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材料分析测试技术习题及答案
第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是()A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;D.其它2. M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称()A.Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。
3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选()A.Cu;B. Fe;C. Ni;D. Mo。
4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称()A.短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生()(多选题)A.光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1. 随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。
()2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。
()3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。
()4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。
()5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。
()三、填空题1. 当X 射线管电压超过临界电压就可以产生 X 射线和 X 射线。
2. X 射线与物质相互作用可以产生 、 、 、 、 、 、 、 。
3. 经过厚度为H 的物质后,X 射线的强度为 。
4. X 射线的本质既是 也是 ,具有 性。
5. 短波长的X 射线称 ,常用于 ;长波长的X 射线称 ,常用于 。
习题1. X 射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?2. 分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么? (1)用CuK αX 射线激发CuK α荧光辐射; (2)用CuK βX 射线激发CuK α荧光辐射; (3)用CuK αX 射线激发CuL α荧光辐射。
3. 什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”、“发射谱”、“吸收谱”?4. X 射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?用哪些物理量描述它?5. 产生X 射线需具备什么条件?6. Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中?7. 计算当管电压为50 kv 时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。
材料科学:材料分析测试技术考试卷及答案(最新版).doc
材料科学:材料分析测试技术考试卷及答案(最新版) 考试时间:120分钟 考试总分:100分遵守考场纪律,维护知识尊严,杜绝违纪行为,确保考试结果公正。
1、问答题 简述X 射线产生的基本条件。
本题答案: 2、问答题 测角仪在采集衍射图时,如果试样表面转到与入射线成300角,则计数管与入射线所成角度为多少?能产生衍射的晶面,与试样的自由表面是何种几何关系? 本题答案: 3、单项选择题 洛伦兹因子中,第二几何因子反映的是( )A 、晶粒大小对衍射强度的影响 B 、参加衍射晶粒数目对衍射强度的影响 C 、衍射线位置对衍射强度的影响 D 、试样形状对衍射强度的影响 本题答案: 4、问答题 你如何用学过的光谱来分析确定乙炔是否已经聚合成了聚乙炔? 本题答案: 5、问答题 说明多晶、单晶及厚单晶衍射花样的特征及形成原理。
姓名:________________ 班级:________________ 学号:________________ --------------------密----------------------------------封 ----------------------------------------------线----------------------本题答案:6、问答题什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”?本题答案:7、问答题你如何用学过的光谱来分析确定乙炔是否已经聚合成为聚乙炔?本题答案:8、问答题球差、像散和色差是怎样造成的?如何减小这些像差?哪些是可消除的像差?本题答案:9、问答题假定需要衍射分析的区域属于未知相,但根据样品的条件可以分析其为可能的几种结构之一,试根据你的理解给出衍射图标定的一般步骤。
本题答案:10、问答题试述X射线衍射单物相定性基本原理及其分析步骤?本题答案:11、单项选择题由于电磁透镜中心区域和边缘区域对电子折射能力不同而造成的像差称为()A、球差B、像散C、色差D、背散本题答案:12、问答题试总结德拜法衍射花样的背底来源,并提出一些防止和减少背底的措施。
材料分析测试技术试题及答案
材料分析测试技术试题及答案材料分析测试技术试题及答案(一)1、施工时所用的混凝土空心砌块的产品龄期不应小于( D)。
A、14dB、7dC、35dD、28d2、高强度大六角头螺栓连接副和扭剪型高强度螺栓连接副出厂时应分别随箱带有( C )和紧固轴力(预拉力)的检验报告。
A、抗拉强度B、抗剪强度C、扭矩系数D、承载力量3、勘察、设计、施工、监理等单位应将本单位形成的工程文件立卷后向( A )移交。
A、建立单位B、施工单位C、监理单位D、设计单位4、城建档案治理机构应对工程文件的立卷归档工作进展监视、检查、指导。
在工程竣工验收前,应对工程档案进展( C ),验收合格后,须出具工程档案认可文件。
A、检查B、验收C、预验收D、指导5、既有文字材料又有图纸的案卷( A )。
A、文字材料排前,图纸排后B、图纸排前,文字材料排后C、文字材料、图纸按时间挨次排列D、文字材料,图纸材料交叉排列6、建筑与构造工程包括那几个分部( B )。
A、地基与根底、主体、装饰装修、屋面、节能分部B、地基与根底、主体、装饰装修、屋面分部C、地基与根底、主体、装饰装修分部D、地基与根底、主体分部7、在原材料肯定的状况下,打算混凝土强度的最主要因素是( B )。
A、水泥用量B、水灰比C、水含量D、砂率8、数据加密技术从技术上的实现分为在( A )两方面。
A、软件和硬件B、软盘和硬盘C、数据和数字D、技术和治理9、混凝土同条件试件养护:构造部位由监理和施工各方共同选定,同一强度等级不宜少于10组,且不应少于( A )组。
A、3B、10C、14D、2010、不属于统计分析特点的是( D )。
A、数据性B、目的性C、时效性D、准时性11、施工资料治理应建立岗位责任制,进展( C )。
A、全面治理B、全方位掌握C、过程掌握D、全范围掌握12、目前工程文件、资料用得最多的载体形式有( A )。
A、纸质载体B、磁性载体C、光盘载体D、缩微品载体13、施工资料应当根据先后挨次分类,对同一类型的资料应根据其( A )进展排序。
材料分析测试技术习题及答案
