磷酸盐镀铜的特点与应用

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焦磷酸盐镀铜液是以焦磷酸钾为主要成分的碱性镀铜液,在pH=9~10时,主要形成[Cu(P207)2]6—的配离子。

焦磷酸盐镀铜液的主要优点是镀液无毒,稳定、均一性好;镀层结晶细致,柔性好,光亮、整平;电流效率高;镀液为弱碱性,不会腐蚀活泼的基体金属和生产设备。

其缺点是允许的电流密度上限较小,沉积速率较慢,不能直接用于钢铁件的电镀设备厂电镀,钢铁件需要预镀,配槽成本较葦高。

但在印制电板穿孔金属化、导波、锌压铸品上三已获得广泛应用。

焦磷酸盐镀铜不仅适于单面板的穿孔金属化,i而且适于多层板的多孔金属化,这是因为在高厚度与孔径比(8:1)时,仍能获得满意的铜层。

在普通焦磷酸盐镊镀铜液中加人适当的光亮剂,也可获得光亮且整平的镀层,允许用较高的电流密度,沉积速率也较快,近年来在日本、欧洲、美国等国获得1,一用。

焦磷酸盐镀铜液使用的光亮剂主要是含巯基的杂环化合物(氮杂环或硫氮杂环)做为主光亮剂,用二氧化硒或亚硒酸做辅助光亮剂。

实验结果证明2—巯基苯并咪唑(MB防老化剂)比2—巯基苯并噻唑(M促进剂)更稳定,它不仅能使镀层光亮,而且有相
当的整平作用。

可提高作业电流密度。

这可以单独使用,也可与2—巯基苯并噻唑(0.0011-0. 005g/L)并用。

亚硒酸盐或二氧化硒是各类配合物镀液的有效光亮剂。

它不仅可提高镀层的光亮度,还可以降低巯基化合物的内应力,因此两者的配合使用可以获得很好的效果。

P比就是焦磷酸根(P20-)与铜的比值。

这在工艺控制上是个很重要的概念。

P比可通过分析镀液中的P20-和Cu2+的含量来计算。

也可以通过配方中的焦磷酸铜和磷酸钾的含量来计算。

更多电镀设备,详见。

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