金相制样通用操作规程(试行)

金相制样通用操作规程（试行）
本操作规程参考《全国大学生金相技能大赛制样通用操作规程（试行）》，综合上课内容及实践经验制定的试行方案。

一．预磨操作规程
1.1手工预磨
1.在正式磨样前，清理玻璃板上的灰尘和磨料颗粒，以免影响磨样质量。

2.砂纸磨制顺序为200#，400#，600#，800#，样品无标记面为磨制面。

首先在200#砂纸上对磨制边缘进行倒角【（0.5~1）mm×45°】。

倒角方法：磨制面与砂纸呈≥45°，沿一个方向边转动边倒角。

3.在砂纸上将试样磨制面朝下，一手按住砂纸，一手握住试样（建议用大拇指，食指和中指捏持试样），略施加压力将试样紧贴砂纸从一侧推至另一侧，方向可上下磨制（图1），也可左右磨制（图2）。

然后将试样提起并返回到起始位置，再进行第二次磨制（如图3）。

如此反复进行直至磨制面平整且磨痕方向一致为止。

图1左右磨制示意图图2上下磨制示意图图3手工金相磨制手法示意图
4.依次换上400#、600#、800#砂纸进行手工磨制。

每更换一道砂纸，试样转90°使上道次的磨痕与本道次的磨痕方向垂直。

每道次磨制以磨面平整、磨痕方向一致、且覆盖上道次磨痕为止。

每换一道砂纸前将玻璃板上上一道砂纸残留沙粒擦干净再进行磨制，以免前面的粗砂粒留在玻璃板上，造成后面的细磨难于完成。

5.重复3~4步骤直至最细号砂纸。

6.预磨工序结束后，清理工作台面并整齐摆放砂纸。

1.2机械预磨
1.正式磨制前需剪砂纸，将砂纸按800#、600#、400#、200#、顺序叠放整齐，将模具小圈位置贴近砂纸两条边缘（如图4），用剪刀沿模具边缘划线，沿线剪开。

沿图4虚线部分剪开，阴影部分留下备用。

2.检查预磨机启停、运转等情况，了解预磨机转动方向(一般为逆时针方向)，检查操作工位，消除安全隐患。

图4砂纸剪裁位置示意图图5预磨机试样放置位置示意图
3.将200#水磨砂纸浸湿后平放在研磨盘中。

安装好砂纸后，调节合适的冷却水流，水流不能太大，防止溅出。

之后打开预磨机电源。

样品无标记面为磨制面。

磨制面边缘无倒角的需先行倒角【（0.5~1）mm×45°】。

倒角方法：在靠近砂纸中心位置，将试样磨制面与砂纸呈≥45°，顺时针转动倒角。

4.样品放置在如图5所示位置附近（距离中心1/3-2/3位置处），用力持住并轻轻靠向砂纸，待试样与砂纸接触良好并无跳动时，可以用力压住试样进行磨制。

当磨面平整、磨痕方向一致且完全消除上道次磨痕之后，本道次磨制结束，可依次换上从粗到细牌号水砂纸进行下道次预磨。

每换一道砂纸前，用冷却水冲洗预磨盘，以免上一道砂纸颗粒遗留影响后续制样质量。

每道次磨制时，磨痕方向与上道次的磨痕方向垂直，直至最细砂纸。

5.每一次离开预磨机工位转入其他操作前，应关闭预磨机电源及水源。

预磨工序结束后，清理工作台面并整齐摆放砂纸。

1.3预磨注意事项
1.砂纸剪的要合适，可以适当剪成椭圆形，确保能够卡住，装外壳时候注意要对其，不然会有水从缝里喷出来。

2.水管位置对准砂纸中心，水量适中不要太大，水管口不要抬得太高。

3.倒角适中，不能过大也不能过小，过小在后续的砂纸磨光过程中可能会将倒角磨掉，过大影响美观。

4.磨光过程中注意勤拿起来观察试样表面，不要长时间磨削，以免出现钻石面。

5.若磨光过程中出现了钻石面，则将试样转90度继续磨，感受一下试样表面，在磨削量少的方向加大力。

6.对于机磨，若操作过程中试样飞出，立即关机器，关水。

将试样捡回后若无大损伤可继续进行，若试样摔坏则申请更换。

二．试样抛光操作规程
1.检查抛光机启停、运转等情况，了解抛光盘转动方向(一般为逆时针方向)；检查抛光剂(抛光膏)和抛光布是否齐备；检查、清洁抛光操作工位，消除安全隐患。

2.抛光前先将抛光布进行清洗，一方面清除残留沙粒和脏东西，一方面对抛光布进行润湿。

2.将浸湿的抛光布平整地贴在抛光盘上，在将固定箍环（大圈向下）从上到下按压在抛光盘上，沿边缘按压沿边缘按压确保固定稳固。

3.开始抛光前，要使用清水冲洗试样和手，将磨制试样上可能粘带的砂粒冲洗干净，以免将砂粒带入，影响抛光效果。

4.将少量抛光膏挤到手指上，用手指将抛光膏均匀涂抹到试样表面，打开抛光机电源。

稳定拿持试样(建议使用拇指、食指和中指拿持试样)，以适当压力将试样抛光面均匀压附在抛光布表面距中心位置1/3-2/3位置进行抛光。

抛光时试样所受摩擦力随施加压力增大而变大，所需握持力也应随之增大，因此开始抛光时应注意用力握持试样样品，而不要施加过大压力，避免试样脱手飞出。

5.抛光过程中需断续性地适量添加水和抛光膏。

试样单次抛光时间不宜过长，以防止试样与抛光布之间摩擦发热，因此需按压试样5-10秒钟后拿起试样，向抛光布中心位置以点滴形式少量加水，用水抛几秒钟后，在试样表面均匀涂抹抛光膏继续抛光。

注意加水过程中试样需离开抛光布；加水后需用水抛几秒钟后再涂抹抛光膏，以免抛光膏被水冲走。

6.当试样抛光面上肉眼看不到划痕，整个抛光面平整光亮如镜，可清晰映像时，即可结束抛光转入浸蚀步骤。

也可在转入浸蚀步骤前在显微镜下观察抛光效果(显微镜观察需遵循显微观察操作规范)。

7.抛光过程中应及时将实验垃圾等集中放置于垃圾盛放器皿中。

每一次离开抛光机工位转入其他操作前，应关闭抛光机电源及水源。

抛光工序结束后，将实验器材恢复至实验前摆放位置。

三．试样腐蚀操作规程
1.腐蚀前检查腐蚀液，镊子，卫生纸，棉球是否准备齐全。

2.将试样表面及周围的残留抛光膏和脏东西用清水冲干净，若发现有冲不掉的物质可用手指轻轻抹掉。

3.腐蚀操作采用擦拭法：用镊子夹持吸满浸蚀剂的脱脂棉球擦拭抛光面(抛光面应适当倾斜)。

浸蚀过程中注意观察试样抛光面变化，待其呈浅灰白或灰色后，迅速使用清水冲洗抛光面，冲洗一分钟左右，终止浸蚀。

4.将抛光面的水在卫生纸上蘸3-5下蘸干，注意不要用卫生纸擦试样表面，将试样在卫生纸上用力按压几下吸干水分。

并将试样周围的水擦干。

5.浸蚀过程中应及时将实验垃圾如用过的棉球、棉棒等集中放置于垃圾盛放器皿中。

浸蚀工序结束后，关闭水龙头、清洁整理实验台，将实验器材恢复至实验前摆放位置。