第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是()A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;D.其它2. M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称()A.Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。
3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选()A.C u;B. Fe;C. Ni;D. Mo。
4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称()A.短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生()(多选题)A.光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1. 随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。
()2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。
()3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。
()4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。
()5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。
()三、填空题1. 当X射线管电压超过临界电压就可以产生X射线和X射线。
2. X射线与物质相互作用可以产生、、、、、、、。
3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。
4. X射线的本质既是也是,具有性。
5. 短波长的X射线称,常用于;长波长的X射线称,常用于。
习题1.X射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?2.分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?(1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射;(2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。
3.什么叫"相干散射”、"非相干散射”、"荧光辐射”、"吸收限”、"俄歇效应”、"发射谱”、"吸收谱”?4.X射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?用哪些物理量描述它?5.产生X射线需具备什么条件?6.Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中?7.计算当管电压为50 kv时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。
《材料分析测试技术》课程试卷答案(可打印修改)
、、选择题:(8分/每题1分)1. .当X 射线将某物质原子的K 层电子打出去后,L 层电子回迁K 层,多余能量将另一个L 层电子打出核外,这整个过程将产生(D )。
A. 光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C )2. 有一体心立方晶体的晶格常数是0.286nm ,用铁靶K α(λK α=0.194nm )照射该晶体能产生( B )衍射线。
A. 三条; B .四条; C. 五条;D. 六条。
3. .最常用的X 射线衍射方法是( B )。
A. 劳厄法;B. 粉末多晶法;C. 周转晶体法;D. 德拜法。
4. .测定钢中的奥氏体含量,若采用定量X 射线物相分析,常用方法是(C )。
A. 外标法;B. 内标法;C. 直接比较法;D. K 值法。
5. 可以提高TEM 的衬度的光栏是( B )。
A. 第二聚光镜光栏;B. 物镜光栏;C. 选区光栏;D. 其它光栏。
6. 如果单晶体衍射花样是正六边形,那么晶体结构是( D )。
A. 六方结构;B. 立方结构;C. 四方结构;D. A 或B 。
7. .将某一衍射斑点移到荧光屏中心并用物镜光栏套住该衍射斑点成像,这是( C )。
A. 明场像;B. 暗场像;C. 中心暗场像;D.弱束暗场像。
8. 仅仅反映固体样品表面形貌信息的物理信号是(B )。
A. 背散射电子;B. 二次电子;C. 吸收电子;D.透射电子。
、、判断题:(8分/每题1分)1.产生特征X 射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。
( √)2.倒易矢量能唯一地代表对应的正空间晶面。
( √ )3.大直径德拜相机可以提高衍射线接受分辨率,缩短暴光时间。
( × )4.X 射线物相定性分析可以告诉我们被测材料中有哪些物相,而定量分析可以告诉我们这些物相的含量有什么成分。
( × )5.有效放大倍数与仪器可以达到的放大倍数不同,前者取决于仪器分辨率和人眼分辨率,后者仅仅是仪器的制造水平。
材料分析测试技术-试卷及答案
制卷人签名:制卷日期:审核人签名:: 审核日期: ……………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………装……………………订……………………线…………………………………………………………………得二、名词解释(每题4,共20分) 分1.晶带轴[uvw]和零层倒易截面(uvw)*2.电磁透镜的景深与焦长3.明场像、暗场像和中心暗场像4.物质对X射线的线吸收系数和质量吸收系数5.荧光产额和俄歇产额得三、简答题(每题6分,共30分)分1.高能电子束与固体样品相互作用时将产生那些信号?简述其产生原理,并说明这些信号在材料的性能表征方面有何应用?2.电磁透镜的像差有哪几种,并简述其产生原因及克服方法。
3.分别说明透射电镜中成像操作与衍射操作时各级透镜(像平面与物平面)之间的相对位置关系,并画出光路图。
4.简述用X射线衍射仪对多相物质进行物相定性分析的基本程序。
2. 证明TEM 中的电子衍射基本公式)(hkl g L R L Rd G G λλ==。
3. 证明衍射分析中的厄瓦尔德球图解与布拉格方程等价。
制卷人签名:制卷日期:审核人签名:: 审核日期: ……………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………………装……………………订……………………线…………………………………………………………………参考答案:背散射电子:背散射电子是指被固体样品中的原子核反弹回来的一部分入射电子。
其中包括弹性背散射电子和非弹性背散射电子。
背散射电子的产生范围深,由于背散射电子的产额随原子序数的增加而增加,所以,利用背散射电子作为成像信号不仅能分析形貌特征,也可用来显示原子序数衬度,定性地进行成分分析。
(1分) 二次电子:二次电子是指被入射电子轰击出来的核外电子。
材料分析测试技术习题及答案
第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是()A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;D.其它2. M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称()A.Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。
