第四讲 基本逻辑门版图设计

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5. 有源区的图形(与多晶硅交叠处除外)和N+注 入区交集处即形成N+有源区, N+注入区比所交 有源区要大些。
6. 两层半布线 金属,多晶硅可做连线,所注入的有源区也是 导体,可做短连线(方块电阻大)。三层布线 之间,多晶硅和注入有源区不能相交布线,因 为相交处形成了晶体管,使得注入有源区连线 断开。
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7. 三层半布线 金属1,金属2 ,多晶硅可做连线,所注 入的有源区也是导体,可做短连线(方 块电阻大)。四层线之间,多晶硅和注 入有源区不能相交布线,因为相交处形 成了晶体管,使得注入有源区连线断开。
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如何画版图 -------用反相器为例说明
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如何画版图 -------用反相器为例说明
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如何画版图 -------用反相器为例说明
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须解释的问题:
1. 有源区和场区是互补的,晶体管做在有源区处, 金属和多晶连线多做在场区上。 2. 有源区和P+,N+注入区的关系:有源区即无场氧 化层,在这区域中可做N型和P型各种晶体管,此 区一次形成。 3. 至于以后何处是NMOS晶体管,何处是PMOS晶 体管,要由P+注入区和N+注入区那次光刻决定。 4. 有源区的图形(与多晶硅交叠处除外)和P+注 入区交集处即形成P+有源区, P+注入区比所交有 源区要大些。
第四讲:基本逻辑门版图设计
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基本逻辑门的版图设计
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VDD
IN
OUT
VSS
3
或非门版图设计:
4
M
VSS
M
VSS
M
VSS
M
M
VSS
VSS
M
VSS
5
棒形图
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与非门
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ห้องสมุดไป่ตู้ 14
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如何画版图 -------用反相器为例说明
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