材料
根据物体导电能力(电阻率)的不同，来划分
• 低电阻 • 大的正向扩散电流
PN结加正向电压时的导电情况
2. PN结的单向导电性 在一定的温度条件下，由本征激发决定的
当外加电压使PN结中P区的电位高于N区的电位，称为 少子浓度是一定的，故少子形成的漂移电流是 加正向电压，简称正偏；反之称为加反向电压，简称反偏。 恒定的，基本上与所加反向电压的大小无关，
导体、绝缘体和半导体。 典型的半导体有硅Si和锗Ge以及砷化镓GaAs等。
半导体有温敏、光敏和掺杂等导电特性。
5.1.2 本征半导体 1、半导体的共价键结构
硅和锗的原子结构简化模型及晶体结构
5.1.2 本征半导体
2、本征半导体中的载流子
本征半导体——化学成分纯净的半导体。它在物理结构上呈单 晶体形态。
4. 杂质半导体载流子的漂移运动和扩散运动
半导体的载流子的运动是杂乱无章的热运动， 不形成电流.
漂移运动：在电场作用下半导体中载流子的定向运 动。漂移运动产生的电流称为漂移电流。
当半导体局部光照或有载流子从外界流入，半 导体内载流子浓度分布将不均匀，载流子会从浓度 高的区域向浓度低的区域运动。
扩散运动：因浓度差而引起载流子的定向运动.扩 散运动产生的电流称为扩散电流。
为了尽量保持半导体的原有晶体结构，掺入的杂质 主要是微量的价电子数较为接近的三价或五价元素。
N型半导体——掺入五价杂质元素（如磷） 的半导体。
P型半导体——掺入三价杂质元素（如硼） 的半导体。
1. N型半导体
因五价杂质原子中 只有四个价电子能与周 围四个半导体原子中的 价电子形成共价键，而 多余的一个价电子因无 共价键束缚而很容易形 成自由电子。 在N型半导体中自由电子是多数载流子，它主要由杂质原 子提供；空穴是少数载流子, 由热激发形成。 提供自由电子的五价杂质原子因带正电荷而成为正离子， 因此五价杂质原子也称为施主杂质。
5.1.3 杂质半导体
在本征半导体中掺入某些微量元素作为杂质，可 使半导体的导电性发生显著变化。
1
T=300 K室温下,本征硅的电子和空穴浓度: n = p =1.4×1010/cm3
n=5×1016/cm3
2 某种掺杂半导体中的自由电子浓度:
掺入杂质的本征半导体称为杂质半导体。
5.1.3 杂质半导体
这个电流也称为反向饱和电流。
(2) PN结加反向电压时
• 高电阻 • 很小的反向漂移电流
PN结加反向电压时的导电情况
PN结加正向电压时，呈现低电阻， 具有较大的正向扩散电流； PN结加反向电压时，呈现高电阻， 具有很小的反向漂移电流。 由此可以得出结论：PN结具有单
向导电性。
2. PN结的单向导电性
I D (V DD V on ) / R 0 . 93 mA
+
V DD iD
+
（2）VDD=1V 时 理想模型
VD 0 V I D V DD / R 0 . 1 mA
D
VD

D

恒压模型
V D V on 硅 0 . 7 V I D (V DD V on ) / R 0 . 03 mA
{end}
பைடு நூலகம் 2 应用举例
1. 二极管的静态工作情况分析
（1）VDD=10V 时 （R=10k）
结论：当VI≥10 理想模型
VD
D DD
Von时，用理想模型。 当V 接近 Von时，用恒压降模型。 0 V I I V / R 1 mA
V DD iD
恒压模型
V on 硅 0 . 7 V
vD
– 1.0 – 0.5 0 0.5 1.0
D /V
PN结的伏安特性
导通压降： V on 硅 0 . 7 V
V on 锗 0 . 3 V
（硅二极管典型值） （锗 二极管典型值）
5.2.2 二极管的参数
(5) 极间电容CB或 最高工作频率
C的阻抗＝1/(ωC)
5.2.2 二极管的等效电路
15 10 5 0
V BR
40
5 30 20 10 0 10 20 30 40
D /V
0 .2 0 .4 0 .6
V BR
②
10 20 30
D /V
V th
反向击穿特性
③
40
i D / A
i D / A
硅二极管2CP10的V-I 特性
锗二极管2AP15的V-I 特性
3. PN结的其他特性 1 PN结的反向击穿
当PN结的反向电压 增加到一定数值时，反 向电流突然快速增加， 此现象称为PN结的反向 击穿。
VBR O iD
热击穿——不可逆
雪崩击穿 齐纳击穿
D
电击穿——可逆
3. PN结的其他特性 2 PN结的电容效应
(1) 势垒电容CB
PN结交界处形成的势垒区， 是积累空间电荷的区域，当PN结 两端电压改变时，就会引起积累 在PN结的空间电荷的改变，从而 显示出PN结的电容效应。用势垒 电容来描述二极管势垒区的空间 电荷随电压变化而产生的电容效 应。PN结的空间电荷随外加电压 的变化而变化，当外加正向电压 升高时，N区的电子和P区的空穴 进入耗尽区，相当于电子和空六 分别向势垒电容“充电”。当外 加电压降低时，又有电子和空穴 离开耗尽区，好像电子和空穴从 势垒电容放电。