3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选()A.C u;B. Fe;C. Ni;D. Mo。
4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称()A.短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生()(多选题)A.光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1. 随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。
()2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。
()3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。
()4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。
()5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。
()三、填空题1. 当X射线管电压超过临界电压就可以产生X射线和X射线。
2. X射线与物质相互作用可以产生、、、、、、、。
3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。
4. X射线的本质既是也是,具有性。
5. 短波长的X射线称,常用于;长波长的X射线称,常用于。
习题1.X射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?2.分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?(1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射;(2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。
3.什么叫"相干散射”、"非相干散射”、"荧光辐射”、"吸收限”、"俄歇效应”、"发射谱”、"吸收谱”?4.X射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?用哪些物理量描述它?5.产生X射线需具备什么条件?6.Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中?7.计算当管电压为50 kv时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。
材料分析测试技术习题及答案
第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是()A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;D.其它2. M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称()A.Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。
3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选()A.Cu;B. Fe;C. Ni;D. Mo。
4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称()A.短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生()(多选题)A.光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1. 随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。
()2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。
()3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。
()4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。
()5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。
()三、填空题1. 当X射线管电压超过临界电压就可以产生X射线和X射线。
2. X射线与物质相互作用可以产生、、、、、、、。
3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。
4. X射线的本质既是也是,具有性。
5. 短波长的X射线称,常用于;长波长的X射线称,常用于。
习题1.X射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?2.分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?(1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射;(2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。
3.什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”、“发射谱”、“吸收谱”?4.X射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?用哪些物理量描述它?5.产生X射线需具备什么条件?6.Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中?7.计算当管电压为50 kv时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。
(完整版)材料分析测试技术部分课后答案
材料分析测试技术部分课后答案太原理工大学材料物理0901 除夕月1-1 计算0.071nm(MoKα)和0.154nm(CuKα)的X-射线的振动频率和能量。
ν=c/λ=3*108/(0.071*10-9)=4.23*1018S-1E=hν=6.63*10-34*4.23*1018=2.8*10-15 Jν=c/λ=3*108/(0. 154*10-9)=1.95*1018S-1E=hν=6.63*10-34*2.8*1018=1.29*10-15 J1-2 计算当管电压为50kV时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能.E=eV=1.602*10-19*50*103=8.01*10-15 Jλ=1.24/50=0.0248 nm E=8.01*10-15 J(全部转化为光子的能量)V=(2eV/m)1/2=(2*8.01*10-15/9.1*10-31)1/2=1.32*108m/s1-3分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?(1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射;(2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。
答:根据经典原子模型,原子内的电子分布在一系列量子化的壳层上,在稳定状态下,每个壳层有一定数量的电子,他们有一定的能量。
最内层能量最低,向外能量依次增加。
