刻蚀原理及工艺培训

维护保养
辉光前必须按下橙色按钮对电子管预热10—15min。 。 辉光前必须按下橙色按钮对电子管预热 辉光结束后须冷却15min后，才可关闭电源。 高频电源实际使用功率不能超过800W。 高频电源地线必须独立接地，不允许与其它设备共用地。 反应管需定期旋转，以便延长其使用寿命。 长期停机时反应室应抽为真空状态，以免被污染。 做完一个循环后，若不立即做下一个循环，应盖上盖子。 每天要清洁反应室，特别是密封部位，否则真空漏气。 非设备人员请勿调节高频部分，有问题通知设备人员。
使用与操作
打开控制柜断路器，再打开操作面板的电源按钮开关； 打开工作气体（N2，O2，CF4）手动阀并调整压力在0.2Mpa，压 缩空气手动阀，调节压力0.5Mpa左右； 打开真空泵与射频电源电子管“预热”按钮，预热10—20分钟； 打到“手动”状态，并按下“充气”按钮 ，报警提示开盖； 将硅片按照工艺要求装夹，并小心放入反应室内，盖好密封盖； 打到“自动”状态，并按下“运行”按钮，此时设备按工艺流程自 动运行； 结束时报警提示，关掉“运行”按钮后才能打开上盖，取片。
压力控制系统
压力控制仪 电容式薄膜压力 变送器 电子执行器 蝶阀
高频电源和匹配器技术性能
最大输出功率10~1000W 板极电压200~2700V 板极电流0~500mA 转换效率大于80% 振荡频率13.56MHz 反射功率调配小于5% 连续工作时间小于4h
刻蚀机系统原理
刻蚀工艺流程
预抽开（2-3min） 主抽开同时关预抽（2min） 开CF4和O2同时压力调节（2-3min） 开高频辉光进行刻蚀（12min） 关高频和CF4及 O2 抽真空（0.5min） 通保护N2（2min） 关主抽同时充气（1min） 到大气压蜂鸣开盖
刻蚀机培训
刻蚀机整体结构
反应室 真空系统 送气系统 压力控制系统 高频电源和匹 配器
反应室结构
石英管 上下密封圈 电机旋转台 正常辉光时为 乳白色
真空系统Biblioteka Baidu
旋片式真空泵 电磁隔断放气阀 波纹管 碟阀 预抽阀 主抽阀
送气系统
O2、CF4、N2和压缩空气 尾气、稀释、保护氮气 四氟化碳和氧气10:1的混合比例
冷热探针测试注意
确认万用表工作正常，量程置于200mV。 冷探针连接电压表的正电极，热探针与电压表的负极相连。
等离子体刻蚀工艺原理
等离子体刻蚀机是基于真空中的高频激励而产生的辉光 等离子体刻蚀机是基于真空中的高频激励而产生的辉光 真空中的高频激励而产生的 放电将四氟化碳中的氟离子电离出来从而获得化学活性 放电将四氟化碳中的氟离子电离出来从而获得化学活性 微粒与被刻蚀材料起化学反应产生辉发性物质进行刻蚀 的。同时为了保证氟离子的浓度和刻蚀速度必须加入一 氧气生成二氧化碳 定比例的氧气生成二氧化碳。 定比例的氧气生成二氧化碳。 这种腐蚀方法也叫做干蚀法 干蚀法。 这种腐蚀方法也叫做干蚀法。 生产过程中， 中掺入O2，这样有利于提高Si和 生产过程中，在CF4中掺入 ，这样有利于提高 和 中掺入 SiO2的刻蚀速率。 的刻蚀速率。 的刻蚀速率