根据能量关系,M、K层之间的能量差大于L、K成之间的能量差,K、L层之间的能量差大于M、L层能量差。
由于释放的特征谱线的能量等于壳层间的能量差,所以Kß的能量大于Ka 的能量,Ka能量大于La的能量。
因此在不考虑能量损失的情况下:CuKa能激发CuKa荧光辐射;(能量相同)CuKß能激发CuKa荧光辐射;(Kß>Ka)CuKa能激发CuLa荧光辐射;(Ka>la)1-4 以铅为吸收体,利用MoKα、RhKα、AgKαX射线画图,用图解法证明式(1-16)的正确性。
《材料分析测试技术》课程试卷答案
一、选择题:(8分/每题1分)1. .当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生(D)。
A. 光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)2. 有一体心立方晶体的晶格常数是0.286nm,用铁靶Kα(λKα=0.194nm)照射该晶体能产生(B)衍射线。
A. 三条;B .四条;C. 五条;D. 六条。
3. .最常用的X射线衍射方法是(B)。
A. 劳厄法;B. 粉末多晶法;C. 周转晶体法;D. 德拜法。
4. .测定钢中的奥氏体含量,若采用定量X射线物相分析,常用方法是(C )。
A. 外标法;B. 内标法;C. 直接比较法;D. K值法。
5. 可以提高TEM的衬度的光栏是(B )。
A. 第二聚光镜光栏;B. 物镜光栏;C. 选区光栏;D. 其它光栏。
6. 如果单晶体衍射花样是正六边形,那么晶体结构是(D)。
A. 六方结构;B. 立方结构;C. 四方结构;D. A或B。
7. .将某一衍射斑点移到荧光屏中心并用物镜光栏套住该衍射斑点成像,这是(C)。
A. 明场像;B. 暗场像;C. 中心暗场像;D.弱束暗场像。
8. 仅仅反映固体样品表面形貌信息的物理信号是(B)。
A. 背散射电子;B. 二次电子;C. 吸收电子;D.透射电子。
一、判断题:(8分/每题1分)1.产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。
(√)2.倒易矢量能唯一地代表对应的正空间晶面。
(√)3.大直径德拜相机可以提高衍射线接受分辨率,缩短暴光时间。
(×)4.X射线物相定性分析可以告诉我们被测材料中有哪些物相,而定量分析可以告诉我们这些物相的含量有什么成分。
(×)5.有效放大倍数与仪器可以达到的放大倍数不同,前者取决于仪器分辨率和人眼分辨率,后者仅仅是仪器的制造水平。
(√)6.电子衍射和X射线衍射一样必须严格符合布拉格方程。
《材料分析测试技术》课程试卷答案
一、二、三、选择题:( 分 每题 分)当 射线将某物质原子的 层电子打出去后, 层电子回迁 层,多余能量将另一个 层电子打出核外,这整个过程将产生( )。
光电子; 二次荧光; 俄歇电子; ( )有一体心立方晶体的晶格常数是 ,用铁靶 α(λ α )照射该晶体能产生( )衍射线。
三条; 四条; 五条; 六条。
最常用的 射线衍射方法是( )。
劳厄法; 粉末多晶法; 周转晶体法; 德拜法。
测定钢中的奥氏体含量,若采用定量 射线物相分析,常用方法是( )。
外标法; 内标法; 直接比较法; 值法。
可以提高 的衬度的光栏是( )。
第二聚光镜光栏; 物镜光栏; 选区光栏; 其它光栏。
如果单晶体衍射花样是正六边形,那么晶体结构是( )。
六方结构; 立方结构; 四方结构; 或 。
将某一衍射斑点移到荧光屏中心并用物镜光栏套住该衍射斑点成像,这是( )。
明场像; 暗场像; 中心暗场像; 弱束暗场像。
仅仅反映固体样品表面形貌信息的物理信号是( )。
背散射电子; 二次电子; 吸收电子; 透射电子。
一、判断题:( 分 每题 分)产生特征 射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。
( √)倒易矢量能唯一地代表对应的正空间晶面。
( √ )大直径德拜相机可以提高衍射线接受分辨率,缩短暴光时间。
( × )射线物相定性分析可以告诉我们被测材料中有哪些物相,而定量分析可以告诉我们这些物相的含量有什么成分。
( × )有效放大倍数与仪器可以达到的放大倍数不同,前者取决于仪器分辨率和人眼分辨率,后者仅仅是仪器的制造水平。
( √ )电子衍射和 射线衍射一样必须严格符合布拉格方程。
( × )实际电镜样品的厚度很小时,能近似满足衍衬运动学理论的条件 这时运动学理论能很好地解释衬度像。
(√ )扫描电子显微镜的衬度和透射电镜一样取决于质厚衬度和衍射衬度。
( × )二、填空题:( 分 每 空 分)电子衍射产生的复杂衍射花样是高阶劳厄斑、超结构斑点、二次衍射、孪晶斑点和菊池花样。
材料分析测试技术习题及答案
第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是()A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;D.其它2. M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称()A.Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。
3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选()A.C u;B. Fe;C. Ni;D. Mo。
4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称()A.短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生()(多选题)A.光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1. 随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。
()2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。
()3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。
()4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。
()5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。
()三、填空题1. 当X射线管电压超过临界电压就可以产生X射线和X射线。
2. X射线与物质相互作用可以产生、、、、、、、。
3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。
4. X射线的本质既是也是,具有性。
5. 短波长的X射线称,常用于;长波长的X射线称,常用于。
习题1.X射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?2.分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?(1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射;(2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。
3.什么叫"相干散射”、"非相干散射”、"荧光辐射”、"吸收限”、"俄歇效应”、"发射谱”、"吸收谱”?4.X射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?用哪些物理量描述它?5.产生X射线需具备什么条件?6.Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中?7.计算当管电压为50 kv时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。
材料分析测试技术_部分课后答案
材料分析测试技术_部分课后答案衍射仪9-1、电⼦波有何特征?与可见光有何异同?答:·电⼦波特征:电⼦波属于物质波。
电⼦波的波长取决于电⼦运动的速度和质量,=h若mv电⼦速度较低,则它的质量和静⽌质量相似;若电⼦速度具有极⾼,则必须经过相对论校正。
·电⼦波和光波异同:不同:不能通过玻璃透镜会聚成像。
但是轴对称的⾮均匀电场和磁场则可以让电⼦束折射,从⽽产⽣电⼦束的会聚与发散,达到成像的⽬的。
电⼦波的波长较短,其波长取决于电⼦运动的速度和质量,电⼦波的波长要⽐可见光⼩5个数量级。
另外,可见光为电磁波。
相同:电⼦波与可见光都具有波粒⼆象性。
9-2、分析电磁透镜对电⼦波的聚焦原理,说明电磁透镜的结构对聚焦能⼒的影响。
聚焦原理:电⼦在磁场中运动,当电⼦运动⽅向与磁感应强度⽅向不平⾏时,将产⽣⼀个与运动⽅向垂直的⼒(洛仑兹⼒)使电⼦运动⽅向发⽣偏转。
在⼀个电磁线圈中,当电⼦沿线圈轴线运动时,电⼦运动⽅向与磁感应强度⽅向⼀致,电⼦不受⼒,以直线运动通过线圈;当电⼦运动偏离轴线时,电⼦受磁场⼒的作⽤,运动⽅向发⽣偏转,最后会聚在轴线上的⼀点。
电⼦运动的轨迹是⼀个圆锥螺旋曲线。
右图短线圈磁场中的电⼦运动显⽰了电磁透镜聚焦成像的基本原理:结构的影响:1)增加极靴后的磁线圈内的磁场强度可以有效地集中在狭缝周围⼏毫⽶的范围内;2)电磁透镜中为了增强磁感应强度,通常将线圈置于⼀个由软磁材料(纯铁或低碳钢)制成的具有内环形间隙的壳⼦⾥,此时线圈的磁⼒线都集中在壳内,磁感应强度得以加强。
狭缝的间隙越⼩,磁场强度越强,对电⼦的折射能⼒越⼤。
3)改变激磁电流可以⽅便地改变电磁透镜的焦距9--3、电磁透镜的像差是怎样产⽣的,如何消除和减少像差?像差有⼏何像差(球差、像散等)和⾊差球差是由于电磁透镜的中⼼区域和边沿区域对电⼦的会聚能⼒不同⽽造成的;为了减少由于球差的存在⽽引起的散焦斑,可以通过减⼩球差系数和缩⼩成像时的孔径半⾓来实现像散是由透镜磁场的⾮旋转对称⽽引起的;透镜磁场不对称,可能是由于极靴内孔不圆、上下极靴的轴线错位、制作极靴的材料材质不均匀以及极靴孔周围局部污染等原因导致的。
材料分析测试技术习题及答案
第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是()A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;D.其它2. M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称()A.Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。
3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选()A.Cu;B. Fe;C. Ni;D. Mo。
4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称()A.短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生()(多选题)A.光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1. 随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。
()2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。
()3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。
()4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。
()5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。
()三、填空题1. 当X 射线管电压超过临界电压就可以产生 X 射线和 X 射线。
2. X 射线与物质相互作用可以产生 、 、 、 、 、 、 、 。
3. 经过厚度为H 的物质后,X 射线的强度为 。
4. X 射线的本质既是 也是 ,具有 性。
5. 短波长的X 射线称 ,常用于 ;长波长的X 射线称 ,常用于 。
习题1. X 射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?2. 分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么? (1)用CuK αX 射线激发CuK α荧光辐射; (2)用CuK βX 射线激发CuK α荧光辐射; (3)用CuK αX 射线激发CuL α荧光辐射。
3. 什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”、“发射谱”、“吸收谱”?4. X 射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?用哪些物理量描述它?5. 产生X 射线需具备什么条件?6. Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中?7. 计算当管电压为50 kv 时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。
材料分析测试技术_部分课后答案
9-1、电子波有何特征?与可见光有何异同?答:电子波特征:电子波属于物质波。
电子波的波长取决于电子运动的速度和质量,=h mvλ若电子速度较低,则它的质量和静止质量相似;若电子速度具有极高,则必须经过相对论校正。
·电子波和光波异同:不同:不能通过玻璃透镜会聚成像。
但是轴对称的非均匀电场和磁场则可以让电子束折射,从而产生电子束的会聚与发散,达到成像的目的。
电子波的波长较短,其波长取决于电子运动的速度和质量,电子波的波长要比可见光小5个数量级。
另外,可见光为电磁波。
相同:电子波与可见光都具有波粒二象性。
9-2、分析电磁透镜对电子波的聚焦原理,说明电磁透镜的结构对聚焦能力的影响。
聚焦原理:电子在磁场中运动,当电子运动方向与磁感应强度方向不平行时,将产生一个与运动方向垂直的力(洛仑兹力)使电子运动方向发生偏转。
在一个电磁线圈中,当电子沿线圈轴线运动时,电子运动方向与磁感应强度方向一致,电子不受力,以直线运动通过线圈;当电子运动偏离轴线时,电子受磁场力的作用,运动方向发生偏转,最后会聚在轴线上的一点。
电子运动的轨迹是一个圆锥螺旋曲线。
右图短线圈磁场中的电子运动显示了电磁透镜聚焦成像的基本原理:结构的影响:1)增加极靴后的磁线圈内的磁场强度可以有效地集中在狭缝周围几毫米的范围内;2)电磁透镜中为了增强磁感应强度,通常将线圈置于一个由软磁材料(纯铁或低碳钢)制成的具有内环形间隙的壳子里,此时线圈的磁力线都集中在壳内,磁感应强度得以加强。
狭缝的间隙越小,磁场强度越强,对电子的折射能力越大。
3)改变激磁电流可以方便地改变电磁透镜的焦距9--3、电磁透镜的像差是怎样产生的,如何消除和减少像差?像差有几何像差(球差、像散等)和色差球差是由于电磁透镜的中心区域和边沿区域对电子的会聚能力不同而造成的;为了减少由于球差的存在而引起的散焦斑,可以通过减小球差系数和缩小成像时的孔径半角来实现像散是由透镜磁场的非旋转对称而引起的;透镜磁场不对称,可能是由于极靴内孔不圆、上下极靴的轴线错位、制作极靴的材料材质不均匀以及极靴孔周围局部污染等原因导致的。
《材料分析测试技术》试卷(答案)
《材料分析测试技术》试卷(答案)一、填空题:(20分,每空一分)1. X射线管主要由阳极、阴极、和窗口构成。
2. X射线透过物质时产生的物理效应有:散射、光电效应、透射X射线、和热。
3. 德拜照相法中的底片安装方法有:正装、反装和偏装三种。
4. X射线物相分析方法分:定性分析和定量分析两种;测钢中残余奥氏体的直接比较法就属于其中的定量分析方法。
5. 透射电子显微镜的分辨率主要受衍射效应和像差两因素影响。
6. 今天复型技术主要应用于萃取复型来揭取第二相微小颗粒进行分析。
7. 电子探针包括波谱仪和能谱仪成分分析仪器。
8. 扫描电子显微镜常用的信号是二次电子和背散射电子。
二、选择题:(8分,每题一分)1. X射线衍射方法中最常用的方法是( b )。
a.劳厄法;b.粉末多晶法;c.周转晶体法。
2. 已知X光管是铜靶,应选择的滤波片材料是(b)。
a.Co ;b. Ni ;c. Fe。
3. X射线物相定性分析方法中有三种索引,如果已知物质名时可以采用(c )。
a.哈氏无机数值索引;b. 芬克无机数值索引;c. 戴维无机字母索引。
4. 能提高透射电镜成像衬度的可动光阑是(b)。
a.第二聚光镜光阑;b. 物镜光阑;c. 选区光阑。
5. 透射电子显微镜中可以消除的像差是( b )。
a.球差;b. 像散;c. 色差。
6. 可以帮助我们估计样品厚度的复杂衍射花样是(a)。
a.高阶劳厄斑点;b. 超结构斑点;c. 二次衍射斑点。
7. 电子束与固体样品相互作用产生的物理信号中可用于分析1nm厚表层成分的信号是(b)。
a.背散射电子;b.俄歇电子;c. 特征X射线。
8. 中心暗场像的成像操作方法是(c)。
a.以物镜光栏套住透射斑;b.以物镜光栏套住衍射斑;c.将衍射斑移至中心并以物镜光栏套住透射斑。
三、问答题:(24分,每题8分)1.X射线衍射仪法中对粉末多晶样品的要求是什么?答:X射线衍射仪法中样品是块状粉末样品,首先要求粉末粒度要大小适中,在1um-5um之间;其次粉末不能有应力和织构;最后是样品有一个最佳厚度(t =2.分析型透射电子显微镜的主要组成部分是哪些?它有哪些功能?在材料科学中有什么应用?答:透射电子显微镜的主要组成部分是:照明系统,成像系统和观察记录系统。
材料分析测试技术习题及答案
材料分析测试技术习题及答案第⼀章⼀、选择题1.⽤来进⾏晶体结构分析的X射线学分⽀是()A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;D.其它2. M层电⼦回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称()A.Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。
3. 当X射线发⽣装置是Cu靶,滤波⽚应选()A.Cu;B. Fe;C. Ni;D. Mo。
4. 当电⼦把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称()A.短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原⼦的K层电⼦打出去后,L层电⼦回迁K层,多余能量将另⼀个L层电⼦打出核外,这整个过程将产⽣()(多选题)A.光电⼦;B. ⼆次荧光;C. 俄歇电⼦;D. (A+C)⼆、正误题1. 随X射线管的电压升⾼,λ0和λk都随之减⼩。
()2. 激发限与吸收限是⼀回事,只是从不同⾓度看问题。
()3. 经滤波后的X射线是相对的单⾊光。
()4. 产⽣特征X射线的前提是原⼦内层电⼦被打出核外,原⼦处于激发状态。
()5. 选择滤波⽚只要根据吸收曲线选择材料,⽽不需要考虑厚度。
()三、填空题1. 当X 射线管电压超过临界电压就可以产⽣ X 射线和 X 射线。
2. X 射线与物质相互作⽤可以产⽣、、、、、、、。
3. 经过厚度为H 的物质后,X 射线的强度为。
4. X 射线的本质既是也是,具有性。
5. 短波长的X 射线称,常⽤于;长波长的X 射线称,常⽤于。
习题1. X 射线学有⼏个分⽀?每个分⽀的研究对象是什么?2. 分析下列荧光辐射产⽣的可能性,为什么?(1)⽤CuK αX 射线激发CuK α荧光辐射;(2)⽤CuK βX 射线激发CuK α荧光辐射;(3)⽤CuK αX 射线激发CuL α荧光辐射。
3. 什么叫“相⼲散射”、“⾮相⼲散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”、“发射谱”、“吸收谱”?4. X 射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?⽤哪些物理量描述它?5. 产⽣X 射线需具备什么条件?6. Ⅹ射线具有波粒⼆象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中?7. 计算当管电压为50 kv 时,电⼦在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光⼦的最⼤动能。
材料分析测试技术A答案(14-15)
西南科技大学2014——2015学年第1学期《 材料测试分析技术 》期末考试试卷(A 卷)一、 基本概念题:(50分,每题5分)1.谢乐公式中的各参数分别表示什么? 该公式用于晶粒大小测定时应注意哪些问题?答:谢乐公式:其中:DHKL 为沿HKL 晶面方向的晶粒大小;K 为形状因子,与晶粒的形状有关;λ为入射x 射线的波长;β为衍射峰的半峰宽;θ为衍射半角(或布拉格角)。
(4分)注意的问题:(1)只适用于纳米晶即100nm 以下的晶粒,最好为1-10nm ;(2)测试时应扣除仪器宽化和应力宽化造成的影响。
(1分)2.什么是电磁透镜的像差?有几种?各自产生的原因是什么?是否可以消除?答:像差分为球差,像散,色差. (2分)球差是磁透镜中心区和边沿区对电子的折射能力不同引起的.增大透镜的激磁电流可减小球差,但不能消除(1分)像散是由于电磁透镜的周向磁场不非旋转对称引起的.可以通过引入一强度和方位都可以调节的矫正磁场来进行补偿消除色散 (1分)色差是电子波的波长或能量发生一定幅度的改变而造成的. 稳定加速电压和透镜电流可减小色差. (1分)θβλcos K HKL D =西南科技大学2010——2011学年第1 学期《材料测试分析技术》期末考试试卷(A卷)3.二次电子像景深很大,样品凹坑底部都能清楚地显示出来,从而使图像的立体感很强,其原因何在?答:二次电子像立体感很强这是因为1)凸出的尖棱,小粒子以及比较陡的斜面处SE产额较多,在荧光屏上这部分的亮度较大。
(1分)2)平面上的SE产额较小,亮度较低。
(1分)3)在深的凹槽底部尽管能产生较多二次电子,使其不易被控制到,因此相应衬度也较暗。
(1分)(2分)4.什么是差热分析?差热分析对样品和参比物有什么要求?答:差热分析是在程序控制温度下测定物质和参比物之间的温度差和温度关系的一种技术。
(2分)试样粒度在200目左右,装填薄而均匀,参比物在整个测温范西南科技大学2010——2011学年第1 学期《材料测试分析技术》期末考试试卷(A卷)围无热反应,比热与导热性与试样相近,粒度与试样相近(100-300目筛)。
材料分析技术试题及答案(最终)
长春理工大学试题纸〔 A卷〕编号2005 - ----- 2 0200606学学年年第二学期审核责任人签字科目材料科学研究方法参考班级0306111、0306112题号一二三四五六七八九十总分命题教师印数得分卢利平78评阅人得分一、填空题〔〔每空 1 分共20分〕〕1. .XRD、SEM、TEM、EPMA、DT分A 别代表、、、和阐发方法。
2. X 射线管中,焦点形状可分为和,适合于衍射仪工作的是和。
3. 电磁透镜的像差有4. 电子探针是一种5. 红外光谱图的横坐标是6. 外表阐发方法有四种方法。
、、阐发和阐发相结合的微区阐发。
、纵坐标是。
、、和得分二、名词解释〔每题 4 分共20 分〕1. 标识X射线和荧光X 射线:2. 布拉格角和衍射角3. 背散射电子和透射电子4. 差热阐发法和示差扫描量热法卷〕5. 红外吸收光谱和激光拉曼光谱得分三、问答题〔〔共40 分〕1. X 射线衍射的几何条件是d、θ、λ必需满足什么公式?写出数学表达式,并说明d、θ、λ的意义。
〔 5 分〕2. 在X 射线衍射图中,确定衍射峰位的方法有哪几种?各适用于什么情况?分7〕〔2 分〕3. 为什么说 d 值的数据比相对强度的数据更重要?〔4. 二次电子是怎样发生的?其主要特点有哪些?二次电子像主要反映试样的什么特征?用什么衬度解释?该衬度的形成主要取决于什么因素?〔 6 分〕卷〕5. 透射电镜阐发的特点?透射电镜可用于对无机非金属材料进行哪些阐发?用透射电镜不雅察形貌时,怎样制备试样?〔7 分〕4 分〕6. 影响差热阐发的因素有哪些?并说明这些因素的影响怎样?〔哪7. 红外光的波长λ是多少?近红外、中红外、远红外的波长λ又是多少?红外光谱阐发常用哪个波段?红外光谱阐发主要用于哪几方面、些领域的研究和阐发?〔 5 分〕8. 外表阐发可以得到哪些信息?〔 4 分〕卷〕 2005——2006 学年第二学期0306111、0306112材料科学研究方法 [答案]一、 填空题〔〔每空 1 分 共 20 分〕〕1. .XRD 、SEM 、TEM 、EPMA 、DT 分A 别代表 透射电子显微阐发 电子探针阐发点焦点 X 射线衍射阐发 、 扫描电子显微阐发 、、和 差热阐发 阐发方法。
材料分析测试技术习题及答案
第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是()A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;D.其它2. M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称()A.Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。
3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选()A.C u;B. Fe;C. Ni;D. Mo。
4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称()A.短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生()(多选题)A.光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1. 随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。
()2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。
()3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。
()4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。
()5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。
()三、填空题1. 当X射线管电压超过临界电压就可以产生X射线和X射线。
2. X射线与物质相互作用可以产生、、、、、、、。
3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。
4. X射线的本质既是也是,具有性。
5. 短波长的X射线称,常用于;长波长的X射线称,常用于。
习题1.X射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?2.分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?(1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射;(2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。
3.什么叫"相干散射”、"非相干散射”、"荧光辐射”、"吸收限”、"俄歇效应”、"发射谱”、"吸收谱”?4.X射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?用哪些物理量描述它?5.产生X射线需具备什么条件?6.Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中?7.计算当管电压为50 kv时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。
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一、选择题:(8 分/ 每题 1 分)1. .当 X 射线将某物质原子的K 层电子打出去后, L 层电子回迁K 层,多余能量将另一个L 层电子打出核外,这整个过程将产生( D )。
A.光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. ( A+C )2. 有一体心立方晶体的晶格常数是0.286nm,用铁靶 K (λK =0.194nm)照射该晶体能产生( B )衍射线。
ααA. 三条; B .四条; C. 五条; D. 六条。
3. .最常用的 X 射线衍射方法是( B )。
A. 劳厄法;B. 粉末多晶法;C. 周转晶体法;D. 德拜法。
4. .测定钢中的奥氏体含量,若采用定量X 射线物相分析,常用方法是( C )。
A. 外标法;B. 内标法;C. 直接比较法;D. K 值法。
5. 可以提高 TEM 的衬度的光栏是( B )。
A. 第二聚光镜光栏;B. 物镜光栏;C. 选区光栏;D. 其它光栏。
6. 如果单晶体衍射花样是正六边形,那么晶体结构是( D )。
A.六方结构;B. 立方结构;C. 四方结构;D. A 或 B。
7. .将某一衍射斑点移到荧光屏中心并用物镜光栏套住该衍射斑点成像,这是( C )。
A.明场像;B. 暗场像;C. 中心暗场像;D.弱束暗场像。
8. 仅仅反映固体样品表面形貌信息的物理信号是( B )。
A. 背散射电子;B. 二次电子;C. 吸收电子;D. 透射电子。
一、判断题:(8 分/ 每题 1 分)1. 产生特征X 射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。
(√)2.倒易矢量能唯一地代表对应的正空间晶面。
(√)3. 大直径德拜相机可以提高衍射线接受分辨率,缩短暴光时间。
(×)4. X 射线物相定性分析可以告诉我们被测材料中有哪些物相,而定量分析可以告诉我们这些物相的含量有什么成分。
(×)5. 有效放大倍数与仪器可以达到的放大倍数不同,前者取决于仪器分辨率和人眼分辨率,后者仅仅是仪器的制造水平。
(√)6. 电子衍射和 X 射线衍射一样必须严格符合布拉格方程。
(×)7. 实际电镜样品的厚度很小时,能近似满足衍衬运动学理论的条件,这时运动学理论能很好地解释衬度像。
(√ )8. 扫描电子显微镜的衬度和透射电镜一样取决于质厚衬度和衍射衬度。
(×)二、填空题:(14 分/ 每 2 空 1分)1.电子衍射产生的复杂衍射花样是高阶劳厄斑、超结构斑点、二次衍射、孪晶斑点和菊池花样。
2. 当 X 射线管电压低于临界电压仅可以产生连续谱 X 射线;当 X 射线管电压超过临界电压就可以产生连续谱 X 射线和特征谱 X 射线。
3.2结构振幅用 F 表示,结构因素用F表示,结构因素 =0 时没有衍射我们称结构消光或系统消光。
对于有序固溶体,原本消光的地方会出现弱衍射。
4.电磁透镜的像差包括球差、像散和色差。
5. 衍射仪的核心是测角仪圆,它由辐射源、试样台和探测器共同组成测角仪。
6. X 射线测定应力常用仪器有应力仪和衍射仪,常用方法有Sin2Ψ法和 0o-45o法。
7.运动学理论的两个基本假设是双束近似和柱体近似。
8.电子探针包括波谱仪和能谱仪两种仪器。
三、名词解释:( 10 分/ 每题 2 分)1.形状因子——由于晶体形状引起的衍射强度分布变化,又称干涉函数。
2.聚焦圆——试样对入射 X 射线产生衍射后能聚焦到探测器上,此时辐射源、试样和探测器三者位于同一个圆周上,这个圆称之聚焦圆。
3.景深与焦长——在成一幅清晰像的前提下,像平面不变,景物沿光轴前后移动的距离称“景深”;景物不动,像平面沿光轴前后移动的距离称“焦长”。
4. 应变场衬度——由于应变导致样品下表面衍射波振幅与强度改变,产生的衬度称应变场衬度;衬度范围对应应变场大小。
5. 背散射电子——入射电子被样品原子散射回来的部分;它包括弹性散射和非弹性散射部分;背散射电子的作用深度大,产额大小取决于样品原子种类和样品形状。
四、问答题:( 36 分 / 每题 9 分)1.X 射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?答: X 射线学有三个分支:X 射线透射学, X 射线衍射学, X 射线光谱学。
X 射线透射学研究X 射线透过物质后的强度衰减规律,由此可以研究探测物体内部形貌与缺陷;X 射线衍射学研究晶体对X 射线的衍射规律,由此可以通过 X 射线衍射研究晶体结构与进行物相分析等;X 射线光谱学研究特征X 射线与物质元素的关系,由此可以根据特征X 射线分析样品组成。
2. 图题为某样品德拜相(示意图),摄照时未经滤波。
巳知1、2 为同一晶面衍射线,3、4 为另一晶面衍射线.试对此现象作出解释.答:根据衍射图发现每个晶面都有两条衍射线,说明入射线存在两个波长。
由于没有采用滤波装置,那么很可能是 K α、 Kβ共同衍射的结果。
3.分别说明成像操作与衍射操作时各级透镜(像平面与物平面)之间的相对位置关系,并画出光路图。
答:成像操作时中间镜是以物镜的像作为物成像,然后由投影镜进一步放大投到荧光屏上,即中间镜的物平面与物镜的像平面重合;衍射操作是以物镜的背焦点作为物成像,然后由投影镜进一步放大投到荧光屏上,即中间镜的物平面与物镜的背焦面重合。
入图所示:4.电子束和固体样品作用时会产生哪些信号?它们各具有什么特点?答:①背散射电子。
背散射电于是指被固体样品中的原子核反弹回来的一部分入射电子。
其中包括弹性背散射电子和非弹性背散射电子。
背散射电子的产生范围深,由于背散射电子的产额随原子序数的增加而增加,所以,利用背散射电子作为成像信号不仅能分析形貌特征,也可用来显示原子序数衬度,定性地进行成分分析。
②二次电子。
二次电子是指被入射电子轰击出来的核外电子。
二次电子来自表面50-500 ? 的区域,能量为0-50 eV。
它对试样表面状态非常敏感,能有效地显示试样表面的微观形貌。
③吸收电子。
入射电子进入样品后,经多次非弹性散射,能量损失殆尽(假定样品有足够厚度,没有透射电子产生),最后被样品吸收。
若在样品和地之间接入一个高灵敏度的电流表,就可以测得样品对地的信号。
若把吸收电子信号作为调制图像的信号,则其衬度与二次电子像和背散射电子像的反差是互补的。
④透射电子。
如果样品厚度小于入射电子的有效穿透深度,那么就会有相当数量的入射电子能够穿过薄样品而成为透射电子。
样品下方检测到的透射电子信号中,除了有能量与入射电子相当的弹性散射电子外,还有各种不同能量损失的非弹性散射电子。
其中有些待征能量损失 E 的非弹性散射电子和分析区域的成分有关,因此,可以用特征能量损失电子配合电子能量分析器来进行微区成分分析。
⑤特征 X 射线。
特征X 射线是原子的内层电子受到激发以后,在能级跃迁过程中直接释放的具有特征能量和波长的一种电磁波辐射。
如果用X 射线探测器测到了样品微区中存在某一特征波长,就可以判定该微区中存在的相应元素。
⑥俄歇电子。
如果原子内层电子能级跃迁过程中释放出来的能量 E 不以 X 射线的形式释放,而是用该能量将核外另一电子打出,脱离原子变为二次电子,这种二次电子叫做俄歇电子。
俄歇电子是由试样表面极有限的几个原于层中发出的,这说明俄歇电子信号适用于表层化学成分分析。
五、综合题:( 24 分 / 每题 12 分)8、成像系统的主要构成及其特点是什么?解:成像系统组要是由物镜、中间镜和投影镜组成。
物镜是用来形成第一幅高分辨率电子显微镜图像或电子衍射花样。
1).物镜是采用强激磁、短焦距的透镜(f=1~3mm ),它的放大倍数较高,一般为100~300 倍。
2).中间镜是一个弱激磁的长焦距变倍透镜,可在0~20 倍范围调节。
当放大倍数大于 1 时,用来进一步放大物像;当放大倍数小于 1 时,用来缩小物镜像。
3).投影镜的作用是把中间镜放大(或缩小)的像(或电子衍射花样)进一步放大,并投影到荧光屏上,它和物镜一样,是一个短焦距的强激磁透镜。
投影镜的激磁电流是固定的,因为成像电子束进入投影镜时孔径角很小,因此它的景深和焦长都非常大。
9、分别说明成像操作和衍射操作时各级透镜(像平面和物平面)之间的相对位置关系,并画出光路图。
解:如果把中间镜的物平面和物镜的像平面重合,则在荧光屏上得到一幅放大像,这是成像操作。
如果把中间镜的物平面和物镜的背焦面重合,则在荧光屏上得到一幅电子衍射花样,这是电子衍射操作。
图在课本P14410、透射电镜中有哪些主要光阑,在什么位置?其作用如何?解:在透射电镜中主要有三种光阑:聚光镜光阑、物镜光阑、选区光阑。
聚光镜光阑装在第二聚光镜的下方,其作用是限制照明孔径角。
物镜光阑安放在物镜的后焦面上,其作用是使物镜孔径角减小,能减小像差,得到质量较高的显微图像;在后焦面上套取衍射束的斑点成暗场像。
选区光阑放在物镜的像平面位置,其作用时对样品进行微小区域分析,即选区衍射。
19. 电子束入射固体样品表面会激发哪些信号?它们有哪些特点和用途?答:电子束入射固体样品表面会激发出背散射电子,二次电子,吸收电子,透射电子,特征X 射线,俄歇电子六种。
( 1)背散射电子是固体样品中的原子核反弹回来的部分入射电子,它来自样品表层几百纳米的深度范围。
由于它的产额能随样品原子序数增大而增大,所以不仅能用做形貌分析,而且可以用来显示原子序数的衬度,定性地用做成分分析。
( 2)二次电子是在入射电子束作用下被轰击出来离开样品表面的核外电子。
它来自表层5~10nm 的深度范围内,它对样品表面形貌十分敏感,能用来非常有效的显示样品的表面形貌。
( 3)吸收电子是非散射电子经多次弹性散射之后被样品吸收的部分,它能产生原子序数衬度,同样也可以用来进行定性的微区成分分析。
(4)透射电子是入射电子穿过薄样品的部分,它的信号由微区的厚度,成分和晶体结构来决定。
可以利用特征能量损失电子配合电子能量分析器进行微区成分分析。
( 5)特征 X 射线由样品原子内层电子被入射电子激发或电离而成,可以用来判定微区存在的元素。
(6)俄歇电子是由内层电子能级跃迁所释放的能量将空位层的外层电子发射出去而产生的,平均自由程很小,只有 1nm 左右,可以用做表面层成分分析。
2、电磁透镜的像差是怎样产生的,如何来消除或减小像差?解:电磁透镜的像差可以分为两类:几何像差和色差。
几何像差是因为投射磁场几何形状上的缺陷造成的,色差是由于电子波的波长或能量发生一定幅度的改变而造成的。
几何像差主要指球差和像散。
球差是由于电磁透镜的中心区域和边缘区域对电子的折射能力不符合预定的规律造成的,像散是由透镜磁场的非旋转对称引起的。
消除或减小的方法:球差:减小孔径半角或缩小焦距均可减小球差,尤其小孔径半角可使球差明显减小。
像散:引入一个强度和方向都可以调节的矫正磁场即消像散器予以补偿。